「Pattern Is Movement」を含む例文一覧(195)

<前へ 1 2 3 4 次へ>
  • A formation position of a sub-pattern SP(LM) for a light magenta ink (LM) is present at the center side of a paper S more than a formation position of a sub-pattern SP(M) for a magenta ink (M) in a movement direction.
    ライトマゼンタインク(LM)についてのサブパターンSP(LM)の形成位置は、移動方向において、マゼンタインク(M)についてのサブパターンSP(M)の形成位置(よりも用紙Sの中央側にある。 - 特許庁
  • A provisional registration unit 242 provisionally registers a suspicious person flag in association with the personal ID in the biological information DB 22 if an area pattern of the personal ID in the area movement history DB 20 is a behavior pattern of a suspicious person.
    仮登録部242は、エリア移動履歴DB20の人物IDのエリアのパターンが、不審者の行動パターンである場合、生体情報DB22の人物IDに対応付けて不審者フラグを仮登録する。 - 特許庁
  • Lateral movement of small drops is decided in a manner that the small drops are moved in a desired direction along a nano structure feature pattern by at least one characteristic of the nano structure feature pattern.
    小滴の横方向の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも1つの特性によって、小滴がナノストラクチャ・フィーチャ・パターンに沿って所望の方向に移動するように決定される。 - 特許庁
  • When the user makes a lock, the movement according to the unique pattern is needed and the sound is generated during the locking, so the portable apparatus can detect whether the lock is made from the two events.
    ユーザが施錠する際には、独特のパターンの動作を要するし、施錠時には音が発せられるので、携帯機器は、この2つの事象により施錠の有無を検知することできる。 - 特許庁
  • To prevent movement of a conducting film pattern when a BPSG film is subjected to reflow in a method for manufacturing a semiconductor element wherein a multilayer structure is flattened by using a silicate glass layer.
    シリケートガラス層を用いて多層構造を平坦化させる半導体素子の製造方法において、BPSG膜をリフローしても伝導膜パターンが移動しないようにする。 - 特許庁
  • Then, since an angle to the display screen of an LCD panel 213 is varied with the movement of a position where the picture pattern 403 is stuck, on the 3D object 401, display is controlled so that the position and shape of the picture pattern 403 can be varied.
    すると、3次元物体401上の図柄403を貼り付けている位置の移動に伴い、LCDパネル213の表示面に対する角度が変動するため、図柄403の位置及び形状が変動するように表示制御される(c)。 - 特許庁
  • To provide a droplet discharge apparatus in which the productivity of a pattern comprising liquid droplets is improved by improving the movement performance of a droplet discharge means.
    液滴吐出手段の移動性能を向上させて、液滴からなるパターンの生産性を向上させた液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a pattern matching method and device for acquiring image similarity which is highly resistant to parallel movement and scale change (enlargement/reduction).
    平行移動、スケール変化(拡大/縮小)に対する耐性の高い画像類似度が得られるパターンマッチング方法及び装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • A movement amount modifier modifies the movement amount T of the embroidery pattern image displayed on the liquid crystal display 22 based on the zoom rate M specified by a zoom rate specifier when a transfer key for inputting the transfer of the embroidery pattern image is operated on the liquid crystal display.
    移動量変更部は、この液晶ディスプレイ上で刺繍模様画像の移動を入力するための移動キーが操作されると、表示倍率設定部で設定された表示倍率Mに応じて液晶ディスプレイ22に表示されている刺繍模様画像の移動量Tを変更する。 - 特許庁
  • The bias magnet 10 moves with the movement of the polarized body 80, and the distance of separation of the bias magnet 10 from the magneto-resistance pattern 93 is changed in such a way that the intensity of the bias magnetic field to the magneto-resistance pattern 93 is changed according to its moving location.
    バイアス磁石10は着磁体80の移動と共に移動してその移動位置に応じて磁気抵抗パターン93へのバイアス磁界の強さを変化するように磁気抵抗パターン93との離間距離を変化する。 - 特許庁
  • As a result of movement of sensors 301-305 across the surface, there is produced at least one signal pattern 401c, 403c, 405c, 501c, 502c, or 504c corresponding to a detection of a dimension of the interference pattern 310.
