「Pattern Shift」を含む例文一覧(839)

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  • Detection rate is compared between a basic pattern and a spare pattern and if the detection rate by the spare pattern is higher, a shift is detected using the spare pattern as the reference pattern at first.
    基本パターンとスペアパターンとの検出率等を比較して、スペアパターンによる検出率が高い場合は、最初に、基準パターンとしてスペアパターンを使用してずれ量の検出を行うようにする。 - 特許庁
  • When the shift is made to the jackpot again during the given period of game after the end of the jackpot mode, the jackpot performance pattern after the shift is determined based on the jackpot pattern as given when the jackpot performance pattern before the shift to the jackpot is decided.
    また、大当り態終了後における所定の遊技期間中に大当りに再度移行したときは、大当り移行前の大当り演出パターンが決定されたときの大当り図柄に基づいて、移行後の大当り演出パターンが決定される。 - 特許庁
  • The present invention applies to the measurement of the pattern shift amount between the exposure regions.
    本発明は露光領域間におけるパターンシフト量の測定に適用される。 - 特許庁
  • HALFTONE PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURING METHOD AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING SAME
    ハーフトーン位相シフトマスク、その製造方法およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
  • HALFTONE PHASE SHIFTING MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD
    ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク、ハーフトーン型位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁
  • After drawing performed in normal printing (S201, 202), a pattern for shift adjustment is formed, and the pattern for shift adjustment formed on the image carrier is read out (S204-206).
    通常の印刷で行う描画（Ｓ２０１，２０２）の後、ずれ調整用パターンを形成させ、像担持体に形成されたずれ調整用パターンを読み取らせる（Ｓ２０４〜２０６）。 - 特許庁
  • To manufacture an auxiliary pattern phase shift mask without degrading the quality.
    品質を損なわずに、補助パターン型位相シフトマスクを製造することが可能とする。 - 特許庁
  • METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR, METHOD FOR FORMING MASK PATTERN, AND LEVENSON TYPE PHASE SHIFT MASK
    半導体製造方法、マスクパターンの形成方法及びレベンソン型位相シフトマスク。 - 特許庁
  • The imager (30) is composed to obtain the image data of projection phase shift pattern.
    イメージャ（３０）は、投影位相シフトパターンの像データを取得するように構成される。 - 特許庁
  • In a method of forming a pattern, multiple exposures are effected, using a Levenson phase shift mask 10 and a half-tone phase shift mask 20, respectively.
    パターン形成方法において、レベンソン位相シフトマスク１０、ハーフトーン位相シフトマスク２０のそれぞれで多重露光を行う。 - 特許庁
  • The phase shift quantity for difference pattern is composed of a phase shift quantity corresponding to a change in the bore site direction and a phase shift quantity fixed to each of element antennas but since the phase shift quantity corresponding to the change in the bore site direction is common in the case of obtaining the sum pattern and the difference pattern, the ordinary phase shifter capable of adjusting the phase shift quantity is shared.
    差パターン用の移相量は、ボアサイト方向の変化に対応する移相量と各素子アンテナに固定の移相量とから成るが、ボアサイト方向の変化に対応する移相量については、和パターン及び差パターンを得る場合に共通であることから、通常の、移相量を調整可能な移相器を共用するものである。 - 特許庁
  • To provide a phase shift mask which is capable of easily forming desired pattern shapes, a method of manufacturing the phase shift mask and an exposure method using the phase shift mask.
    所望のパターン形状を容易に形成することのできる位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および位相シフトマスクを用いた露光方法を提供する。 - 特許庁
  • Shift of recording position between the rectangular pattern TP1 and the rectangular pattern TP2 is calculated (step S8) and positional shift of recording in a 'bidirectional recording means' is corrected based on the shift of recording position thus calculated (step S9).
    矩形パターンＴＰ１と矩形パターンＴＰ２との記録位置のずれ量を算出し（ステップＳ８）、その記録位置のずれ量に基づいて、「双方向記録手段」における記録位置ずれを補正する（ステップＳ９）。 - 特許庁
  • This shift position detecting device includes a shift lever 2 operated to five shift positions set in accordance with a shift pattern from a neutral position, and a detecting part for outputting a signal linearly varied with respect to Y-axis direction displacement of the shift lever 2, and the shift position of the shift lever is detected based on the detection signal.
