「Multiple-exposure」を含む例文一覧(299)
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多重露光装置 - 特許庁 - MULTIPLE BEAM EXPOSURE HEAD
マルチビーム露光ヘッド - 特許庁 - MULTIPLE LAMP EXPOSURE DEVICE
多重ランプ露光装置 - 特許庁 - MULTIPLE LIGHT BEAM EXPOSURE DEVICE
マルチ光ビ—ム露光装置 - 特許庁 - MULTIPLE ILLUMINATION SOURCE EXPOSURE APPARATUS
多照明源露光装置 - 特許庁 - MULTIPLE EXPOSURE DRAWING METHOD AND MULTIPLE EXPOSURE DRAWING APPARATUS
多重露光描画方法及び多重露光描画装置 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING MULTIPLE-EXPOSURE HOLOGRAM AND MULTIPLE-EXPOSURE HOLOGRAM
多重露光ホログラム作製方法及び多重露光ホログラム - 特許庁 - MULTIPLE EXPOSURE LITHOGRAPHY SYSTEM AND MULTIPLE EXPOSURE LITHOGRAPHY METHOD
多重露光描画装置および多重露光描画方法 - 特許庁 - MULTIPLE EXPOSURE LITHOGRAPHY SYSTEM AND MULTIPLE EXPOSURE TYPE LITHOGRAPHY SYSTEM
多重露光描画装置および多重露光式描画方法 - 特許庁 - CAMERA CAPABLE OF MULTIPLE EXPOSURE PHOTOGRAPHY
多重露光撮影可能なカメラ - 特許庁 - MULTIPLE EXPOSURE IMAGE COMPOSITE SYSTEM AND MULTIPLE EXPOSURE IMAGE COMPOSITE METHOD
多重露光画像合成システム及び多重露光画像合成方法 - 特許庁 - EXPOSURE APPARATUS EMPLOYING MULTIPLE EXPOSURE TIMES AND MULTIPLE EXPOSURE TYPES, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
複数回の露光及び複数種類の露光を用いる露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁 - IMMERSION MULTIPLE EXPOSURE METHOD, AND IMMERSION EXPOSURE SYSTEM
液浸多重露光方法及び液浸露光システム - 特許庁 - NEARFIELD LIGHT EXPOSURE METHOD BY MASK MULTIPLE EXPOSURE
マスク多重露光による近接場光露光方法 - 特許庁 - MULTIPLE STAGE MULTIPLE-EXPOSURE LITHOGRAPHIC SYSTEM, AND METHOD FOR INCREASING THROUGHPUT IN MULTIPLE STAGE MULTIPLE-EXPOSURE LITHOGRAPHIC SYSTEM
複数ステージ多重露光リソグラフィシステム、及び複数ステージ多重露光リソグラフィシステムの処理量を増加させる方法 - 特許庁 - MULTIPLE EXPOSURE LITHOGRAPHY SYSTEM AND MECHANISM FOR PREVENTING DEFORMATION OF EXPOSURE REGION OF MULTIPLE EXPOSURE LITHOGRAPHY SYSTEM
多重露光描画装置および多重露光描画装置の露光領域変形防止機構 - 特許庁 - MULTIPLE EXPOSURE LITHOGRAPHY SYSTEM AND MODULATING ELEMENT PROTECTION MECHANISM FOR MULTIPLE EXPOSURE LITHOGRAPHY SYSTEM
多重露光描画装置および多重露光描画装置の変調素子保護機構 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR MULTIPLE PHOTON ABSORPTION EXPOSURE
多光子吸収露光方法および装置 - 特許庁 - To reduce the circuit scale of an exposure head of a multiple exposure system.
多重露光方式の露光ヘッドの回路規模を縮小する。 - 特許庁 - MULTIPLE EXPOSURE METHOD AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM FOR RECORDING MULTIPLE EXPOSURE METHOD PROGRAM
多重露光法及び多重露光法プログラムを記録したコンピュータ読み込み可能な記録媒体 - 特許庁 - MULTIPLE EXPOSURE PHOTOMASK AND ITS LAYOUT METHOD, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING MULTIPLE EXPOSURE PHOTOMASK
多重露光フォトマスク及びそのレイアウト方法、多重露光フォトマスクを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁 - The control part 4 performs multiple exposure until the optimum exposure can be obtained.
制御部４は、適正路光量となるまで多重露光を行なわせる。 - 特許庁 - The exposure machine 60 includes multiple cameras 62a and 62b.
露光機６０は、複数のカメラ６２ａ，６２ｂを含む。 - 特許庁 - PRODUCTION METHOD FOR MULTIPLE SIDED REFLECTION MIRROR, MULTIPLE SIDED REFLECTION MIRROR AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
多面反射鏡の製造方法、多面反射鏡および投影露光装置 - 特許庁 - To provide a digital camera capable of obtaining a multiple exposure photographed image at an appropriate exposure.
デジタルカメラにおいて適正露出での多重露出撮影画像を得ること。 - 特許庁 - To provide an exposure apparatus capable of excellently executing multiple exposure of a substrate.
