「PST」を含む例文一覧(59)
＜前へ 1 2- A substrate stage PST has a plurality of screw units 83 each including a push screw 81 which pushes up the upper surface of the substrate holder PH by pressing the lower surface thereof, and a draw screw 82 for making a dent in the upper surface of the substrate holder PH by drawing the substrate holder PH to a fine motion stage 21.
基板ステージＰＳＴは、基板ホルダＰＨの下面を押圧して基板ホルダＰＨの上面を上方に押し上げる押しネジ８１と、基板ホルダＰＨを微動ステージ２１に引き寄せることにより基板ホルダＰＨの上面をへこませる引きネジ８２と、を含むネジユニット８３を複数有している。 - 特許庁 - A substrate stage PST to support the substrate P, a liquid-supplying apparatus 1 to supply the liquid 50 to an image face side of the projection lens system PL, and a focus-leveling detection system 14 to detect an face information of the surface of the substrate P, without going through the intermediary the liquid 50 via are provided.
基板Ｐを保持する基板ステージＰＳＴと、投影光学系ＰＬの像面側に液体５０を供給する液体供給装置１と、基板Ｐ表面の面情報を液体５０を介さずに検出するフォーカス・レベリング検出系１４とを備えている。 - 特許庁 - After a conveyed substrate 2 is clamped by a pair of clamping members 25a, and before the clamped substrate 2 is brought into contact with the mask 15, a paste Pst is supplied to the region Rg on the mask 15, which is to be brought into contact with the clamping members 25a when the substrate 2 is brought into contact with the mask 15.
搬入した基板２を一対のクランプ部材２５ａによりクランプした後、そのクランプした基板２をマスク１５に接触させる前に、基板２をマスク１５に接触させた場合にクランプ部材２５ａと接触することとなるマスク１５上の領域ＲｇにペーストＰｓｔを供給する。 - 特許庁 - A substrate P is held by a substrate holder PH on a substrate stage PST, an immersed region AR2 is formed on the image plane side of the projection optical system PL by using a liquid 1 supplied from a liquid supplying mechanism 10, and the substrate P is exposed by exposure light EL via the projection optical system PL and the immersed region AR2.
基板ステージＰＳＴ上の基板ホルダＰＨに基板Ｐを保持し、液体供給機構１０から供給される液体１を用いて投影光学系ＰＬの像面側に液浸領域ＡＲ２を形成し、露光光ＥＬで投影光学系ＰＬと液浸領域ＡＲ２とを介して基板Ｐを露光する。 - 特許庁 - In the case where a speed reduction command is detected, a line pressure correction value dPSt computed by a line pressure correction value computing unit 69 is added to the line pressure command value PSt computed by the target secondary hydraulic computing unit 63, and that value is set as a value to be output to the secondary hydraulic control unit 65 in a step 210.
一方、減速指令がある場合には、ステップ２１０にて、目標セカンダリ油圧演算部６３にて算出されたライン圧指令値ＰＳｔに、ライン圧補正演算部６９にて算出されたライン圧補正値ｄＰＳｔを加算し、その値を、セカンダリ油圧制御器６５に出力する値として設定する。 - 特許庁 - The touch pressure of the nozzle is raised after mold clamping though a nozzle touch molding mode is selected (regardless of YES in ST04) when the mold clamping oil pressure Pst set by an oil pressure setting element is less than a preset oil pressure threshold value Ph (NO in ST06).
油圧設定子で設定した型締油圧Ｐｓｔが、予め設定した油圧閾値Ｐｈを下回ったとき（ＳＴ０６でＮＯであるとき）に、ノズルタッチ成形モードが選択されているにも拘わらず（ＳＴ０４でＹＥＳであるにも拘わらず）、ノズルのタッチ圧上昇は、型締後に実施することを特徴とする。 - 特許庁 - The exposure device EX for irradiating an exposure light EL on a substrate P through the liquid LQ for exposing the substrate P has a substrate holder PH that holds the substrate P; a substrate stage PST that is movable with a substrate P held on the substrate holder PH; and a temperature control system 60 that regulates the temperature of the substrate holder PH.
露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して、基板Ｐを露光するものであって、基板Ｐを保持する基板ホルダＰＨを有し、この基板ホルダＰＨに基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージＰＳＴと、基板ホルダＰＨの温度調整を行う温調システム６０とを備えている。 - 特許庁 - This projection aligner EX has a substrate stage PST that moves the substrate P in the optical-axis direction of the projection optical system PL during exposure, and a controlling device CONT that sets at least one of a position in a Z direction on the substrate P and the travel amount for moving the position during exposure for each exposure of the plurality of patterns PA.
露光装置ＥＸは、露光中に投影光学系ＰＬの光軸方向に基板Ｐを移動させる基板ステージＰＳＴと、複数のパターンＰＡのそれぞれの露光毎に、基板ＰのＺ方向の位置と、この位置を露光中に移動させる移動量との少なくとも一方を設定する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。 - 特許庁 - An electrolyte solution for a lithium ion capacitor according to the present invention includes: a solvent including one or more kinds of compounds selected from one or more cyclic carbonate compounds; and an additive including one or more kinds of materials selected from the group consisting of catechol carbonate (CC), fluoro ethylene carbonate (FEC), propane sultone (PS), and propene sultone (PST).
本発明によるリチウムイオンキャパシタ用電解液は、１種以上の環状カーボネート化合物から選ばれる１種以上の化合物を含む溶媒と、カテコールカーボネート（Ｃａｔｅｃｈｏｌ Ｃａｒｂｏｎａｔｅ；ＣＣ）、フルオロエチレンカーボネート（Ｆｌｕｏｒｏ Ｅｔｈｙｌｅｎｅ Ｃａｒｂｏｎａｔｅ；ＦＥＣ）、プロパンスルトン（Ｐｒｏｐａｎｅ Ｓｕｌｔｏｎ；ＰＳ）及びプロペンスルトン（Ｐｒｏｐｅｎｅ Ｓｕｌｔｏｎ；ＰＳＴ）からなる群から選ばれる１種以上の物質を含む添加剤と、を含むことができる。 - 特許庁
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