「PHOTO- MASK」を含む例文一覧(365)
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フォトマスク - 特許庁 - PHOTO MASK, PHOTO MASK BLANK AND PHOTO MASK MANUFACTURING METHOD
フォトマスク、フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法 - 特許庁 - PHOTO MASK MANUFACTURING METHOD
フォトマスク製作方法 - 特許庁 - PHOTO MASK PROTECTIVE FILM MATERIAL
フォトマスク用保護膜材料 - 特許庁 - DISPLAY DEVICE FOR PHOTO MASK DATA
フォトマスクデータの表示装置 - 特許庁 - PHOTO MASK AND SEMICONDUCTOR DEVICE
フォトマスクおよび半導体装置 - 特許庁 - PHOTO-MASK BLANK, PHOTO-MASK, REFLECTIVE MASK BLANK AND REFLECTIVE MASK, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
フォトマスクブランク、フォトマスク、反射型マスクブランクおよび反射型マスク並びにこれらの製造方法 - 特許庁 - CARRYING TOOL OF PHOTO MASK SUBSTRATE AND THE LIKE
フォトマスク基板等の搬送具 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING PHOTO MASK, PHOTO MASK, REFLECTING PLATE, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
フォトマスクの製造方法、フォトマスク、反射板、および液晶表示素子 - 特許庁 - WHITE DEFECT CORRECTION METHOD FOR PHOTO MASK
ホトマスクの白欠陥修正方法 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD FOR CORRECTING PHOTO MASK
フォトマスク修正装置及び方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR SUPPORTING PHOTO-MASK
フォトマスク支持方法及び支持装置 - 特許庁 - ATTACHMENT STRUCTURE OF PELLICLE TO PHOTO MASK
ペリクルのフォトマスクへの取り付け構造 - 特許庁 - EXPOSURE METHOD, PHOTO MASK AND RETICLE STAGE
露光方法、フォトマスクおよびレチクルステージ - 特許庁 - REFLECTIVE PHOTO-MASK BLANK, REFLECTIVE PHOTO-MASK AND EXPOSURE METHOD FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY
反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク及び極端紫外線の露光方法 - 特許庁 - EXPOSURE VALUE EVALUATION METHOD AND PHOTO MASK
露光量評価方法およびフォトマスク - 特許庁 - ALIGNER, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PHOTO-MASK
露光装置、半導体装置およびフォトマスク - 特許庁 - CARRYING ARM AND PHOTO MASK MANUFACTURING APPARATUS
搬送アーム及びフォトマスク製造用装置 - 特許庁 - To provide a method for supporting a photo-mask which prevents the photo-mask from being twisted or distorted.
フォトマスクに捩れや歪みが生じにくいフォトマスク支持方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC HEAD, AND PHOTO-MASK
磁気ヘッドの製造方法及びフォトマスク - 特許庁 - MASK BLANK SUBSTRATE, MASK BLANK, PHOTO MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
マスクブランク用基板、マスクブランク、フォトマスク及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD FOR STORAGE CASE FOR SYNTHETIC QUARTZ GLASS SUBSTRATE FOR PHOTO MASK OR PHOTO MASK BLANK
フォトマスク用合成石英ガラス基板またはフォトマスクブランクの保管ケースの製造方法 - 特許庁 - To align a photo mask at high accuracy.
フォトマスクを高精度に位置合せすること。 - 特許庁 - SALES METHOD AND SALES MANAGEMENT SERVER FOR MASK DESIGN DATA OF PHOTO MASK
フォトマスクのマスク設計データの販売方法および販売管理サーバ - 特許庁 - GRAY TONE BLANK MASK, GRAY TONE PHOTO-MASK, AND THEIR MANUFACTURING METHOD
グレートーンブランクマスク及びグレートーンフォトマスク並びにそれらの製造方法 - 特許庁 - PROCESSING METHOD OF PHOTO-MASK DATA USING HIERARCHICAL STRUCTURE, PHOTO-MASK DATA PROCESSING SYSTEM, AND MANUFACTURING METHOD
階層構造を用いたフォトマスクデータの処理方法、フォトマスクデータ処理システム、および、製造方法 - 特許庁 - PHOTOMASK BLANK, PHOTO MASK AND SUBSTRATE REPRODUCTION METHOD
フォトマスクブランク、フォトマスクおよび基板再生方法 - 特許庁 - In a second method, a photo-mask is deposited and patterned to form an opening in the photo-mask.