    このシフト位置検出装置は、中立ポジションからシフトパターンに沿って設定された５つのシフト位置に操作されるシフトレバー２と、シフトレバー２のＹ軸方向の変位に対して直線的に変化する信号を出力する検出部とを備え、その検出信号に基づいてシフトレバーのシフト位置を検出する。 - 特許庁
  • As a gear shift point setting section 96 sets the same vehicle speed for a gear shift point (gear shift pattern) at which an automatic gear shift part 20 performs gear shift in the case of engine driving and motor driving, even if driving is switched between the engine driving and the motor driving, the gear shift of the automatic gear shift part 20 accompanying the switching does not occur.
    変速点設定手段９６により、自動変速部２０の変速を実行する為の変速点（変速パターン）がエンジン走行の場合とモータ走行の場合とで同車速に設定されるので、エンジン走行とモータ走行とが切り換えられたとしても、その切換えに伴う自動変速部２０の変速は発生しない。 - 特許庁
  • To provide a mask pattern correcting method which can prevent a shift in a pattern position due to mask deformation due to gravity, and to provide a mask pattern manufacturing method and a mask.
    重力によるマスクの変形によりパターンの位置がずれるのを防止できるマスクパターン補正方法、マスク製造方法およびマスクを提供する。 - 特許庁
  • The halftone type phase shift mask has a translucent film pattern on a transparent substrate and a shading film pattern formed on the translucent film pattern.
    ハーフトーン型位相シフトマスクは、透明基板上に半透光膜パターンとこの半透光膜パターンの上に形成された遮光膜パターンとを有して成る。 - 特許庁
  • As opposed to Chojo (full-time working pattern), a part-time and shift working pattern was called Banjo, and officials taking this working pattern were called Bunban (shiftwork).
    常勤形態を取る長上に対して、非常勤の交替勤務の形態を番上と呼び、この形態で勤務していた官人を分番と呼んだ。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • A shift pattern 3 is formed by two shift passages 3a and 3b extended in the Y-axis direction with the lengths different from each other, and four of the five shift positions are set at both ends of the shift passages 3a and 3b, and the remaining one shift position is set at the center part of the shift passage 3b.
    ここでは、Ｙ軸方向に互いに異なる長さをもって延伸される２つのシフト路３ａ，３ｂによってシフトパターン３を形成するとともに、５つのシフト位置のうち、４つのシフト位置をシフト路３ａ，３ｂの両端部に、残りの１つのシフト位置をシフト路３ｂの中央部に設定する。 - 特許庁
  • To prevent the change in a jet pattern caused by the positional shift of a jet nozzle and a spin element.
    噴射ノズルとスピンエレメントの位置ずれに起因した噴出パターンの変動を防止する。 - 特許庁
  • The parallel pattern 18 output from the memory 13 is input into a shift register 15, and the pattern input to the shift register 15 is allowed to be output from the shift register 15 as a serial pattern 15 by a clock signal 20 output from a clock generating circuit 14.
    メモリ１３から出力されたパラレルパターン１８はシフトレジスタ１５に入力され、シフトレジスタ１５に入力されたパターンはクロック発生回路１４から出力されたクロック信号２０によりシリアルパターン１９としてシフトレジスタ１５から出力することができる。 - 特許庁
  • To control a dimension of a transferred pattern with higher accuracy transferred by using a phase shift mask.
    位相シフトマスクを用いて転写する転写パターンの寸法をより高精度に制御する。 - 特許庁
  • PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE
    パターン形成方法と位相シフトマスクの製造方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
  • To provide a phase shift mask easy to produce and capable of forming a high-precision pattern.
    製造が容易でかつ高精度のパターン形成が可能な位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁
  • This abutting enable/disable mode corresponds to a pattern of shift operation to which regulation is required.
