「Masking Method」を含む例文一覧(664)
＜前へ 1 2 .... 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14- A method for etching the insulating film 3, arranged in a laminated state between conductor films 1 and 2, comprises a step of partly etching the film 3 to a position on the way of a thickness direction, a step of executing a masking 5 on a side face 3a of the partly etched film 3, and a step of etching the residual film 3.
導体膜１，２間に積層状態に配される絶縁膜３をエッチングする方法であって、絶縁膜３を厚さ方向の途中位置まで部分的にエッチングするステップと、部分的にエッチングされた絶縁膜３の側面３ａにマスキング５を施すステップと、残りの絶縁膜３をエッチングするステップとを含む絶縁膜のエッチング方法を提供する。 - 特許庁 - In the manufacturing method of the rubber roll for coating the outer periphery of the core with the rubber material by a rubber extruder according to a crosshead die system, masking for preventing rubber adhesion is applied at least to the slide parts of both end parts of the core passing through the head of the rubber extruder to perform extrusion molding.
本発明は、クロスヘッドダイ方式でゴム押出し機により芯金の外周上にゴム材料を被覆するゴムロール製造方法において、該押出し機のヘッド内を通過する該芯金両端部の少なくとも摺動部分にゴム付着防止用のマスキングを施して押出し成形を行うことを特徴とするゴムロール製造方法である。 - 特許庁 - Said method comprises following steps for: generating centrally a reference clock (RCLK); synthesizing said digital clocks (PCLK) from said reference clock (RCLK) using a clock multiplier, respectively; resetting said clock multiplier in response to said synchronizing signal (SYNC); and masking an output signal (VCLK) of said clock multiplier during setting time of said clock multiplier.
方法は、基準クロック（ＲＣＬＫ）を中央で生成するステップと、基準クロック（ＲＣＬＫ）からデジタルクロック（ＰＣＬＫ）を、クロック乗算手段を用いて合成するステップと、クロック乗算手段を同期信号（ＳＹＮＣ）に応答してリセットするステップと、クロック乗算手段の出力信号（ＶＣＬＫ）をクロック乗算手段の整定時間中、マスキングするステップと、を含む。 - 特許庁 - The disclosed method comprises receiving a data bit sequence and a user identity sequence, performing a CRC (cyclic redundant check) operation on the data bit sequence to generate a CRC bit sequence, and masking the CRC bit sequence with the user identity sequence to generate a coded bit sequence according to a formula.
方法は、データビットシーケンスとユーザー識別ビットシーケンスを受信する段階と、データビットシーケンスに対してＣＲＣ（巡回冗長検査）演算を実行し、ＣＲＣビットシーケンスを生成する段階と、方程式に基づいてユーザー識別ビットシーケンスでＣＲＣビットシーケンスをマスキングし、符号化ビットシーケンスを生成する段階とを含み、そのうち方程式は第一方程式と第二方程式を含む。 - 特許庁 - To provide a metallic bar subjected to stripe plating, which is capable of being subjected to partial gold plating with high accuracy and quality and surely forming nickel barrier areas even when there is dispersion in the lateral direction of the position of an endless masking belt when it is operated, and which is able to cope with the miniaturization of electronic parts, and to provide a stripe-plated bar and a stripe plating method.
エンドレスマスキングベルトの走行時の横方向位置のばらつきなどがあっても、金属条に部分金めっきを高精度にて且つ高品質にて行なうことができ、ニッケルバリア領域の確実な形成が可能であり、電子部品の小型化に対応することのできるストライプめっき用金属条、ストライプめっきが施されたストライプめっき条、及び、ストライプめっき方法を提供する。 - 特許庁 - The masking tool for coating is characterized in that an iron made press plate 2 with a grip which is superposed on a nickel or copper made mask 1 molded by electrocasting method is placed on an article 3 to be coated and is set on a positioning tool 4 in the bottom side of the article to be held across the mask using magnetic force of a permanent magnet 6 or electromagnet as the set position is kept.
電鋳法によって成形したニッケルあるいは銅のマスク１上に把手付き鉄製押さえ板２を重ね置いて塗装する品物３上に置き、当該品物の底面側の昇降する位置決め具４にセットし、当該セット位置を保って永久磁石６ないし電磁石の磁力を利用してマスクを挟んで保持することを特徴とする冶具。 - 特許庁 - The method for manufacturing the electroopticall device including the molding stage for an electronic component mounted on a display panel is characterized in that a masking member, preferably, a silicone rubber sheet made of silicone resin having surface viscosity is used to protect an alignment mark to be used for positioning of the display panel and other constituent members when molding resin is applied in the molding stage.
表示パネルに実装された電子部品に対するモールド工程を含む電気光学装置の製造方法であって、モールド工程において、モールド樹脂を塗布する際に、当該表示パネルと、他の構成部材との位置合わせに使用するアラインメントマークを保護するように、マスキング部材を用い、好ましくは、表面粘着性を有するシリコーン樹脂から構成されているシリコーンゴムシートを用いる。 - 特許庁 - The method for manufacturing the mobile phone protective cover is implemented by performing the work to form surface resin layers of a rugged form by screen printing using meshes of 150 to 380 pieces/inch respectively longitudinally and transversely in thread density on one or both sides of a transparent resin sheet, and the work to form masking by screen printing within the same steps.
