「M-pattern」を含む例文一覧(404)
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Ｍパターン - 特許庁 - The substrate M has a pattern face Ma where a pattern is formed.
パターンが形成されたパターン面Ｍａを有する。 - 特許庁 - Also, the pattern accuracy of the mask pattern is reverse calculated from the design margin M.
また、この設計マージンＭからマスクパターンのパターン精度を逆算する。 - 特許庁 - The weaving of the two-color thin strips 2 using the weaving yarn 4 is performed so to form a pattern M such as a checkered pattern, rectangular pattern or sagittal pattern.
二色ひご２を織り糸４にて織って、市松模様、長方形、矢絣等の模様Ｍを形成する。 - 特許庁 - Each pattern selecting block switches among n-types of pattern select data in accordance with a signal S2 and outputs pattern data to signals S7-1 to S7-m.
各パタン選択ブロックは信号Ｓ２に従ってｎ種類のパタンセレクトデータを切り替えてパタンデータを信号Ｓ７-1〜Ｓ７-mに出力する。 - 特許庁 - An identifying part 105 outputs the recognition result of the input pattern by checking the m-dimensional reference pattern with the m-dimensional feature of the input pattern.
識別部１０５は、ｍ次元参照パターンと入力パターンのｍ次元特徴とを照合して入力パターンの認識結果を出力する。 - 特許庁 - When a light source M does not emit light, the pattern of the pattern region 3 is unclear.
光源Ｍを発光させないとき絵柄領域３の絵柄は不鮮明である。 - 特許庁 - Pattern matching by a 'shaking method' is operated to a master pattern M and an object pattern P being multivalue images having gradation in this pattern defect detecting method.
階調を備えた多値画像であるマスターパターンＭとオブジェクトパターンＰに対して「揺すらせ法」によるパターンマッチングを行う。 - 特許庁 - An n-bit parallel scramble pattern is adopted for the 1st-n-th bits in this (m+n)-bit pattern.
この（ｍ＋ｎ）ビットパタンのうち第１〜第ｎビットをｎビットパラレルスクランブルパタンとする。 - 特許庁 - To make it possible to transfer a pattern without partial discoloration relative to an item M for printing having three-dimensional unevenness.
三次元的な凹凸のある被染着物Mに対しても、色ムラのない転写模様を付与する。 - 特許庁 - Calculational display coordinates (m, n)-(m+1, n+1) of display points are determined by a rendering process of a display pattern, and coordinates (x, y) of a display dot to be actually displayed are determined.
まず、表示パターンのレンダリング処理によって計算上の表示点の表示座標(m,n)〜(m+1,n+1)を求めると共に、実際に表示すべき表示ドットの座標(x,y)を求める。 - 特許庁 - Before the resist pattern images RP(C), RP(M), RP(Y) and RP(K) are formed, sample pattern images SP(C), SP(M), SP(Y) and SP(K) that have a width SL greater than the width RL of the resist pattern images in a conveyance direction D16 are formed on an intermediate transfer belt.
中間転写ベルト上にレジストパターン像ＲＰ(C)，ＲＰ(M)，ＲＰ(Y)，ＲＰ(K)を形成する前に、搬送方向Ｄ1６における該レジストパターン像の幅ＲＬより広い幅ＳＬを有するサンプルパターン像ＳＰ(C)，ＳＰ(M)，ＳＰ(Y)，ＳＰ(K)を形成する。 - 特許庁 - Preferably, the decorative pattern sheet has a thickness of 5 to 50 g/m^2.
装飾模様紙の厚みは、５〜５０ｇ／ｍ^２の範囲が好適である。 - 特許庁 - A pattern by 2^n-1 bits of one period of the PN pattern from the least significant bit of the PN pattern generated at an m-th reference clock (hereinafter this pattern is called 'A pattern') is employed for a pattern in 2^n-1 bits from the most significant bit of the pattern generated at an (m+1)th reference clock.
第ｍ番目の基準クロックで発生したＰＮパターンの最下位ビットからＰＮパターンの１周期分の２^ｎ−１ビット分のパターン（以下、このパターンを「Ａパターン」という）を、第ｍ＋１番目の基準クロックで発生させるパターンの最上位ビットから２^ｎ−１ビット分のパターンとする。 - 特許庁 - A patch is formed by compounding, for example, a magenta (M) printing pattern with a black (K) printing pattern.
本発明はブラック（Ｋ）の印字パターンに、例えばマゼンダ（Ｍ）の印字パターンを合成してパッチを作成する。 - 特許庁 - The master pattern M is 'shaken' to the object pattern P by using the width of one pixel or less as a unit.
