「LFr」を含む例文一覧(3)
- To provide a polymer for a photoresist having high transmittance, etching resistance, thermal resistance, adhesiveness and low light absorbance, and high affinity for a developer in order to obtain a pattern improved of LFR (line edge roughness), and to provide a photoresist composition including the polymer, and a method for forming a pattern by using the composition.
ＬＥＲが改善されたパターンを得るため透過率、エッチング耐性、耐熱性、接着性及び低い光吸収度を有し、現像液に対する親和度の高いフォトレジスト用重合体を提供する。 - 特許庁 - When a stop state of the own-vehicle is detected, a distance LFR with a front obstacle is a prescribed distance L1 or below, a distance LRR with a rear obstacle is a second prescribed distance L2 or above, and an absolute value of a steering angle θSTR of a steering wheel is a prescribed steering angle θS or below, the own-vehicle is controlled to be receded at low speed.
自車両の停止状態が検出され、かつ前方障害物との距離ＬＦＲが第１所定距離Ｌ１以下で、かつ後方障害物との距離ＬＲＲが第２所定距離Ｌ２以上であり、かつステアリングホイールの操舵角θＳＴＲの絶対値が所定舵角θＳ以下であるときに、自車両を低速で後退させるように制御する。 - 特許庁 - The photoresist composition has high transmittance at wavelengths of 193 nm and 157 nm, etching resistance, thermal resistance, adhesiveness and low light absorbance, and high affinity to a developer, thereby can improve the LFR.
本発明はフォトレジスト重合体及びフォトレジスト組成物に関し、より詳しくはフォトレジスト単量体に用いられる下記式（１）の化合物と、これを含むフォトレジスト重合体及びこの重合体を含む本発明のフォトレジスト組成物は １９３ｎｍ及び１５７ｎｍ波長で透過率、エッチング耐性、耐熱性、接着性及び低い光吸収度を有し、現像液に対する親和度が高いので、ＬＥＲを改善させることができる。 - 特許庁
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