    センサ301〜305が表面上を移動する結果として、干渉パターン310の寸法の検出に対応する少なくとも1つの信号パターン401c、403c、405c、501c、502c、504cが生成される。 - 特許庁
  • On the basis of the computed movement amount in the transverse direction and on the basis of the time difference between the previously prepared reflection intensity pattern and the recently prepared reflection intensity pattern, the relative speed in the transverse direction of the preceding vehicle A is computed.
    この算出した横方向の移動量と、前回作成した反射強度パターンと今回作成した反射強度パターンの時間差分とにより、先行車両Aの横方向相対速度を算出する。 - 特許庁
  • When the moving pattern is determined to perform unstable movement by the shake determination part 3, a moving image (g) acquired by the rear-side imaging part 1b is recorded by being changed over therefrom.
    動画記録中に、ブレ判定部3によって動きパターンが不安定な動きを行うと判定された場合、後方撮影部1bによって取得した動画(g)に切り替えて記録する。 - 特許庁
  • Afterwards, an emboss plate is prepared based on the hairline pattern for emboss working, and emboss working is carried out so that a cosmetic sheet capable of developing gloss equivalent to that of the carbon cross and the movement of gloss can be obtained.
    その後、このエンボス加工用万線パターンに基づいてエンボス版を作成し、エンボス加工すれば、カーボンクロスと同等の光沢、及び光沢の移動を発現できる化粧シートが得られる。 - 特許庁
  • The delivery direction 542 of the pattern forming material is directed from the delivery port 541 to the substrate 9 side and, at the same time, is directed to the back side of relative movement of the nozzle 54 to the substrate 9.
    パターン形成材料の吐出方向542は、吐出口541から基板9側に向かうとともノズル54の基板9に対する相対移動の後側へと向かう。 - 特許庁
  • In addition, when the lottery for the movement of the shutter is won, the time for the shutter 62 to return to the supply position from the supply stop position is determined according to the kind of the ready-for-win pattern.
    また、シャッター移動抽選に当選した場合にはシャッター62を供給停止位置から供給位置に復帰させるまでの時間がリーチパターンの種類に応じて決定される。 - 特許庁
  • By this movement, as shown in Fig. 5 (b), the pattern 7 positioned on the non-display surface D is moved counterclockwise, and reaches the display surface C to visualize to a player.
    この移動により、図5(b)に示すように、非表示面Dにあった図柄(7)は、反時計方向に移動して、表示面Cに達し、遊技者に視認可能となる。 - 特許庁
  • Also, the integrated adapter is installed in the claw of the scroll chuck in such a pattern as to be held in the direction of movement of the claw of the scroll chuck and to cover the claw.
    また、スクロールチャックの爪に、スクロールチャックの爪が移動する方向に挟み込む形状で、かつ爪を覆う形状の一体化したアダプタを取り付けるようにしたものである。 - 特許庁
  • The pattern of background moving on a display screen is displayed by displaying the aspect of the movement of the object OH in the world coordinate system based on the viewpoint SP.
    このワールド座標系内でのオブジェクトOHの移動の様子を視点SPに基づいて表示することにより、表示画面上で移動する背景の模様を表示する。 - 特許庁
  • The speed pattern upon the acceleration and deceleration of the trolley is acquired on the basis of a motion equation for a deviation angle of the suspended load upon the movement of the trolley.
    トロリーの目標位置と移動量との位置偏差が減速開始距離に等しくなった時点からトロリーの減速を開始し、高精度な位置決めを可能にする。 - 特許庁
  • In the roller part, an electrode pattern composed of a plurality of electrodes 41, 42 and 43 arranged along a surface movement direction by rotation in a pitch of p[μm] is formed.
    ローラ部には、回転による表面移動方向に沿ってp[μm]のピッチで配列された複数の電極41、42、43・・・からなる電極バターンが形成されている。 - 特許庁
  • The movement of the before hardening die paste 9 by surface tension is suppressed by the pattern 6, and as a result, the generation of cavity under the chip can be completely removed or minimized.
    パターン6により、表面張力による硬化前のダイペースト9の移動が少なく抑えられ、その結果、チップ下における空洞の発生が完全に又は極小になる。 - 特許庁
  • Then, The bleeding in the design pattern is prevented by suppressing the fluidity of the rest clear coating after coating and by suppressing a movement of the aqueous ink to the clear layer 2.