    この当接可否態様は、規制が要求されるシフト操作のパターンに対応している。 - 特許庁
  • RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURE OF PHASE SHIFT MASK BY USING IT
    レジスト組成物、パタン形成方法およびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
  • The gate pattern of the dimension shift quantity larger than the prescribed value is extracted and parallel auxiliary patterns are formed in a parallel auxiliary pattern forming section 607 in accordance with the dimension shift quantity to this gate pattern, by which the mask data 610 of the gate wiring pattern is formed.
    寸法シフト量が所定の値よりも大きいゲートパタンを抽出し、そのゲートパタンに対し寸法シフト量に基づいて平行補助パタン作成部６０７で平行な補助パタンを作成し、ゲート配線パタンのマスクデータ６１０を作成する。 - 特許庁
  • When the data pattern in the shift register 12 reaches a data pattern synchronizing a clock CK with the Manchester code in relation to '01' of the Manchester code and the prescribed data pattern, the prescribed data pattern is loaded to the shift register 11 to take synchronization.
    シフトレジスタ１２内のデータパターンが、マンチェスターコードの「０１」と関連して、かつ、前記所定のデータパターンと関連して、ＣＫをマンチェスターコードに同期させるデータパターンになったとき、シフトレジスタ１１に前記所定のデータパターンをロードして、同期をとる。 - 特許庁
  • A master device 20 has n-sets of synchronization pattern generating circuits 22a-22n that generate a synchronization pattern, and phase shift circuits 23a-23n that shift a phase of the generated synchronization pattern to transmit a synchronizing signal.
    マスタ装置２０は、同期パターンを生成するｎ個の同期パターン生成回路２２ａ〜２２ｎおよびこの生成された同期パターンの位相をシフトする位相シフト回路２３ａ〜２３ｎを有し同期信号を発信する。 - 特許庁
  • A slave device 24 has n-sets of synchronization pattern detection circuits 25a-25n that detect a synchronization pattern of the received synchronizing signal, and phase shift circuits 26a-26n that shift a phase of the detected synchronization pattern.
    スレーブ装置２４は、受信された同期信号の同期パターンを検出するｎ個の同期パターン検出回路２５ａ〜２５ｎおよびこの検出された同期パターンの位相をシフトする位相シフト回路２６ａ〜２６ｎを有する。 - 特許庁
  • Moreover, the image forming apparatus includes a generation part for generating third dot pattern data using the first dot pattern data and the shift amount to form a dot pattern canceled in shift amounts in the image forming part.
    さらに、本画像形成装置は、ズレ量の相殺されたドットパターンを画像形成部において形成すべく、第１のドットパターンデータおよびズレ量を用いて第３のドットパターンデータを生成する生成部を含む。 - 特許庁
  • In the case of the multiple shift, a multiple shift pattern ID indicating progression degree of the current shift control as well as the shift pattern ID are informed using the driving control requiring message, and based on this message, adequate shift control process for the driving components are performed.
    そして、多重変速の場合には、変速パターンＩＤと共に、現在実行中の変速制御の進行度合を示す多重変速パターンＩＤを、駆動制御要求メッセージにて通知し、この駆動制御要求メッセージに基づいて、駆動部品に対する適切な駆動制御処理を実行させるようにしている。 - 特許庁
  • To form a fine pattern without using an auxiliary pattern method and a phase shift mask or the like, and to easily inspect the fault of the mask.
    補助パターン法や位相シフトマスクなどを用いずとも微細パターンの形成が可能で、かつマスクの欠陥検査を容易とする。 - 特許庁
  • To provide a method for designing a new phase shift mask with less dimensional change in a pattern even in a random logic pattern.
    ランダムロジックパターンにおいてもパターンの寸法変動が少ない新たな位相シフトマスクの設計方法を実現できるようにする。 - 特許庁
  • A first color shift detection pattern is formed on a transfer medium by adding the first out of color registration detection pattern to the printing object image at a normal time.
    通常時においては、印刷対象画像に第１の色ズレ検出パターンを付加して転写媒体上に形成する。 - 特許庁
  • In some embodiments, the shift lever is moveable within a pattern and is blocked from areas outside the boundaries of the pattern.
