PHASE SHIFT MASK BLANK, AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK 位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK 位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK 位相シフトマスクおよびその位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT TYPE PHOTOMASK BLANK AND PHASE SHIFT TYPE PHOTOMASK 位相シフト型フォトマスクブランクス及び位相シフト型フォトマスク - 特許庁
The phase shift circuit 211A performs phase shift at 0°, the phase shift circuit 211B performs phase shift at 45° and the phase shift circuit 211C performs phase shift at 90°, and phases are shifted to the phase shift circuit 211H in order in accordance with a rotation angle. 位相シフト回路211Aは0度、位相シフト回路211Bは45度、位相シフト回路211Cは90度とシフトし、順に位相シフト回路211Hまで回転角度に応じてシフトする。 - 特許庁
PHASE SHIFT DIGITAL HOLOGRAPHY DEVICE 位相シフトデジタルホログラフィ装置 - 特許庁
PHASE SHIFT UNIT AND MICROWAVE PHASE SHIFTER 移相ユニット及びマイクロ波移相器 - 特許庁