その際、マスターパターンＭを１画素未満の幅を単位としてオブジェクトパターンＰに対して「揺すらせ」る。 - 特許庁 - Thus, the payer feels that the middle pattern M is oscillated by his knock and the middle pattern M is stopped by the oscillation, providing more amusement at finishing the pattern change.
したがって、遊技者は自分が叩いたことによって中図柄Ｍが揺れ、揺れたことによって中図柄Ｍが停止したと感じるので、図柄変動が終了する際の興趣感が高まる。 - 特許庁 - The first pattern element 20 and the second pattern element 25 form a plurality of micro character strings (m), and the first pattern element 20 forms a latent image on the micro character strings (m).
第１絵柄要素２０と第２絵柄要素２５は、複数のマイクロ文字列ｍを形成すると共に、第１絵柄要素２０はマイクロ文字列ｍ上の潜像を形成している。 - 特許庁 - In the first column of this table, n denotes an n-fold rotation axis normal to the CBED pattern, and m a mirror line in the plane of the pattern.
この表の最初の列では、n はCBED 図形に対して垂直なn-回 回転軸を表わし、そしてmはその図形面内にある鏡映線を表わす。 - 科学技術論文動詞集 - The substrate M is provided with a protective member 1 provided to the substrate M to protect the pattern, and an identifying part 3 provided to the protective member 1 so as to identify the substrate M by radio transmission.
基板Ｍに設けられ、パターンを保護する保護部材１と、保護部材１に設けられ無線により基板Ｍを識別させる識別部３とを有する。 - 特許庁 - The detection means obtains a characteristic value of M pieces (M is a positive integer) of first density pattern images held by an image carrier.
検出手段は、像担持体が保持するＭ個（Ｍは正の整数）の第一の濃度パターン画像の特性値を求める。 - 特許庁 - A zeolite comprising X-ray pattern of xxxx, whose formula is [M2O]0-9[Al2O3]0.1-3[SiO2]100[H2O]0-35 wherein M in the formula is an alkali metal.
０～９M2O・0.1～３Al2O3・100SiO2・０～35H2Oで表される組成を有し、式中Mはアルカリ金属であり×××のＸ線パターンをもつゼオライト。 - 特許庁 - The pattern of a mask M is exposed on a base plate G through a projection optical system 3.
投影光学系３を介してマスクＭのパターンを基板Ｇに露光する。 - 特許庁 - A calculation result is determined by inputting the difference N_list(n, m) of the sequence of access and the difference t_margin(n, m) of the time of access to a monotonous decrease function f_1, and access pattern similarity α_n-m based on the access pattern about the data n, m is determined.
単調減少関数ｆ_１に、アクセス順番差Ｎ_ｌｉｓｔ（ｎ，ｍ）及びアクセス時刻差ｔ_ｍａｒｇｉｎ（ｎ，ｍ）を入力した計算結果を求めることにより、データｎ，ｍについてのアクセスパターンに基づくアクセスパターン類似度α_ｎ−ｍを求める。 - 特許庁 - The test pattern 11a has a plurality of gradation patterns 11c, 11 m, 11y.
テストパターン１１ａは、複数の階調模様１１ｃ、１１ｍ、１１ｙを有する。 - 特許庁 - The calculated range signal patterns RngBufPos[0], RngBufPos[m] are compared with the range signal pattern in failure respectively (S41, S42).
そして算出したレンジ信号パターンＲｎｇＢｕｆＰｏｓ[0]，ＲｎｇＢｕｆＰｏｓ[m]と、故障時レンジ信号パターンとをそれぞれ比較する（Ｓ４１，Ｓ４２）。 - 特許庁 - the controller 10 transmits a local transmission pattern to each of the units M, S in a communication setting state by the global transmission pattern.
コントローラ１０はグローバル伝送パターンによる通信設定状態で、ローカル伝送パターンを各ユニットＭ，Ｓに送信する。 - 特許庁 - When (p) is defined as the pitch of data tracks and (m) and (n) are defined as mutually primary arbitrary natural numbers on the condition of n/m<2, a cycle λ of the servo burst pattern is λ=2p×n/m.
pをデータトラックのピッチ、ｍ、ｎを互いに素であり且つｎ／ｍ＜２である任意の自然数とすると、サーボバーストパターンの周期λは、λ=２ｐ×ｎ／ｍである。 - 特許庁 - Also, the change value of the upper limit value M can be changed corresponding to the kind of the big winning pattern.
