「Mask alignment」を含む例文一覧(589)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 次へ＞- ALIGNMENT DEVICE AND METHOD OF ALIGNING PLURALITY OF MASK SEGMENTS
アラインメントデバイス及び複数のマスクセグメントをアラインする方法 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PHOTO MASK, AND ALIGNMENT INSPECTION MARK
半導体装置の製造方法、フォトマスク、合わせ検査マーク - 特許庁 - Later, when the mask is superimposed on the CMOS substrate, the alignment key on the mask is aligned with an alignment key on the substrate.
その後、マスクがＣＭＯＳ基板上に重なると、マスク上のアラインメントキーが基板上のアラインメントキーと整列する。 - 特許庁 - ALIGNMENT METHOD AND EVALUATING METHOD OF MASK INSPECTION DEVICE
マスク検査装置におけるアライメント方法および評価方法 - 特許庁 - EXPOSURE SYSTEM, ALIGNMENT PROCESSING METHOD, AND MASK MOUNTING METHOD
露光装置、位置合わせ処理方法及びマスク装着方法 - 特許庁 - GLASS SCALE HOLDING-MOVING DEVICE AND METAL MASK POSITION ALIGNMENT DEVICE
ガラススケール保持移動装置及びメタルマスク位置アラインメント装置 - 特許庁 - To provide an alignment method and an alignment device of reducing damage to a substrate and a mask by reducing alignment operation times of the substrate and the mask.
基板とマスクとのアライメント動作回数を少なくすることによって、基板とマスクへのダメージを低減したアライメント方法及びアライメント装置を提供する。 - 特許庁 - A mask M and a work W are brought into contact, positions of a mask alignment mark MAM and a work alignment mark WAM are detected, and a first alignment amount is obtained.
マスクＭとワークＷを接触させて、マスク・アライメントマークＭＡＭとワーク・アライメントマークＷＡＭの位置を検出し第１のアライメント量を求める。 - 特許庁 - To provide an alignment method and an alignment apparatus, wherein the damages to a substrate and a mask are reduced by reducing the number of alignment operations performed to the substrate and the mask.
基板とマスクとのアライメント動作回数を少なくすることによって、基板とマスクへのダメージを低減したアライメント方法及びアライメント装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a mask frame combination, a substrate using the same, and a mask alignment method.
マスクフレーム組合わせ体、それを利用した基板及びマスク整列方法を提供する。 - 特許庁 - In an alignment process of the mask 4 with respect to the substrate 3, each part (an alignment mark 4M) of the mask is aligned to a plurality of alignment positions (alignment marks 3M) on the substrate 3.
基板３に対するマスク４のアライメント工程では、基板３の上に複数設けられたアライメント位置（アライメントマーク３Ｍ）にマスク４の各部（アライメントマーク４Ｍ）を位置合わせする。 - 特許庁 - A mask suitable for forming plural kinds of the alignment area having the alignment characteristics different in the alignment layer is used.
配向膜に異なる配向特性を有する複数種類の配向領域を形成するのに適したマスクを使用した。 - 特許庁 - The exposure device 10 comprises: an alignment illumination unit 30 which can irradiate alignment light using exposure light on a mask-side alignment mark 51 on the mask 18a; and an alignment camera unit 40 on which the alignment light emitted from the alignment illumination unit 30 and passing through the mask 18a and a projection lens 20 is incident.
露光光を用いたアライメント光をマスク１８ａのマスク側アライメントマーク５１に照射可能なアライメント照明ユニット３０と、アライメント照明ユニット３０から出射されマスク１８ａおよび投影レンズ２０を経たアライメント光を入射させるアライメントカメラユニット４０と、を備える。 - 特許庁 - A right alignment through-hole 11R of the left metal mask is set at a left alignment mark 21L of the fixing mask, a left alignment through-hole 11L of the right metal mask is set at a right alignment mark 21R, and a part where the left metal mask and the right metal mask are overlapped with the fixing mask is jointed by spot welding 50.
固定用マスクの左位置合わせマーク２１Ｌに左メタルマスクの右位置合わせ貫通孔１１Ｒを合わせ、右位置合わせマーク２１Ｒに右メタルマスクの左位置合わせ貫通孔１１Ｌを合わせ、固定用マスクに左メタルマスク及び右メタルマスクが重なる部分をスポット溶接５０で接合させる。 - 特許庁 - While a first mask M1 is exposed, a first handler 11a picks up a second mask M2 to be used next from a mask storage section 6, and places the mask on a pre-alignment stage 5 for pre-alignment.
第１のマスクＭ１での露光中に、第１のハンドラ１１ａがマスク保管部６から次に使用する第２のマスクＭ２を取り出し、プリアライメントステージ５に載せてプリアライメントを行う。 - 特許庁 - To adhere closely a substrate and a mask with high alignment accuracy.
