「MASK ALIGNMENT」を含む例文一覧(589)
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 次へ＞- MASK ALIGNMENT DEVICE
マスクアライメント装置 - 特許庁 - MASK ALIGNMENT METHOD
マスクアライメント方法 - 特許庁 - ALIGNMENT MASK
位置合わせ用マスク - 特許庁 - MASK ALIGNMENT DEVICE
マスク位置合わせ装置 - 特許庁 - METAL MASK ALIGNMENT DEVICE
メタルマスクアライメント装置 - 特許庁 - MASK AND ALIGNMENT METHOD
マスクおよびアライメント方法 - 特許庁 - STENCIL MASK AND ALIGNMENT APPARATUS
ステンシルマスク及びアライメント装置 - 特許庁 - MASK ALIGNMENT METHOD AND MASK ALIGNMENT DEVICE FOR DOUBLE-FACE EXPOSURE APPARATUS
両面露光装置のマスクアライメント方法及びマスクアライメント装置 - 特許庁 - ALIGNMENT DEVICE OF MASK AND WAFER
マスクとウエハの位置合わせ装置 - 特許庁 - FORMING METHOD OF MASK-ALIGNMENT MARK
マスクアライメントマークの形成方法 - 特許庁 - MASK ALIGNMENT FOR RECTANGULAR BEAM
矩形ビーム用マスクアライメント方法 - 特許庁 - ALIGNMENT DEVICE FOR SUBSTRATE AND MASK
基板とマスクの位置合わせ装置 - 特許庁 - ALIGNMENT STRUCTURE OF SUBSTRATE AND MASK
基板とマスクの位置合わせ構造 - 特許庁 - EXPOSURE MASK FOR ALIGNMENT OF CRYSTAL SURFACE
結晶面アライメント用露光マスク - 特許庁 - METAL MASK, AND METHOD AND DEVICE FOR METAL MASK POSITION ALIGNMENT
メタルマスク、メタルマスク位置アラインメント方法及び装置 - 特許庁 - When the center of the real mask alignment mark is aligned with the center of the cut-out mask alignment mark, mask alignment between the front mask and a back mask 9 is completed.
実マスクアライメントマークの中心が、抜けマスクアライメントマーク中心に位置すると、表マスク及び裏マスク９のマスクアライメントが完了する。 - 特許庁 - ALIGNMENT METHOD FOR MASK AND WAFER AND SET OF MASK
マスクとウエハとの位置合わせ方法及びマスクのセット - 特許庁 - ALIGNMENT METHOD, ALIGNMENT DEVICE, SUBSTRATE, MASK, AND EXPOSURE DEVICE
アライメント方法、アライメント装置、基板、マスク、及び露光装置 - 特許庁 - Then relative shift amounts, between the real mask alignment mark M1a and a cut-out mask alignment mark M2a, and between the real mask alignment mark M1b and a cut-out mask alignment mark M2b are calculated.
次に、実マスクアライメントマークＭ１ａ及び抜けマスクアライメントマークＭ２ａと、実マスクアライメントマークＭ１ｂ及び抜けマスクアライメントマークＭ２ｂの相対的なずれ量を算出する。 - 特許庁 - METAL MASK POSITION ALIGNMENT METHOD AND DEVICE
メタルマスク位置アラインメント方法及び装置 - 特許庁 - ALIGNMENT MASK AND DOT POSITION RECOGNITION METHOD
アライメントマスクおよびドット位置認識方法 - 特許庁 - EXPOSURE MASK, ALIGNMENT REFERENCE WAFER, AND ALIGNMENT METHOD
露光用マスク、位置合わせ基準ウェハおよび露光位置合わせ方法 - 特許庁 - MASK AND WAFER ALIGNMENT METHOD AND APPARATUS
マスクとウエハの位置合わせ方法及び装置 - 特許庁 - RUBBING MASK FOR ALIGNMENT CONTROL OF LIQUID CRYSTAL PANEL
液晶パネルの配向制御用ラビングマスク - 特許庁 - ALIGNMENT METHOD, DESIGN METHOD OF MASK PATTERN, MASK, DEVICE MANUFACTURING METHOD, ALIGNMENT DEVICE, AND EXPOSURE DEVICE
アライメント方法、マスクパターンの設計方法、マスク、デバイス製造方法、アライメント装置、露光装置 - 特許庁 - MASK ALIGNMENT DEVICE AND SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS
マスク位置合わせ装置及び基板処理装置 - 特許庁 - AUTOMATIC MASK FILM ALIGNMENT DEVICE FOR PRINTED CIRCUIT BOARD
プリント基板用自動マスクフィルム合わせ装置 - 特許庁 - ALIGNMENT PATTERN FORMING METHOD AND MASK ALIGNMENT PRECISION MEASURING METHOD
アライメントパタ—ンの形成方法及びマスクとの合わせ精度測定方法 - 特許庁 - ALIGNMENT METHOD, ALIGNMENT APPARATUS, AND MASK FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE
アライメント方法、アライメント装置、および荷電粒子線露光用マスク - 特許庁 - To achieve fast mask alignment by obtaining the information of a superimposed state of a real mask alignment mark and a cut-out mask alignment mark formed on a top mask and a back mask, with high accuracy in a short time.
