「Micro-Pattern」を含む例文一覧(363)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 次へ＞- METHOD OF FORMING HIGH ASPECT RATIO NANO STRUCTURE AND METHOD OF FORMING MICRO PATTERN
高縦横比のナノ構造物の形成方法及び微細パターンの形成方法 - 特許庁 - MICROPATTERN FORMING MATERIAL, METHOD FOR FORMING MICRO RESIST PATTERN, AND ELECTRONIC DEVICE
微細パターン形成材料、微細レジストパターン形成方法及び電子デバイス装置 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL DEVICE WITH RESIN THIN FILM HAVING MICRO RUGGED PATTERN
マイクロ凹凸パターンを有する樹脂薄膜を備えた光学素子の製造方法 - 特許庁 - IMAGING ELEMENT HAVING MICRO LENS PROTECTION PATTERN, CAMERA MODULE AND METHOD OF MANUFACTURING SAME
マイクロレンズ保護パターンを有する撮像素子、カメラモジュール、及びその製造方法 - 特許庁 - To provide a micro pattern forming method of a semiconductor element capable of reducing the CD variation of a pattern.
パターンのＣＤ変異を減らすことが可能な半導体素子の微細パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - On the moving portion of each micro actuator, a Lorentz force wiring pattern and a moving electrode wiring pattern are provided.
各マイクロアクチュエータの可動部には、ローレンツ力用配線パターン及び可動電極用配線パターンが設けられる。 - 特許庁 - In the micro bead automatic identification method, and in the image of the circular surface of the micro bead, the pattern matching with the identification pattern is performed by rotating a lattice for detecting the identification pattern based on information about both sides and/or tilting of the micro bead.
このマイクロビーズ自動識別方法では、さらに、マイクロビーズの円形面の画像において、マイクロビーズの裏表及び／又は傾きに関する情報に基づき、識別パターンを検出するための格子を回転させて識別パターンとのパターンマッチングを行う。 - 特許庁 - A mask pattern 27 for forming the micro-mirror formed on the semiconductor substrate 24 is formed in a pentagonal pattern by forming one side of the conventional rectangular mask pattern which becomes a micro- mirror forming section in a broken line.
半導体基板２４上に形成されるマイクロミラー形成用のマスクパターン２７を、従来の長方形マスクパターンにおいてマイクロミラー形成部となる一辺を折れ線とした、五角形のパターンとする。 - 特許庁 - Detection signal levels of the respective micro photoreceiving elements are coupled in response to an array of the micro photoreceiving elements to obtain a signal pattern.
各微小受光素子の検出信号レベルをその微小受光素子の並びに応じてつなぎ合わせ、信号パターンを得る。 - 特許庁 - MOLD, ITS MANUFACTURING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD FOR BASE MATERIAL HAVING TRANSFER MICRO-PATTERN
モールド、その製造方法および転写微細パターンを有する基材の製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING MASK PATTERN, METHOD FOR PATTERNING THIN FILM AND METHOD FOR PRODUCING MICRO DEVICE
マスクパターンの作製方法、薄膜のパターニング方法、及びマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁 - In the micro-bead automatic identifying method, and in the image of the circular surface of the micro-bead, the pattern matching with the identification pattern is performed by rotating a lattice for detecting the identification pattern based on the information about both sides and/or tilting of the micro-bead.
このマイクロビーズ自動識別方法では、さらに、マイクロビーズの円形面の画像において、マイクロビーズの裏表及び／又は傾きに関する情報に基づき、識別パターンを検出するための格子を回転させて識別パターンとのパターンマッチングを行う。 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING A MICRO STRUCTURE AND OPTICAL PATTERN FORMING SACRIFICIAL FILM FORMING COMPOSITION
マイクロ構造体の製造方法及び光パターン形成性犠牲膜形成用組成物 - 特許庁 - SiGe DEVICE INCLUDING SiGe-EMBEDDED DUMMY PATTERN FOR REDUCING MICRO LOADING EFFECT
マイクロローディング効果を軽減するためのＳｉＧｅ埋め込みダミーパターンを備えたＳｉＧｅ装置 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN, METHOD FOR PATTERNING THIN FILM AND METHOD FOR PRODUCING MICRO DEVICE
レジストパターンの作製方法、薄膜のパターニング方法、及びマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁 - To form a micro pattern that is below a resolution limit of lithography and is superior in dimensional controllability.