    また、塗装後に静止した状態のクリア塗料の流動性を抑制し、クリア層2への水性インクの移動を抑制して、意匠模様の滲みを防止することができる。 - 特許庁
  • Thereafter, bonding errors are calculated using the positional information on the pattern for positional correction, and then the amount of movement of the bonding head 2 at the time of bonding is corrected based on the bonding errors.
    そして、位置補正用パターンの位置情報を用いて、ボンディング誤差を演算し、このボンディング誤差を用いて、ボンディング時のボンディングヘッド2の移動量を補正する。 - 特許庁
  • By displaying the situation of the movement of the object OH inside the world coordinate system based on the view point SP, the pattern of a background moved on a display screen is displayed.
    このワールド座標系内でのオブジェクトOHの移動の様子を視点SPに基づいて表示することにより、表示画面上で移動する背景の模様を表示する。 - 特許庁
  • An output signal having a prescribed output pattern against the lapse of a time is outputted as the movement of a mobile member 112 of an output part 11, and a response pattern that an individual responds to the prescribed output pattern when the output signal is outputted by the output part 11 is detected by a detecting part 12, and the detected response pattern is stored in a storage part 13.
    時間の経過に対して所定の出力パターンを有する出力信号が出力部11の可動部材112の動きとして出力され、この出力部11が出力信号を出力しているときに上記所定の出力パターンに対して個体が応答する応答パターンが検出部12により検出されて、この検出された応答パターンが記憶部13により記憶される。 - 特許庁
  • Further, the adjustment substrate is pattern-coated with the material, deviation (pitch D) from the target position is measured by observing the position of coating dot, a movement amount is calculated from the difference, and XYθ direction position correction of the nozzle between respective heads is performed.
    さらに、調整用基板に材料をパターン塗布し、塗布ドットの位置を観測することで目標位置からのズレ(ピッチD)を計測し、その差分から移動量を計算し、各ヘッド間のノズルのXYθ方向位置補正を行う。 - 特許庁
  • A board 7 for forming an electric element opposed to the surface of the transfer substrate is moved by synchronizing with the movement of the transfer substrate 5, and the nanowire 3 is transferred on the pattern shape area 8 of the board 7 corresponding to the pattern shape area 6 of the transfer substrate 5.
    転写基材5の移動と同期して、転写基材の表面に対向させた電気素子形成のための基板7を移動させ、転写基材5のパターン状領域6に対応した基板7のパターン状領域8にナノワイヤ3を転写する。 - 特許庁
  • In the other embodiment, the movement of the small drop is determined in a manner that the small drop enters the feature pattern in a desired area and is substantially immobilized there by at least one characteristic of the nano structure feature pattern, or at least one characteristic of the small drop.
    他の実施形態では、小滴の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも1つの特性または小滴の少なくとも1つの特性によって、小滴が所望の領域のフィーチャ・パターンに侵入し、そこで実質的に不動化するように決定される。 - 特許庁
  • In the other embodiment, the movement of the small drops is decided in a manner that the small drops enter the feature pattern in a desired area and is substantially immobilized there by at least one characteristic of the nano structure feature pattern, or at least one characteristic of the small drops.
    他の実施形態では、小滴の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも1つの特性または小滴の少なくとも1つの特性によって、小滴が所望の領域のフィーチャ・パターンに侵入し、そこで実質的に不動化するように決定される。 - 特許庁
  • At this time, the irradiation position of the laser beam LB is determined by the movement and positioning of the laser optical system 45 in the X axis and Y axis directions by a relative movement mechanism 43a, thereby a desired pattern can be easily formed.
    このとき、相対移動機構43aによりレーザ光学系45をX軸方向およびY軸方向へ相対的に移動・位置決めすることによりレーザ光LBの照射位置を決定するので、所望のパターンを容易に形成することができる。 - 特許庁
  • For example, ditches of the X direction and the Y direction are formed on the pattern of the substrate and the reciprocal movement of the Y direction is carried out more times than the reciprocal movement of the X direction when more ditches of the X direction than ditches of the Y direction are formed.
    例えば下地のパターンにX方向とY方向の溝が形成され,X方向の溝がY方向の溝よりも多く形成されている場合には,Y方向の往復移動がX方向の往復移動よりも多く行われる。 - 特許庁
  • The write surface is provided with a position coding pattern, and the writing means is a combined write/read unit, which continuously reads the movement of moving on the write surface.