また、大当たり図柄の種類に応じて上限値Ｍの変更値を変えてもよい。 - 特許庁 - The aligner transfers the pattern of a mask M to a substrate by an exposure light while the mask M and the substrate are synchronously moved in a predetermined direction.
マスクＭと基板とを所定の方向に同期移動しつつ露光光によりマスクのパターンを基板に転写する露光装置である。 - 特許庁 - To prevent streak-like image degradation due to discontinuity of a dot pattern in converting N-value image data to M-value image data (N>M).
Ｎ値画像データをＭ値画像データ（Ｎ＞Ｍ）に変換するに際し、ドットパターンの不連続性に起因するスジ状の画質劣化を防止する。 - 特許庁 - An extraction pattern generating unit 205 extracts two patterns of m-pieces of frequency components from each of chips of the reception and transmission pattern.
抽出パターン生成部２０５は、受信伝送パターンの各チップからｍ個の周波数成分を２パターンで抽出する。 - 特許庁 - Then the photomask 3 is divided into a plurality of mesh M, and the pattern form of the photomask 3 is corrected according to the possession rate R of the mask pattern in each mesh M.
次に、フォトマスク３を複数のメッシュＭに分割し、各々のメッシュＭにおけるマスクパターンの占有率Ｒに応じてフォトマスク３のパターン形状を補正する補正方法を行う。 - 特許庁 - The data management device 3 classifies and manages a plurality of masks M based on not an identifier given to each mask M but an identifier id2 given to each layout pattern of the masks M.
データ管理装置３は、マスクＭ毎に付与された識別子ではなく、マスクＭのレイアウトパターン毎に付与された識別子ｉｄ２に基づいて複数枚のマスクＭを区別して管理する。 - 特許庁 - Further, a pattern by k-(2^n-1) bits from high-order bits of the A pattern is employed for a pattern by k-(2^n-1) bits from the least significant bit of a pattern generated at the (m+1)th reference clock.
また、Ａパターンの上位ビット側からｋ−（２^ｎ−１）ビット分のパターンを、第ｍ＋１番目の基準クロックで発せさせるパターンの最下位ビットからｋ−（２^ｎ−１）ビット分のパターンとする。 - 特許庁 - For this arpeggio pattern data generation system, source data OD for an arpeggio pattern representing a desired playing pattern are divided into groups by t racks 1 to M and prepared as partial pattern data OD11 to ODM (A).
このアルペジオパターンデータ作成システムでは、所望の演奏パターンを表わすアルペジオパターン用元データＯＤが、トラック１〜Ｍ毎のグループに分けられて部分パターンデータＯＤ１〜Ｍとして用意される（Ａ）。 - 特許庁 - A mask M is illuminated with linearly polarized illumination light to transfer a pattern of the mask M onto a wafer W through a projection optical system PL.
直線偏光の照明光でマスクＭを照明し、マスクＭのパターンを投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上に転写する。 - 特許庁 - The M types of reference signals are multiplexed into first and second resource blocks in the same arrangement pattern.
Ｍ種類のリファレンス信号は、同じ配置パターンで第１及び第２のリソースブロックに多重される。 - 特許庁 - Each variable directivity antenna element AN-m is controlled to correspond with a directivity pattern set {X_mk}, and a high SINR can be achieved for a desired wave by setting the m-th element of the eigenvector e of the correlation matrix as a weight factor corresponding to the received signal y_m(t).
指向性パタンセット｛X_mk｝に対応するよう、各指向性可変アンテナ素子AN-mを制御し、相関行列の固有ベクトルeのm番目の要素を受信信号y_m(t)に対応する重み係数とすれば、所望波に対して高いSINRを実現できる。 - 特許庁 - When the generation of arpeggio pattern data is indicated (C), the partial pattern data OD1 to ODM of all the tracks 1 to M of the source data OD are converted together into arpeggio pattern data ADn of the desired type (n) having the desired playing pattern at a time according to the conversion types Type[1] to Type[M].
そして、アルペジオパターンデータの生成を指示すると（Ｃ）、元データＯＤの全トラック１〜Ｍ分の部分パターンデータＯＤ１〜Ｍが、変換タイプＴｙｐｅ［１］〜［Ｍ］に従って、所望の演奏パターンを有する所望タイプｎのアルペジオパターンデータＡＤｎに一括変換される（Ｄ）。 - 特許庁 - A pattern-forming sheet 1 equipped with an energy-line hardened stamp layer 11 and a mold M are crimped to each other, a pattern of the mold M is transferred to the stamp layer 11 of the pattern-forming sheet 1, and in this state, the transferred pattern is fixed by hardening the stamp layer 11 with an energy line.