リソグラフィの解像限界以下の寸法制御性の高い微細パターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a configuration of an SiGe-embedded dummy pattern capable of alleviating a micro-loading effect.
マイクロローディング効果を軽減できるＳｉＧｅ埋め込みダミーパターンの構成を提供する。 - 特許庁 - To provide a micro pattern forming method for easily transferring a pattern with high accuracy from a substrate having a fine uneven pattern to another substrate.
微細な凹凸パターンが形成された基板から、容易に他の基板等に正確なパターン転写を行うことができる微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a micro-embossed sheet capable of surely transferring a precise embossing pattern and continuously transferring an embossing pattern and having a low apparatus cost and the micro- embossed sheet.
精密なエンボスパターンを確実に転写でき、エンボスパターンの連続転写も可能で、装置のコストの低いマイクロエンボスシートの製造方法及びマイクロエンボスシートを提供することにある。 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR FORMING THIN FILM PATTERN, MICRO DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND CROSSLINKING RESIN COMPOSITION
レジストパターンの形成方法、薄膜パターンの形成方法、マイクロデバイス及びその製造方法、並びに架橋性樹脂組成物 - 特許庁 - To provide a new method capable of forming a micro-pattern of high density by a simple process.
簡易な工程で高密度のマイクロパターンを形成することのできる新規な方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING PATTERN ON RESIN SUBSTRATE, AND MANUFACTURING METHOD OF A MICRO-PASSAGE DEVICE USING THE METHOD
樹脂基板へのパターン形成方法及びこの方法を用いたマイクロ流路デバイスの製造方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURING MEMS (MICRO ELECTRO MECHANICAL SYSTEMS) WITH ELECTRON BEAM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
電子線を用いてＭＥＭＳ（ＭｉｃｒｏＥｌｅｃｔｒｏＭｅｃｈａｎｉｃａｌＳｙｓｔｅｍｓ）を製造するためのポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - To easily form a micro metallic pattern at a low cost and in high accuracy while reducing an excessive material.
材料の無駄を少なくし、微細な金属パターンを精度良く、安価で簡単に形成する。 - 特許庁 - The resist 2 is developed and a pattern of a micro lens array is formed on the resist 2 as shown in (c).
レジスト２を現像すると、（ｃ）に示すように、レジスト２にマイクロレンズアレイのパターンが形成される。 - 特許庁 - To form a film onto a desired micro pattern by electrodeposition in a state free from waste.
無駄を省いた状態で、所望とする微細なパターンに電着による膜が形成できるようにする。 - 特許庁 - Micro-deposition of small droplets of fluid material is performed in order to demarcate the characteristic pattern on the substrate.
基板上に特徴パターンを画定するため流体材料の小滴をマイクロデポジションする。 - 特許庁 - To provide a method of forming a three-dimensional micro pattern or a multi-step pattern using a nano imprint process, and to provide a method of manufacturing a mold for forming such a pattern.
ナノインプリント工程を用いて３次元微細パターンや多段パターンを成形する方法とこのようなパターンを成形するためのモールドの製作方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist pattern-forming method which forms a micro resist pattern of at most 100 nm which is excellent in intimate contactability to a substrate.
基板との密着性に優れた１００ｎｍ以下の微細なレジストパターンを形成し得るレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Namely, a crest-like pattern shape having a vertex (starting point) 27a in its central part is adopted to the micro- mirror forming section of the mask pattern 27.
つまり、マスクパターン２７のマイクロミラー形成部には、中央部に頂点（起点）２７ａを有する山型のパターン形状が採用される。 - 特許庁 - To provide an insulating resin film and a micro-pattern forming method on the insulating resin film with excellent mass production aptitude and few material constraint, concerning the insulating resin film of a μ scale micro-pattern.
μ単位の微細パターンを有する絶縁樹脂フィルムに対して、量産性に優れ、材料の制約が少ない絶縁樹脂フィルム及び絶縁樹脂フィルムの微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - This method uses the photomask 1, in which the openings 1a each having a polygonal shape corresponding to the shape of the micro lenses 2 to be formed are arranged in a pattern corresponding to the closest arrangement pattern of the micro lenses 2.
フォトマスク１として、形成するマイクロレンズ２の形状に対応する多角形状の開口部１ａが、マイクロレンズ２の最密配置パターンに対応するパターンで配置されたものを用いる。 - 特許庁 - A pattern is formed of a liquid with as micro particles of metal dispersed in a solvent on the surface of a substrate.