    この書き込み表面は、位置コーディングパターンを備えており、また、この書き込み手段は、組み合わされた書き込み/読み出しユニットであり、書き込み表面上を移動するその動きを連続的に読み取るものである。 - 特許庁
  • Concerning traces X, Y and Z of movements from positions where display begins on a pattern display device to positions where determined patterns are displayed, since the trace Y of patterns of a second pattern group is longer than the trace X of the patterns of a first pattern group, a player can follow the variation and stop of patterns of the second pattern group due to the movement.
    図柄表示装置での表示が開始される位置から確定図柄として表示される位置までの移動の軌跡X,Y,Zについて、第1図柄群の図柄の軌跡Xよりも第2図柄群の図柄の軌跡Yのほうが長く、遊技者は、より多くの第2図柄群の図柄について、その移動による変動や停止を追うことができる。 - 特許庁
  • When detecting an object by inter-scan integral 31 of radar beam scanning, a pattern wherein the object T is moved in the distance direction during scanning is predicted beforehand, and distance correction data for correcting the distance so as to compensate the movement are housed in a target movement correction value table 4.
    レーダビーム走査のスキャン間積分(31)により目標物を検出する際、スキャン走査の間に、目標物Tが距離方向に移動するパターンを予め予測し、その移動を相殺するように距離補正するための距離補正データを目標運動補正値テーブル4に格納する。 - 特許庁
  • If the hole is formed to a pattern shape like a heart shape, an interest factor in terms of a design can be obtained, the movement of the cushion material prevented and the pain of the hip ameliorated.
    この穴をハート形などのように模様形にすると、意匠的な面白さとクッション材の移動とを防止することができると共に、尻の痛みを改善することができた。 - 特許庁
  • When obtaining various kinds of welding patterns other than the circumferential shape, the movement control of a movable stage 61 is adequately performed in addition to the rotation control of the rotary table 21 according to the welding pattern.
    円周形状以外の各種溶接パターンを得る場合、その溶接パターンに応じて、回転テーブル21の回転制御に加えて可動ステージ61の移動制御を適宜行う。 - 特許庁
  • A transition of matching between an image in a search window F1 and a reference pattern corresponding to a pedestrian image is acquired with horizontal movement of the search window F1 relative to an input image.
    入力画像に対して探索窓F1を横方向移動させながら、探索窓F1内の画像と歩行者像に対応する基準パターンとの一致度の推移を取得する。 - 特許庁
  • By stroke drawing means, drawing strokes, specified corresponding to movement of an electronic pen to a writing medium on which a dot pattern is printed, are drawn inside a page of a processing object.
    ストローク描画手段により、ドットパターンが印刷された書き込み媒体に対する電子ペンの移動に応じて特定される描画ストロークが、処理対象のページ内に描画される。 - 特許庁
  • The movement pattern has a sensor stop mode wherein the stroke end position is detected by the stroke end position detection sensor and a pressure stop mode, wherein the slide table 15 is stopped by the stopper, while the current is being supplied to the electric motor.
    その移動パターンはストローク端の位置をストローク端位置検出センサにより検出するセンサ停止モードと、電動モータに電流を供給した状態でストッパにより停止させる押し付け停止モードとを有している。 - 特許庁
  • Because a head 5 is moved in the Y-direction with the movement in the X-direction by the joint mechanism control by a controller 7, the inclination of the columns 41, 42 in the Y-direction is corrected and a simultaneous applying pattern is high-precisely obtained.
    制御器7による連結機構制御により、ヘッド5をX方向への移動に合わせてY方向に移動できるので、コラム41,42のY方向への傾きを補正して、同時塗布パターンを高精度に得ることができる。 - 特許庁
  • The pattern forming device 1 is provided with a delivery part 42 delivering a pattern-forming material toward the substrate 9, a curing part 43 curing the delivered pattern-forming material and a roller 53 having a plurality of concave parts, which structure moves relatively to the substrate 9 on a stage 3 by a stage movement mechanism.
    パターン形成装置1は、パターン形成材料を基板9に向けて吐出する吐出部42、吐出されたパターン形成材料を硬化させる硬化部43、および、複数の凹部を有するローラ53を有し、ステージ移動機構2によりこれらの構成がステージ3上の基板9に対して相対的に移動する。 - 特許庁
  • To solve the problem that, though a magnetic treatment device where magnets are reciprocated around a still liquid substance is present heretofore, the reciprocation repeats the pattern of acceleration-stop-inversion, thus the movement of the magnets at a high speed is difficult.
