When a correction mask pattern has the required size, no pattern remains after the computer micrographics-macrographics of the difference graphic pattern, and when the correction mask pattern is larger, a pattern remains after the computer micrographics-macrographics of the difference graphic pattern, accordingly inappropriate correction can be detected. 補正マスクパターンが所望サイズであれば、差分図形パターンを縮小−拡大処理するとパターンが残らず、補正マスクパターンが大きい場合には、差分図形パターンに縮小−拡大処理するとパターンが残るため、不適切な補正を検出可能である。 - 特許庁
A difference graphic pattern 3 is obtained from correction mask pattern data 2 and original mask pattern data 1, and computer micrographics-macrographics 4 and area comparison 5 are performed. 補正マスクパターンデータ2と原マスクパターンデータ1から差分図形パターン3を求め、縮小−拡大図形演算処理4と面積比較処理5を行う。 - 特許庁