表マスク及び裏マスクに形成した実マスクアライメントマーク、抜けマスクアライメントマークの重畳状態の情報を高精度に短時間の間で得ることで、マスクアライメントの迅速化を図る。 - 特許庁 - ALIGNMENT METHOD AND EQUIPMENT FOR MASK AND WAFER
マスクとウエハとの位置合わせ方法及び装置 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK HAVING ALIGNMENT MARK FOR DRAWING
描画用アライメントマークを有する位相シフトマスク - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF DISPLAY USING MASK ALIGNMENT
マスクアライメント法を用いたディスプレイの製造方法 - 特許庁 - METAL MASK, METHOD FOR MANUFACTURING THE METAL MASK AND METHOD FOR FORMING ALIGNMENT MARK
メタルマスク及びその製造方法、並びにアライメントマークの形成方法 - 特許庁 - MASK FRAME COMBINATION, SUBSTRATE USING THE SAME, AND MASK ALIGNMENT METHOD
マスクフレーム組合わせ体、それを利用した基板及びマスク整列方法 - 特許庁 - STENCIL MASK, METHOD OF TRANSFERRING ALIGNMENT MARK, AND METHOD OF MANUFACTURING STENCIL MASK
ステンシルマスク、アライメントマークの転写方法及びステンシルマスクの製造方法 - 特許庁 - JIG AND METHOD FOR SIMPLE MASK ALIGNMENT
簡易マスクアライメント治具及び簡易マスクアライメント方法 - 特許庁 - EXPOSURE DEVICE EXECUTING ALIGNMENT BY MOVING MASK
マスクを移動させて位置合わせを行う露光装置 - 特許庁 - To make alignment of a unit mask easy.
単位マスクの位置合わせを容易にすることにある。 - 特許庁 - METHOD, ALIGNMENT MARK AND USAGE OF HARD MASK MATERIAL
方法、アライメントマークおよびハードマスク材料の使用 - 特許庁 - MASK FOR PROJECTION ALIGNMENT, METHOD FOR MANUFACTURING MASK FOR PROJECTION ALIGNMENT, PROJECTION ALIGNER, PROJECTION ALIGNMENT METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING MEMBER TO BE EXPOSED BY USING MASK FOR PROJECTION ALIGNMENT, AND MEMBER TO BE EXPOSED
投影露光用マスク、投影露光用マスクの製造方法、投影露光装置、投影露光方法、投影露光用マスクを用いた被露光部材の製造方法および被露光部材 - 特許庁 - ALIGNMENT METHOD, ALIGNMENT METHOD OF LIQUID DISCHARGE HEAD UNIT, AND ALIGNMENT MASK FOR LIQUID DISCHARGE HEAD
アライメント方法及び液体噴射ヘッドユニットのアライメント方法並びに液体噴射ヘッド用アライメントマスク - 特許庁 - METHOD OF ALIGNING WAFER WITH PROXIMATE MASK AND ALIGNMENT MARK
近接したマスクとウエハとのアライメント方法とアライメントマーク - 特許庁 - STANDARD POSITION INDICATING DEVICE AND METAL MASK POSITION ALIGNMENT DEVICE
基準位置指示装置及びメタルマスク位置アラインメント装置 - 特許庁 - A mask alignment scope 11 is loaded on a wafer stage 31 and an alignment mark position on a mask 20 is detected.
ウエハステージ３１上にマスクアライメントスコープ１１を搭載し、マスク２０上のアライメントマーク位置を検出する。 - 特許庁 - SELF ALIGNMENT TYPE PHASE SHIFT MASK AND A METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁 - REFERENCE POSITION INDICATOR, AND METAL MASK POSITION ALIGNMENT DEVICE
基準位置指示装置及びメタルマスク位置アラインメント装置 - 特許庁 - SELF ALIGNMENT TYPE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁 - To realize alignment of a mask and a wafer with high accuracy.
マスクとウエハとの位置合わせを高精度で実現する。 - 特許庁 - ALIGNMENT METHOD, ALIGNMENT SUBSTRATE, MANUFACTURING METHOD OF ALIGNMENT SUBSTRATE, EXPOSURE METHOD, ALIGNER AND MANUFACTURING METHOD OF MASK
アライメント方法、アライメント基板、アライメント基板の製造方法、露光方法、露光装置およびマスクの製造方法 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
