「PLUME」を含む例文一覧(124)
＜前へ 1 2 3- A wavelength band of 350-450 nm showing the behavior of a plume is taken out of the plasma beam incident on the sensor, and the piercing and non-piercing of the material 1 to be welded are grasped from the dispersion of the intensity signal obtained at this time.
上記センサ３に入射するプラズマ光から、プルームの挙動を示す３５０〜４５０ｎｍの波長帯を取り出すと共に、このときに得られた強度信号の分散から被溶接材１の貫通、非貫通を把握する。 - 特許庁 - A bias current adjustment part 903 adjusts a bias current for controlling the microwave generator 20 so that the temperature of the plume P measured by a thermocouple 38 keeps a target temperature range to adjust the power of microwave.
バイアス電流調整部９０３は、熱電対３８により測定されたプルームＰの温度が目標温度範囲を保つように、マイクロ波発生装置２０を制御するためのバイアス電流を調整して、マイクロ波のパワーを調整する。 - 特許庁 - The control unit CU selects a first operation mode or a second operation mode based on the states of the workieces, and controls the temperature and the irradiation time of the gas in the plume P applied to the workpieces from the plasma generating unit.
そして、制御ユニットＣＵは、前記ワークの状態に基づいて、第１運転モードまたは第２運転モードを選択し、プラズマ発生ユニットＰＵからそのワークに照射するプルームＰのガスの温度及び照射時間を制御する。 - 特許庁 - A circuit protection device includes a plasma gun 412 configured to generate a plasma plume, capacitors 210, 212 configured to store electrical energy, and a trigger circuit 304 communicatively coupled to the plasma gun 412 and the capacitors 210, 212.
プラズマプルームを発生するように構成されたプラズマ銃４１２と、電気エネルギーを蓄積するように構成されたキャパシタ２１０、２１２と、プラズマ銃４１２およびキャパシタ２１０、２１２に通信結合されたトリガ回路３０４とを含む回路保護デバイスである。 - 特許庁 - To obtain an infrared target detector for performing discrimination quickly for priority of a target approaching the self by utilizing time change characteristics of spectral radiation characteristics of a rocket plume emitted from a target missile.
目標となる飛しょう体から発せられるロケットプルームの分校放射特性の時間的変化特性を利用して、自己に対して接近する目標の優先度について、短時間で弁別する赤外線目標検出装置を得ることを目的とする。 - 特許庁 - A large amount of Si free radical (10^14/cm^3) 3 generated by laser plume is reacted with Si free radical and an SiH plasma field generated by the plasma CVD to form the nanocrystal on a substrate 4.
そして、レーザープルーム（ｌａｓｅｒ ｐｌｕｍｅ）で生成された大量のＳｉ^＊（１０^１４／ｃｍ^３）３を、上述のプラズマＣＶＤによって生成されたＳｉ^＊、ＳｉＨプラズマ場と反応させることによって、基板４上にナノ結晶を生成させる。 - 特許庁 - By moving the target material at the prescribed patterns while invariably maintaining the optical path of the laser beam, the plume 228 having fixed properties is stably generated with high reproducibility, and uniform film deposition is made possible.
本発明によれば、レーザビームの光学的経路を不変に維持しつつ、ターゲット材料を所定のパターンで動かすことで、一定の性質を有するプルーム２２８を再現性良く安定的に発生させ、均質な成膜を行うことが可能になる。 - 特許庁 - The synthetic magnetic field 17 inhibits particles associated with film formation contained in plasma 10 and a plume 11, in other word, the film material, from flying onto the surface of the optical window 4, to reduce the amount of the film material which reaches the optical window 4.
そして、その合成磁場１７によって、プラズマ１０やプルーム１１などに含まれる膜形成に関与する粒子、つまり膜物質が光学窓４の表面へ飛来することを抑え、光学窓４に着く膜物質を低減させる。 - 特許庁 - The light intensity of plasma emission emitted in a laser welding part or light emission emitted from a plume is detected by a light sensor, and an optimum pulse modulated frequency is determined based on the summation of time with emission intensity equivalent to a threshold value or below, or the frequency of the appearance of the emission intensity equivalent to the threshold value or below.
レーザ溶接部で形成されるプラズマ発光、あるいは、プルームから発生する発光の発光強度を光センサで検出し、発光強度が閾値以下となる時間帯の総和あるいは出現頻度から最適なパルス変調周波数を決定する。 - 特許庁 - After acquiring an initial target, a caloric histogram in an imaging visual field is measured from an infrared image (S1), and a heat source in the visual field is observed (S2), and a passive image by rocket plume of the target is detected distinctively from the background image, and acquired as the initial target (S3).