第２の方法では、フォトマスクを堆積させ、フォトマスクに開口部を生成するためにパターン化する。 - 特許庁 - COLOR FILTER AND PHOTO MASK USED FOR MANUFACTURING THE SAME
カラーフィルタおよびその製造に用いるフォトマスク - 特許庁 - PHOTO-MASK IDENTIFYING DEVICE AND ITS METHOD
フォトマスク識別装置およびフォトマスク識別方法 - 特許庁 - PHOTO MASK AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME
フォトマスク及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - REFLECTION TYPE PHOTO MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
反射型フォトマスクブランクおよびその製造方法 - 特許庁 - PHOTO MASK FOR MANUFACTURING THIN FILM TRANSISTOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
薄膜トランジスタ液晶表示装置製造用フォトマスク - 特許庁 - MASK FOR CHANGING LIGHTNESS PROFILE OF PHOTO COPYING
写真複写の明度プロファイルを変更するためのマスク - 特許庁 - PATTERN LAYOUT METHOD FOR PHOTO-MASK FOR PATTERN TRANSFER AND METHOD OF MANUFACTURING PHOTO-MASK FOR PATTERN TRANSFER AND SEMICONDUCTOR DEVICE
パターン転写用フォトマスクのパターンレイアウト方法、パターン転写用フォトマスクおよび半導体装置の製造方法 - 特許庁 - CAD DATA CONVERTING METHOD FOR PREPARING PHOTO MASK
フォトマスクを作成する際のＣＡＤデータ変換方法 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PHOTO MASK, AND ALIGNMENT INSPECTION MARK
半導体装置の製造方法、フォトマスク、合わせ検査マーク - 特許庁 - TRANSFER METHOD OF RESIST PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF PHOTO MASK
レジストパターンの転写方法及びフォトマスクの製造方法 - 特許庁 - PHOTO MASK, EXPOSURE METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
フォトマスク、露光方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - To provide a photo mask which allows an isolated pattern hole to sufficiently receive light so as to make up for the insufficiency of the light, and to provide a method for fabricating the photo mask.
孤立したパターンホールの受光不足を補うことができるフォトマスク及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a sample holder capable of discharging a photo mask during the conveyance, measurement and inspection of the photo mask without pressing a press member against a surface and back sides of the photo mask.
本発明は、ホトマスクの表裏面に押圧部材を押し当てることなく、ホトマスクの搬送及び測定，検査時に、当該ホトマスクの除電を行う試料保持装置の提案を目的とする。 - 特許庁 - MANAGEMENT METHOD OF MASK DRAWING DATA MAKING ITS DATA PROCESSING SYSTEM AND MANUFACTURING METHOD OF PHOTO- MASK
マスク描画データ作成管理方法、データ処理システムおよびフォトマスクの製造方法 - 特許庁 - METHOD OF CORRECTING MASK PATTERN, PHOTO MASK, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
マスクパターンの補正方法、フォトマスク、半導体装置の製造方法、および半導体装置 - 特許庁 - The resist mask having the three-step thickness is formed by, for example, a four-gradation photo mask.
３段階の厚さを有するレジストマスクは、例えば、４階調のフォトマスクにより形成する。 - 特許庁 - To provide a mask blank which can definitely prevent an alkali metal from spreading to a surface of a glass substrate, a method for producing a photo mask, and a photo mask.
アルカリ金属のガラス基板の表面への拡散を確実に防止することができるマスクブランクス、フォトマスクの製造方法及びフォトマスクを提供すること。 - 特許庁 - The exposure light is radiated onto the photo mask from the mask pattern side, and the exposure light reflected by the photo mask is radiated onto the substrate.
前記フォトマスクに対し前記マスクパターン側から前記露光光を照射するとともに、前記フォトマスクで反射された露光光を前記基板に照射する。 - 特許庁 - GELATIN HARDENING SOLUTION, HARD COATING LIQUID, PHOTO MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD
ゼラチン硬化液、ハードコート液、フォトマスクおよびその製造方法 - 特許庁 - PHOTO MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN FORMED BODY USING THE SAME
フォトマスク及びこれを用いたパターン形成体の製造方法 - 特許庁 - To provide a pellicle separable from a photo mask by easily removing an adhesive layer from between the photo mask and a pellicle frame.
フォトマスクとペリクルフレームの間から、粘着剤層を容易に除去し、フォトマスクから剥離することができるペリクルを提供する。 - 特許庁 - To provide an attachment structure of a pellicle to a photo mask allowing the pellicle to be easily peeled off from the photo mask while inhibiting generation of gas from the pellicle.
ペリクルからの発ガスを抑制し、フォトマスクからペリクルを簡単に剥がせるペリクルのフォトマスクへの取り付け構造を提供すること。 - 特許庁
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