基板とマスクを高いアライメント精度で互いに密着させる。 - 特許庁 - ALIGNMENT MARK, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MASK SET
位置合わせマーク、半導体装置の製造方法およびマスクセット - 特許庁 - MASK FOR MANUFACTURING ALIGNMENT LAYER, AND METHOD OF MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DEVICE
配向膜製造用マスク及び液晶装置の製造方法 - 特許庁 - ALIGNMENT DEVICE AND METHOD OF ALIGNING PLURALITY OF MAGNETIC MASK SEGMENTS
アラインメントデバイス及び複数の磁性マスクセグメントをアラインする方法 - 特許庁 - MASK FOR MANUFACTURING ALIGNMENT LAYER AND METHOD OF MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DEVICE
配向膜製造用マスク及び液晶装置の製造方法 - 特許庁 - MASK FOR EXPOSURE PROCESSING, SUBSTRATE FOR LIQUID CRYSTAL ALIGNMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE FOR THE LIQUID CRYSTAL ALIGNMENT
露光処理用マスク、液晶配向用基板及び液晶配向用基板の製造方法 - 特許庁 - ALIGNMENT METHOD, EXPOSURE METHOD USING THE ALIGNMENT METHOD, MASK FOR EXPOSURE, AND ALIGNER EQUIPPED THEREWITH
アライメント方法、該アライメント方法を用いた露光方法、露光用マスク、該マスクを備えた露光装置 - 特許庁 - To provide the manufacturing method of a mask capable of easily manufacturing the mask having high detecting accuracy of an alignment mark, and the mask.
アライメントマークの検出精度が高いマスクを容易に製造できるマスクの製造方法及びマスクを提供すること。 - 特許庁 - To obtain an alignment device capable of accurately positioning a metal mask without lifting the mask.
メタルマスクを浮き上がらせることなく、正確に位置決めを行なうことができるアライメント装置を得る。 - 特許庁 - A mask position computing section 18h creates mask position information based on information of the alignment mark.
マスク位置演算部１８ｈは、アライメントマークの情報に基づいてマスク位置情報を生成する。 - 特許庁 - To provide a mask and a method for manufacturing a liquid crystal display, the mask and the method facilitating formation of an alignment layer provided with a plurality of alignment regions having alignment directions that are different.
配向方向の異なる複数の配向領域を備える配向膜を容易に形成できるマスク及び液晶表示装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - The alignment of the mask 2 and the substrate 1 is carried out by the positionings of the plurality of the alignment marks disposed on the mask 2 and the positionings of the plurality of the alignment marks disposed on the substrate 1.
マスク２に設けた複数のアライメントマークの位置と基板１に設けた複数のアライメントマークの位置とをそれぞれ合わせて、マスク２と基板１との位置合わせを行う。 - 特許庁 - MASK, METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN, METHOD FOR MEASURING ALIGNMENT ACCURACY, AND APPARATUS
マスク、パターンの転写方法、アライメント精度測定方法、および装置 - 特許庁 - To improve an accuracy of alignment between a substrate and a mask for film forming.
成膜用の基板とマスクとの位置合わせ精度を向上させる。 - 特許庁 - To obtain a mask alignment device capable of simply and securely conducting the alignment of a wafer and the mask without contaminating and damaging the wafer.
ウェハとマスクとの位置合わせを、ウェハを汚染したり傷つけることなく簡易かつ正確に実行し得る、マスク位置合わせ装置を得る。 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURE, AND ALIGNMENT DETECTING METHOD
位相シフトマスクおよびその製造方法ならびにアライメント検出方法 - 特許庁 - To provide a method for forming a solid state mask in which the work time required for alignment is shortened by ensuring alignment between a mask and a substrate.
マスク材と基板とのアライメント性を確保しつつアライメントに要する作業時間を短くする固体マスク成膜法を提供する。 - 特許庁 - The substrate is aligned with the mask by using an alignment structure on the substrate.
基板は基板上の整合構造によりマスクと整合される。 - 特許庁 - COMPLEMENTARITY SPLIT MASK HAVING ALIGNMENT MARK, METHOD FOR FORMING ALIGNMENT MARK ON THE MASK, SEMICONDUCTOR DEVICE FORMED BY USING THE MASK, AND ITS FORMING METHOD
アライメントマークを有する相補分割マスク、該相補分割マスクのアライメントマークの形成方法、該相補分割マスクを使用して製造される半導体デバイス、及びその製造方法 - 特許庁 - A mask alignment mark of a reflector mask is formed on the opposite side from a circuit pattern-formed side of the mask, and an alignment detection system is installed on the opposite side of the illumination optical system and the projection optical system with respect to the mask.