初期目標捕捉後、赤外線画像から撮像視野内の熱量ヒストグラムを計測して（Ｓ１）視野内の熱源を観測し（Ｓ２）、目標のロケットプルームによるパッシブ画像を背景画像と区別して検出して、初期目標として捕捉する（Ｓ３）。 - 特許庁 - To provide a plasma generating device used for treatment of a work such as reforming of a substrate in which, when a plurality of plasma generating nozzles are attached to a waveguide and respond to treatment of the treating work of a large area, uniform and stabilized plume is enabled to be obtained from each plasma generating nozzle.
基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、導波管にプラズマ発生ノズルが複数個取付けられ、大面積の被処理ワークの処理に対応するにあたって、各プラズマ発生ノズルから均一で安定したプルームを得られるようにする。 - 特許庁 - A laser plume beam (light generated as a result that the tooth tissue is made into plasma when irradiated with the laser) occurring when a tooth tissue is irradiated with laser light through an optical fiber is transmitted to a spectroscope 10 by using the optical fiber 4 which does not transmit laser beams to project a spectrum image on an image sensor 8.
歯組織に光ファイバーを通してレーザが照射された際に発生するレーザプルーム光（レーザ照射時に歯組織がプラズマ化し発生する光）を、レーザ光を透過しない光ファイバー４を用いて分光器１０に伝送し、イメージセンサ８上にスペクトル像を写しだす。 - 特許庁 - To provide an apparatus for adequately barrel-plating an article to be plated by inhibiting foreign materials from depositing on the article, by sufficiently stirring a plating solution in a plating tank while preventing plating failure from occurring due to a plume of the articles risen in a barrel and consequent insufficient energization to the article.
バレル内の被めっき物が舞い上がり、被めっき物への通電が不十分になってめっき不良が発生することを防止しつつ、めっき槽内のめっき液を十分に撹拌して異物の堆積をなくし、良好なバレルめっきを行うことを可能にする装置の提供。 - 特許庁 - To improve the radiation of infrared ray of the plume produced from an exhaust device of an infrared ray emitting device releasing the infrared ray when the infrared ray induction flying object comes, so that the radiation of infrared ray is increased when it is observed from a rear part of the exhaust device, and the deceptive effect is increased.
赤外線誘導飛しょう体が飛来した際に放出される赤外線発光装置において、その排気装置から形成されるプルームの赤外線放射が、排気装置後方から見た時赤外線放射量が大きく、欺瞞効果が大きくなるよう改善すること。 - 特許庁 - When a solder member is fusion-adhered to a surface Wa to be soldered of a workpiece W, the improvement of the surface Wa to be soldered is first performed by irradiating a region including the surface Wa with plume P which is the gas made into a plasma from a plasma generation nozzle 20.
ワークＷのはんだ被着面Ｗａに対してはんだ部材を溶融接着させるに際し、先ず被着面Ｗａを含む領域に対してプラズマ発生ノズル２０からプラズマ化されたガスであるプルームＰを照射して被着面Ｗａの表面改質を行う。 - 特許庁 - A welding head 10 includes a contact chip 14 wherein a welding wire 12 for applying arc welding is fed to a part 20 of a work W preheated by a heating source from an opening at the tip thereof, and it is provided with a plume shielding plate 18 provided adjacent to the contact chip 14.
加熱源によって予め加熱されたワークＷの部分２０に対して、アーク溶接を実行するための溶接ワイヤ１２を先端の開口から送出するコンタクトチップ１４を備える溶接ヘッド１０において、コンタクトチップ１４近傍に設けられたプルーム遮蔽板１８を有する。 - 特許庁 - A PWM control part 901 adjusts the duty ratio of PWM signal for controlling a microwave generator 20 so that the light quantity of plume P released from a plasma generating nozzle 31 which is measured by a light quantity sensor 39 keeps a target light quantity range to adjust the power of microwave.
ＰＷＭ制御部９０１は、光量センサ３９により測定されたプラズマ発生ノズル３１から放出されるプルームＰの光量が目標光量範囲を保つように、マイクロ波発生装置２０を制御するためのＰＷＭ信号のデューティー比を調整して、マイクロ波のパワーを調整する。 - 特許庁 - The optimum waveform and frequency of the output modulation are determined in such a manner that the condition, at which emission intensity becomes a threshold value or lower, is detected and controlled so as to become the smallest in the specific phase of the output modulation waveform by setting a threshold value for temporal change in emission intensity of the plasma or plume.