    従来、静止する液状物の周りで磁石を往復運動させるようにした磁気処理装置があるが、往復運動は、加速、停止、反転のパターンを繰り返すため、磁石を高速で移動させることが難しい。 - 特許庁
  • After the regular patterns are formed, the entry position is moved and is subjected to reciprocative movement, in a direction of orthogonally crossing the first direction, at such a speed that will not form a pattern on a surface of the substrate to position it into a light irradiating position.
    また、規則的なパターンが形成された後は、入射位置を、基板表面にパターンが形成されない速度で第1方向と直交する方向へ往復移動させながら、照射位置へ位置決めする。 - 特許庁
  • Since a molybdenum plate is placed opposite to the exposed area of the surface of the diamond substrate, the surface movement of the diamond substrate 12 beyond the depth of the plate is suppressed to enable the control of the thickness of the pattern in high accuracy.
    モリブデン板13s’が、ダイヤモンド基板12表面の露出領域に対向しているので、これよりも深部へのダイヤモンド基板12表面の進行は抑制され、パターンの厚みを高精度に制御することができる。 - 特許庁
  • The tide pattern F by interference of a main flow C and injection water W is formed on the water surface by injecting water in a direction opposed to a flow of the water surface from a plurality of nozzles 4, and movement of the floating article D on the water surface is controlled by the tide pattern F formed on the water surface and it is guided/accumulated to the specific place.
    複数ノズル4から水面の流れに対向する方向に水を噴射することにより本流Cと噴射水Wの干渉による潮目Fを水面に形成させ、水面に形成させた潮目Fにより水面の浮遊物Dの移動を制御し特定場所に誘導集積させる。 - 特許庁
  • This monitoring method of the activity patterns is characterized in including steps for: sensing an inertia movement by the moving of a user using a sensor part worn by the user; detecting the direction of the sensor part from the inertia movement and detecting the wearing position of the sensor part using the inertia movement and the direction; and determining the activity pattern of the user from the inertia movement with the wearing position reflected therein.
    ユーザーに着用されたセンサー部を利用して、ユーザーの動きによる慣性運動を感知するステップと、慣性運動からセンサー部の方向を検出し、慣性運動及び方向を利用してセンサー部の着用位置を検出するステップと、着用位置を反映して慣性運動からユーザーの活動パターンを判断するステップと、を含むことを特徴とする活動パターンの監視方法である。 - 特許庁
  • Further, a broad pattern with increased luminance is overwritten on the printed wiring pattern related to the selected signal name according to the movement amount of a mouse, whereby the isometric properties or distances of printed wiring patterns of the plurality of selected signals can be visually confirmed.
    さらに,マウスの移動量にあわせ,選択した信号名に係るプリント配線パターン上に輝度を高くした,幅広パターンを上書きすることで,選択した複数の信号のプリント配線パターンの等長性や距離を視覚的に認識することができるようになる。 - 特許庁
  • As the distribution pattern of the magnetic field component in the longitudinal wire direction suddenly reverses between positive and negative at the fault boundary and the pattern is sufficiently maintained even with a little movement of the magnetic sensor, the fault region of the wire can be exactly and easily found.
    その電線長手方向磁界成分の分布パターンが欠陥箇所を境にして正負に急峻に反転するパターンであり、このパターンは磁気センサが多少ぶれても充分に保持されることから、電線の欠陥箇所を正確に容易に見出し得る。 - 特許庁
  • A main control system 24 finds out the appropriate movement speed of the pattern of a reticle R to be transferred to a shot area on a wafer W according to the synchronous movement direction SD of each of shot areas that is set on the wafer W, and it outputs the result to driving control units 35 and 41 and sets it.
    主制御系24は、ウェハWに設定された各ショット領域の同期移動方向SDにおける大きさに応じてレチクルRのパターンをウェハW上のショット領域に転写する際の最適な移動速度を求め、駆動制御ユニット35,41に出力して設定する。 - 特許庁
<前へ 1 2 3 4 次へ>

例文データの著作権について

  • 特許庁
    Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.