反射型マスクのマスクアライメントマークを回路パターン面の反対面側に形成し、アライメント検出系をマスクに対して照明光学系、投影光学系の反対側に設置する。 - 特許庁 - The position of each alignment mark after alignment is detected (step 302) to obtain a shot offset component (step 303) from the position of the alignment mark on the mask after alignment and from the position of the alignment mark on the substrate after alignment.
位置合わせ後の各アライメントマークの位置を検出し（ステップ３０２）、位置合わせ後のマスクのアライメントマークの位置と位置合わせ後の基板のアライメントマークの位置とから、ショットオフセット成分を求める（ステップ３０３）。 - 特許庁 - To form a plurality of different alignment areas on an alignment film on a single substrate without using a mask.
マスクを用いることなく、１つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成する。 - 特許庁 - To prevent wrong alignment of a mask and a substrate, using an alignment mark for a different coloring pattern.
異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行うのを防止する。 - 特許庁 - A picture in a formation area of a mask mark for alignment formed in an alignment mask and a picture in a formation area of a wafer mark for alignment formed in a substrate are individually picked up by an imaging element from the upper side of the alignment mask (fourth step S4).
露光マスクに形成されたアライメント用のマスクマークの形成領域の画像と、基板に形成されたアライメント用のウェハマークの形成領域の画像とを、露光マスクの上方からそれぞれ個別に撮像素子に取り込む（第４ステップＳ４）。 - 特許庁 - ALIGNMENT MASK FOR LIQUID EJECTION HEAD UNIT, ALIGNMENT DEVICE FOR LIQUID EJECTION HEAD UNIT, AND THE ALIGNMENT METHOD OF LIQUID DISCHARGE HEAD UNIT
液体噴射ヘッドユニット用アライメントマスク及び液体噴射ヘッドユニット用アライメント装置並びに液体噴射ヘッドユニットのアライメント方法 - 特許庁 - GLASS SCALE, AND METAL MASK POSITION ALIGNMENT METHOD AND DEVICE USING IT
ガラススケール及びそれを用いたメタルマスク位置アラインメント方法及び装置 - 特許庁 - Mask alignment of a diffusion layer pattern and a mask pattern to be processed in a post-process is carried out using the alignment mark M1a formed in this manner.
こうして形成されたアライメントマークＭ１ａを用い、拡散層パターンと後工程において加工するマスクパターンとのマスク合わせを行う。 - 特許庁 - ALIGNMENT METHOD OF EXPOSURE MASK AND MANUFACTURING METHOD OF THIN FILM ELEMENT SUBSTRATE
露光マスクの位置合わせ方法、及び薄膜素子基板の製造方法 - 特許庁 - To realize alignment of a mask and a wafer with high throughput and high accuracy.
マスクとウエハとの位置合わせを高スループットかつ高精度で実現する。 - 特許庁 - First, real mask alignment marks M1a, M1b are focused automatically.
先ず、実マスクアライメントマークＭ１ａ，Ｍ１ｂの自動焦点設定を行う。 - 特許庁 - Mask alignment between a diffusion layer pattern and a mask pattern to be processed in a post-process is carried out using the alignment mark M1a formed in this way.
こうして形成されたアライメントマークＭ１ａを用い、拡散層パターンと後工程において加工するマスクパターンとのマスク合わせを行う。 - 特許庁 - A mask alignment sensor attached on the fine-adjustment top table observes a mask mark and the reference mark simultaneously.
微動トップテーブルに取り付けられたマスクアライメントセンサが、マスクマークと基準マークとを同時に観測する。 - 特許庁 - No fluctuation in position of the alignment mark 5a between at the time of alignment of the substrate 5 and the mask 6, and at the time of close contact of the substrate 5 and the mask 6 after the alignment, improve the alignment accuracy.
基板５とマスク６の位置合わせを行うときと、位置合わせ後に基板５とマスク６を密着させたときとで、アライメントマーク５ａの位置変動が生じないようにすることで、位置合わせ精度を向上させる。 - 特許庁 - To accurately detect a position of an alignment mark of a mask and a position of an alignment mark of an underlying pattern on a substrate by accurately focusing an image capturing device on the alignment mark of the mask and the alignment mark of the underlying pattern on the substrate.
画像取得装置の焦点をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークに精度良く合わせて、マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置を精度良く検出する。 - 特許庁 - To perform highly accurate alignment between a mask and a substrate in a short time by quickly and highly accurately detecting a position of an alignment mark on the mask and a position of an alignment mark on a base pattern of the substrate.
マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置を迅速に精度良く検出して、マスクと基板との位置合わせを短時間で高精度に行う。 - 特許庁
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