エネルギー線硬化性のスタンプ層１１を備えたパターン形成用シート１と鋳型Ｍとを圧着して、鋳型Ｍが有するパターンをパターン形成用シート１のスタンプ層１１に転写し、その状態でエネルギー線の照射によりスタンプ層１１を硬化させ、転写したパターンを固定する。 - 特許庁 - On a mask M, an identification code 13 is formed which includes a 1st unique code 15 corresponding to a pattern 11 and a 2nd code 16 for discriminating a plurality of masks M where the same pattern 11 is formed is formed.
マスクＭ上に、パターン１１に対応した固有の第１コード１５と、同一のパターン１１が形成された複数のマスクＭを識別するための第２コード１６とを含む識別コード１３を形成する。 - 特許庁 - A formation position of a sub-pattern SP(LM) for a light magenta ink (LM) is present at the center side of a paper S more than a formation position of a sub-pattern SP(M) for a magenta ink (M) in a movement direction.
ライトマゼンタインク（ＬＭ）についてのサブパターンＳＰ（ＬＭ）の形成位置は、移動方向において、マゼンタインク（Ｍ）についてのサブパターンＳＰ（Ｍ）の形成位置（よりも用紙Ｓの中央側にある。 - 特許庁 - This golf shaft is the golf shaft formed by winding bias pattern preregs and straight pattern prepregs around a mandrel 4 having a main taper part M on a top side and a slow tapered part S on a grip side and firing these prepregs and has the bias pattern prepregs for covering the main taper part M and the slow tapered part S and the bias pattern prepregs covering only the main taper part M.
チップ側のメインテーパ部Ｍとグリップ側のスローテーパ部Ｓとを備えたマンドレル４に対してバイアスパターンプリプレグとストレートパターンプリプレグとを巻回焼成することにより形成したゴルフシャフトであって、該メインテーパ部Ｍと該スローテーパ部Ｓをカバーするバイアスパターンプリプレグと、該メインテーパ部Ｍのみをカバーするバイアスパターンプリプレグとを有するゴルフシャフト。 - 特許庁 - For the game machine, a special pattern start storage area M is set inside the RAM 116 and respective storage parts 116A-116C are set in the storage area M.
ＲＡＭ１１６内には特別図柄始動記憶領域Ｍが設定され、記憶領域Ｍには各記憶部１１６Ａ〜１１６Ｃが設定されている。 - 特許庁 - In this apparatus, after the belt rotation detection mark TM is detected by the pattern sensor 18, the registration marks RM(K), RM(C), RM(M), and RM(Y) are formed.
この装置では、ベルト回転検出マークＴＭがパターンセンサ１８で検出された後にレジストマークＲＭ(K)、ＲＭ(C)、ＲＭ(M)、ＲＭ(Y)が形成される。 - 特許庁 - A zeolite, including the X-ray pattern of xxxx, whose formula is [M2 O]0-9[Q+]1-50[Al2O3]1[SiO2]30-1000[H2O]0-2000, wherein M in the formula is an alkali metal and Q is tetraalkylethylenediamine.
０～９M2O・１～50Q＋・Al2O3・30～1000SiO2・０～2000H2Oで表される組成を有し、式中Mはアルカリ金属、Qはテトラアルキルエチレンジアミンであり、×××のＸ線パターンをもつゼオライト。 - 特許庁 - A dot pattern of 1 bit/dot print data is compared with a plurality of reference dot patterns for each m×n dot matrix in order to detect a dot to be interpolated.
１ドットあたり１ビットの印刷データによるドットパターンをm×nドットマトリックス毎に複数の参照ドットパターンと比較して補間対象ドットを検出する。 - 特許庁 - The display pattern is formed by overlaying a transfer sheet S, cloth 3, and a rubber sheet 4 on a coated metal sheet M set on a bottom plate 2, and infiltrating a sublimation dye D of the transfer sheet S into the coating film of the coated metal sheet M with the heat from a hot plate 1.
表示模様は、底板2にセットした塗装金属板Mに転写シートS，布3，ゴムシート4を重ね合わせ、熱板1からの加熱で転写シートSの昇華性染料Dを塗装金属板Mの塗膜に浸透させることにより形成される。 - 特許庁 - An aligner exposes the pattern of a mask (M) to a photosensitive substrate (W) via a projection optical system (PL).
マスク（Ｍ）のパターンを投影光学系（ＰＬ）を介して感光性基板（Ｗ）上に露光する露光装置。 - 特許庁