本発明の携帯電話保護カバー用シートの製造方法は、透明樹脂シートの片面または両面に、糸密度が縦横それぞれ１５０〜３８０本／インチのメッシュを用いたスクリーン印刷により凹凸状の表面樹脂層を形成する作業と、スクリーン印刷によりマスキングを形成する作業とを、同じ印刷工程内で行うことによってなされる。 - 特許庁 - The method requires one additional processing step to solve the problem during a plating step, without changing the current manufacturing step of the water supply equipment, nickel-plating step or chromium-plating step at all, and further without devising plating conditions to prevent the inner surface from being nickel-plated or masking a target to be plated to prevent a plating solution from infiltrating inside.
現状の給水器具製造工程やニッケルめっき工程やクロムめっき工程を全く変更することなく、また、ニッケルめっきが内面につきまわらないようにめっき条件を工夫したり、めっき液が内面に入らないように被めっき物にマスキングしたりするなどの手間が必要なく、めっき工程中に１つの処理工程が増えるのみで本課題が解決できる。 - 特許庁 - A method for repairing a workpiece includes the steps providing an unstripped, coated workpiece comprising a surface having a localized damage site; masking the workpiece about the localized damage site; generating a microplasma stream and applying a first powdered material to the localized damage site using the microplasma stream; and applying a second powdered material to the workpiece surface using the microplasma stream.
局部的な損傷部位を有する表面を含む剥離のない被覆されたワークピースを供給すること、局部的な損傷部位についてワークピースをマスキングすること、マイクロプラズマ流を発生すること、マイクロプラズマ流を用いて局部的な損傷部位に第１の粉末材料を適用すること及びマイクロプラズマ流を用いてワークピース表面に第２の粉末材料を適用することを含む、ワークピースを修復する方法。 - 特許庁 - In the method for manufacturing a solar battery having a semiconductor substrate 1 whose surface is formed like a rugged shape, an etching mask 14 is formed by applying a masking agent to a prescribed area on the surface of the semiconductor substrate 1, the mask 14 and the surface of the semiconductor substrate 1 which is not coated with the mask 14 are simultaneously etched to form rugged structure 15 on the surface of the semiconductor substrate 1.
表面が凹凸状に形成された半導体基板１を有する太陽電池を製造する方法であって、半導体基板１の表面の所定領域にマスク剤を塗布してエッチング用マスク１４を形成し、その後、このマスク１４とこのマスク１４に覆われていない半導体基板１の表面とを同時にエッチング処理して、半導体基板１の表面に凹凸構造１５を形成する。 - 特許庁 - The manufacturing method of the silicon carbide semiconductor element includes a step of successively laminating a polysilicon film and an oxide film on a silicon carbide wafer; a step of forming a trench on the silicon carbide wafer by reactive ion etching using these films as a partially open masking material to have the polysilicon film retreated to expose an upper end corner of the trench; and a step of rounding the upper end corner by etching.
炭化珪素ウェハー上にポリシリコン膜と酸化膜を順次積層する工程と、これらの膜を一部が開口したマスク材として反応性イオンエッチングにより炭化珪素ウェハーにトレンチを形成し、ポリシリコン膜を後退させて前記トレンチの上端コーナーを露出させる工程と、エッチングにより前記上端コーナーを丸める工程と、を有する炭化珪素半導体素子の製造方法とする。 - 特許庁 - The method includes a step (100) for generating all or part of dynamic cell identifiers or dynamic location area codes from the static cell identifiers or the static location area codes by means of a masking module (11) integrated in equipment belonging to the architecture of a network under consideration, thereby disabling geographical conversion of a mobile terminal (1) for an outside service other than services authenticated by an operator.
前記方法は、モバイル端末（１）に関して、検討中のネットワークのアーキテクチャに属する装置において統合されるマスキングモジュール（１１）の手段により、静的セル識別子または静的ロケーションエリアコードから、動的セル識別子または動的ロケーションエリアコードの全てまたは一部を生成するステップ（１００）を具備することによって、オペレーターによって認証されたサービス以外の外部サービスに対して地理的変換を不可能にする。 - 特許庁 - To provide a method for producing retort food comprising masking resin smell of a container so as to keep the flavor of food favorable as it is without making the resin smell get into the food, even if a container composed of a multilayer structure having an oxygen-absorbing layer is used for the retort food, and also even if the retort food is stored for a long time.
本発明では、レトルト食品に酸素吸収層を設けた多層構造体からなる容器を用いた場合であっても、容器の樹脂臭をマスキングすることにより、樹脂臭が食品に移ることなく食品の風味が良好のまま維持され、さらにレトルト食品を長期保管したとしても樹脂臭が食品に移ることなく食品の風味が良好なまま維持されているレトルト食品を製造すること、を課題とする。 - 特許庁
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