基板を良好に効率良く多重露光できる露光装置を提供する。 - 特許庁 - SUBSTRATE, LITHOGRAPHY MULTIPLE EXPOSURE METHOD, AND MACHINE READABLE MEDIUM
基板、リソグラフィ多重露光法、機械読み取り可能媒体 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD FOR MULTIPLE EXPOSURE DRAWING
多重露光描画装置および多重露光描画方法 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR MULTIPLE EXPOSURE DRAWING
多重露光描画装置および多重露光描画方法 - 特許庁 - METHOD FOR CREATING PATTERN DATA OF PHOTOMASK FOR MULTIPLE EXPOSURE TECHNIQUE
多重露光技術用フォトマスクのパタンデータ作成方法 - 特許庁 - To provide an imaging device that can perform multiple exposure imaging intended by a photographer and save an original image and a multiple exposure image.
撮影者の意図する多重露出撮影を行って元画像と多重露出画像を保存可能とする。 - 特許庁 - An image decision unit 81 decides whether an image photographed through multiple exposure is the same during multiple exposure photography.
多重露光撮影時に、多重露光撮影した画像が同一か否かを画像判定部８１により判定する。 - 特許庁 - A multiple-exposure lithographic process in which a developed resist pattern derived from a first exposure is present within a second resist layer that is exposed in a second exposure of the multiple-exposure lithographic process.
第１の露光から得られる現像レジストパターンがマルチ露光リソグラフィ工程の第２の露光で露光される第２のレジスト層内に存在するマルチ露光リソグラフィ工程。 - 特許庁 - GENERATION OF SIMULATED LONG EXPOSURE IMAGES IN RESPONSE TO MULTIPLE SHORT EXPOSURE
複数の短時間露光に応答する、シミュレートされた長時間露光画像の生成 - 特許庁 - To provide an immersion multiple exposure method capable of reducing pattern defects in executing multiple exposure; and an immersion exposure system.
多重露光を行う際にパターン欠陥を低減できる液浸多重露光方法及び液浸露光システムを提供することを目的としている。 - 特許庁 - DESIGN PATTERN VERIFICATION METHOD OF PHOTOMASK FOR MULTIPLE EXPOSURE TECHNOLOGY
多重露光技術用フォトマスクの設計パタン検証方法 - 特許庁 - A multiple exposure region 19 to be exposed to light several times is extracted from the exposure region pattern.
露光領域パターンから、光が複数回当たる多重露光領域19を抽出する。 - 特許庁 - To improve throughput without reducing exposure accuracy during multiple exposure.
多重露光を行うにあたり、露光精度を低下させることなく、スループットの向上を図る。 - 特許庁 - The multiple exposure drawing apparatus is equipped with a plurality of exposure units which are arrayed in Y direction.
多重露光描画装置はＹ方向に配列された複数の露光ユニットを備える。 - 特許庁 - To provide a multiple exposure method wherein overlay accuracy is improved.
オーバレイ正確度の向上した多重露光法を提供する。 - 特許庁 - To improve precision of aligning to the pattern under multiple exposure.
多重露光されたパターンへの位置合わせ精度を向上させる。 - 特許庁 - MASK FOR MULTIPLE EXPOSURE, EXPOSURE METHOD BY USE THEREOF, ALIGNER, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE
多重露光を行うためのマスク、該マスクによる露光方法、露光装置、およびデバイス製造方法 - 特許庁 - When a multiple exposure mode is selected a through image 1 is displayed.
多重露光モードが選択されたら、スルー画像１が表示される。 - 特許庁 - To ensure correct exposure in a device for multiple photon absorption exposure irrespective of a position in the depth direction of a multiple photon absorption material.
多光子吸収露光装置において、多光子吸収材料の深さ方向位置に拘わらず、良好な露光を可能とする。 - 特許庁 - MULTIPLE EXPOSURE METHOD, MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION ALIGNER, AND PROJECTION SYSTEM
多重露光方法、マイクロリソグラフィー投影露光装置および投影系 - 特許庁 - To provide a device manufacturing method for performing field-by-field multiple exposure.
フィールド毎の多重露光を行うデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁 - Further, part of the vector data of the exposure coordinate system is extracted and transformed into raster data of the exposure coordinate system to control the exposure by a modulation element, and multiple exposure is performed.
さらに、露光座標系ベクタデータの一部を抽出して、変調素子による露光を制御するための露光座標系ラスタデータに変換し、多重露光を実施する。 - 特許庁 - MULTIPLE EXPOSURE HOLOGRAM, METHOD FOR CREATING THE HOLOGRAM, AND HOLOGRAM CREATING APPARATUS
多重露光ホログラムとそのホログラム作製方法およびホログラム作製装置 - 特許庁 - To solve the problem in multiple exposure, that is, poor accuracy in alignment accuracy measurement and low efficiency.
多重露光ではアライメント精度測定の精度が悪く、効率も低い。 - 特許庁 - To provide an exposure apparatus capable of excellently aligning patterns and highly efficiently performing multiple exposure of a substrate.
パターンどうしを良好に位置合わせでき、基板を効率良く多重露光できる露光装置を提供する。 - 特許庁
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