プラズマもしくはプルームの発光強度の時間変化にしきい値を設定し、発光強度がしきい値以下になる状態を検出することにより、この状態が出力変調波形の特定の位相において最小となるように、出力変調の最適波形と最適周波数とを決定する。 - 特許庁 - To provide a continuous casting apparatus for casting a continuously-cast bar of an aluminum alloy having excellent machinability and forgeability in which the frequency of occurrence of plume-like crystal is suppressed in the longitudinal direction of the continuously-cast bar, the alloy is mostly occupied by columnar crystal and/or granular crystal, and the diversion of the grain size is unified.
連続鋳造棒の長手方向における羽毛状晶の発生頻度を抑えて柱状晶及び／又は粒状晶がほとんどを占め、かつ、結晶粒径のバラツキを均一化させて優れた機械加工性、鍛造性を有するアルミニウム合金の連続鋳造棒を鋳造する連続鋳造装置を提供する。 - 特許庁 - On the other hand, the stub control part 902 keeps stubs 701 to 703 to rise and set up to a prescribed rising and setting length in which impedance matching can be made between a waveguide 10 and the plasma generating nozzles 31, after it is detected by the photo acceptance units 101a to 101h that the plume P is emitted from all the plasma generating nozzles 31.
一方、スタブ制御部９０２は、全てのプラズマ発生ノズル３１からプルームＰが放出されたことが受光素子１０１ａ〜１０１ｈにより検出された後は、導波管１０とプラズマ発生ノズル３１とのインピーダンス整合を図ることができる規定出没長まで、スタブ７０１〜７０３を出没させる。 - 特許庁 - Therefore, weak voltage and/or current obtained by the photoelectric conversion is hardly affected by microwave noise, and accurately converted into output for control or display, control and display accurately reflecting a lighting status of plasma can be provided, so that a stable plume can be obtained.
したがって、光電変換によって得られた微弱な電圧および／または電流は、マイクロ波ノイズの影響を受けることなく、制御のための出力や表示のための出力などに正確に変換されるので、プラズマの点灯状態を正確に反映した制御や表示が可能になり、安定したプルームを得ることができる。 - 特許庁 - In this infrared ray emitting device for protecting an aircraft from the flying object by the induction of infrared ray, a member having an air inlet hole 3 is mounted on the exhaust device, whereby the secondary combustion effect of the released infrared ray radiative product can be increased, and a combustion temperature is raised, and further the high infrared ray is radiated by enlarging a diameter of the plume.
赤外線誘導による飛しょう体から航空機を防御する赤外線発光装置において、排気装置に空気取り入れ孔３を有した部材６を備えることにより放出される赤外線放射生成物の２次燃焼効果を高めることで燃焼温度が高くなり、またプルームの径を大きくすることで高赤外線を放射する。 - 特許庁 - When a target material is instantaneously evaporated by irradiating a target 2 in a chamber 1 with pulse laser beams 4, and a thin film of an evaporation material is deposited on a substrate 3 facing the target, the size and the shape of the plume 5 generated when irradiating the target 2 with the laser beams 4 are acquired in a matrix form as digital information of the light intensity.
チャンバー１内のターゲット２にパルスレーザ光４を照射することでターゲット材料を瞬間的に蒸発させ、相対する基板３上に蒸発材料の薄膜を成長させる際に、ターゲット２にレーザ光４を照射した時に発生するプルーム５の大きさおよび形状を、光強度のデジタル情報としてマトリックス状に取得する。 - 特許庁 - By applying pulse electron beams to a target 22 made of a group III metal or a group III-V compound to a nitrogen gas atmosphere, high kinetic energy can be given to atoms or molecules for composing the target as compared with a case where pulse laser beams are applied, and the plume of the atoms of a group III metal or the molecules of a group III-V compound can be formed in a wide range.
窒素ガス雰囲気でＩＩＩ族金属又はＩＩＩ−Ｖ族化合物からなるターゲット２２にパルス電子線を照射することにより、パルスレーザ光を照射する場合に比べてターゲットを構成する原子又は分子に高い運動エネルギーを与えることができ、ＩＩＩ族金属の原子又はＩＩＩ−Ｖ族化合物の分子のプルームを広い範囲で形成することができる。 - 特許庁
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