溶媒中に金属微粒子が分散した液体により、基板の表面上にパターンを形成する。 - 特許庁 - OPTICAL ELEMENT WITH THIN RESIN FILM HAVING MICRO-RUGGED PATTERN, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND APPARATUS THEREFOR
マイクロ凹凸パターンを有する樹脂薄膜を備えた光学素子、該光学素子の製造方法及び装置 - 特許庁 - MASK MOLD, ITS MANUFACTURING METHOD AND MOLDING METHOD OF LARGE-AREA MICRO-PATTERN USING MANUFACTURED MASK MOLD
マスクモールド及びその製作方法と、製作されたマスクモールドを用いた大面積・微細パターン成形方法 - 特許庁 - OPTICAL DEVICE WITH RESIN THIN FILM HAVING MICRO UNEVEN PATTERN, AND METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING REFLECTING PLATE
マイクロ凹凸パターンを有する樹脂薄膜を備えた光学素子、反射板の製造方法及び装置 - 特許庁 - As shown in Fig. 1(d), the pattern 12A is removed to complete a micro passage chip 10.
そして、図１（ｄ）に示すように、パターン１２Ａが取り除かれてマイクロ流路チップ１０が完成する。 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING NEW MICRO PATTERN POLARIZING ELEMENT AND THREE DIMENSIONAL LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THE SAME
新規なマイクロパターン偏光素子の製造方法及びこれを用いる立体表示液晶表示装置 - 特許庁 - To stably form a micro-protrusion pattern suitable for an anti-reflection structure.
本発明は、反射防止構造に好適な微細突起パターンを安定的に形成することを可能にする。 - 特許庁 - To provide an electron beam lithography device capable of writing the lattice pitch of a micro diffraction grating pattern with high accuracy.
微細回折格子パターンの格子ピッチを高精度に描画できる電子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an ICL substrate for flexibly coping with the change in the pattern of a micro channel.
マイクロチャネルのパターンの変更に柔軟に対応可能なＩＣＬ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for forming a high precision micro resist pattern coping with the high performance of an electronic component, and to provide a method for forming a wiring pattern.
電子部品の高性能化に対応した高精度な微細レジストパターンの形成方法および配線パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To pattern a shape at a good accuracy for processing when a micro hole pattern like a contact hole in a semiconductor integrated circuit is formed.
半導体集積回路におけるコンタクトホールのような微細穴パターンを形成する場合に、形状を精度良くパターニングし且つ加工すること。 - 特許庁 - To provide a method for forming a resist pattern capable of forming a sufficiently fined thin-film pattern, the method for forming the thin-film pattern and a manufacturing method for a micro-device having a sufficiently increased density.
本発明は、十分に微細化された薄膜パターンを形成することが可能なレジストパターンの形成方法及び薄膜パターンの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method for easily manufacturing a micro phase separation structure film with aligned orientation directions by a large area, and forming a pattern of nanometer scale using the micro phase separation structure film.
配向方向のそろったミクロ相分離構造膜を容易に、大面積で製造することができ、このミクロ相分離構造膜を用いてナノメートルスケールのパターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - PATTERN-SHAPED INSULATING CORPUSCLE FILM AND ELECTRONIC PART USING THE SAME, MICRO-MACHINE, OPTICAL PART AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN-SHAPED INSULATING CORPUSCLE FILM
パターン状の絶縁性微粒子膜およびそれを用いた電子部品、マイクロマシン、光学部品ならびにパターン状の絶縁性微粒子膜の製造方法 - 特許庁 - A shaping channel 10a corresponding to the micro-pattern is formed, for example, as a stripe pattern having a recessed section on an open shaping die 10.
開放成形型１０には微細パターンに対応する成形溝１０ａが例えば凹字状断面でストライプ状のパターンとして形成されている。 - 特許庁 - The micro dot code 603 is formed by encoding information with a dot pattern and the dot pattern is configured to be detected by a specific detecting device.
マイクロドットコード６０３は、ドットパターンにより情報がコード化されたものであり、特定の検出装置によってドットパターンが検出されるようになっている。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a field effect transistor which can be patterned in a micro-pattern without a ferrodielectric material damaged by a conventional pattern lithography system.
通常の加工装置で、パターニングし、強誘電体がダメージを受けない、パターンの微細化ができる電界効果トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The micro regions detected by the position detecting step include a circuit pattern formed in the unit exposure region.
位置検出工程で検出する微小領域は、単位露光領域内に形成された回路パターンを含む。 - 特許庁
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