「LLE」を含む例文一覧(2)

  • To provide a development processing method capable of accurately controlling a line width of a second resist pattern in a second development processing of double patterning by LLE and accurately controlling a line width of a first resist pattern as well.
    LLEによるダブルパターニングの2回目の現像処理において、2回目のレジストパターンの線幅を精度良く制御でき、1回目のレジストパターンの線幅も精度良く制御できる現像処理方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method of processing a substrate, by which in double patterning according to LLE, a hydrophobic treatment can be readily conducted on a peripheral portion of the substrate without dissolving or transubstantiating a first resist pattern before execution of a second patterning processing after formation of the first resist pattern in a first patterning processing.
    LLEによるダブルパターニングにおいて、1回目のパターニング処理により1回目のレジストパターンを形成した後、2回目のパターニング処理を行う前に、1回目のレジストパターンを溶解又は変質させずに、基板の周縁部に対して容易に疎水化処理を行うことができる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

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