    実施形態によっては、シフトレバーは、パターン内を移動可能であり、当該パターンの境界の外側領域への移動が規制される。 - 特許庁
  • In a positional shift flaw detection means 13d, the pattern of the frame, wherein the aligning quantity is differentiated from the reference aligning quantity by a predetermined value or above, is detected as the positional shift flaw of the pattern.
    位置ずれ欠陥検出手段１３ｄにおいて、位置合わせ量が基準位置合わせ量と所定値以上相違するフレームのパターンが位置ずれ欠陥として検出される。 - 特許庁
  • After the exposed substrate WS is moved stepwise, the positional shift between the exposed substrate WS, and the exposure pattern of the mask M is measured by an exposure pattern positional shift detecting means 46.
    そして、露光済み基板ＷＳをステップ移動させた後、露光済みの基板ＷＳとマスクＭの露光パターンの位置ずれ量を露光パターン位置ずれ検出手段４６で計測する。 - 特許庁
  • To make the calculation of the amount of color shift and color shift correction of each color possible by effectively utilizing the detected data even when the failure of pattern detection arises in part of the resist pattern detection.
    レジストパターンの検出で一部パターンの検出欠落が生じたような場合でも、検出されたデータを有効に利用して各色の色ずれ量を計算し、色ずれ補正を可能とする。 - 特許庁
  • To provide a manual transmission for an HV-MT car which enables an H pattern to be adopted as a shift pattern and which hardly causes confusion of a driver in operation of a shift operating member.
    シフトパターンとしてＨパターンが採用されるＨＶ−ＭＴ車用の手動変速機であって、シフト操作部材の操作において運転者の混乱を招き難いものを提供すること。 - 特許庁
  • To provide an operation device for conducting switching between an advance and a retreat, capable of conducting a switching operation from an advance mode to a retreat mode in a vehicle or the like, to a linear shift pattern and a two-dimensional shift pattern.
    車両等における前進モードから後進モードへの切換操作を、直線状のシフトパターンと二次元的なシフトパターンとに切換可能な前後進切換操作装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide an image forming apparatus and a control method thereof which decreases errors of color shift detection using a pattern image for color shift detection and improves the accuracy of the color shift correction.
    色ずれ検出用パターン画像を用いた色ずれの検出誤差を低減し、色ずれ補正の精度を向上させる画像形成装置及びその制御方法を提供する。 - 特許庁
  • The problem is solved by combining a safety button (3) of a shift lever grip (1) provided in an upper and lower projection part (2) of a side surface of the shift lever grip with a shift pattern (4) opposite to a conventional one.
    シフトレバーグリップ（１）の安全ボタン（３）をシフトレバーグリップ側面の上下の張り出し状（２）の中に設けたものと、従来と逆のシフトパターン（４）を組み合わせて、この課題を解決する。 - 特許庁
  • This problem is overcome by a combination of a grip structure, in which a safety button (3) of a shift lever grip (1) is arranged in recessed portion (2) at the side surface of the shift lever grip, and a shift pattern (4) opposite to that of the prior art.
    シフトレバーグリップ（１）の安全ボタン（３）をシフトレバーグリップ側面の凹状（２）の中に設けるなどしたものと、従来と逆のシフトパターン（４）を組み合わせて、この課題を解決する。 - 特許庁
  • The temperature change from the time when correcting the color shift by forming the detection pattern previously is obtained from temperature when performing a second color shift correction mode and temperature when performing a first color shift correction mode.
    第２色ずれ補正モード実行時の温度と、第１色ずれ補正モード実行時の温度から、前回検知パターンを形成して色ずれ補正したときからの温度変化を把握する。 - 特許庁
  • In the case that the first amount of the color shift exceeds the specified upper limit value, the color shift correction data is updated based on a second amount of color shift by forming a second color shift detection pattern for the highly accurate detection of the color shift on the transfer medium.
    前記第１の色ズレ量が前記所定の上限値を超えた場合には、高精度な色ずれ検出のための第２の色ズレ検出パターンを前記転写媒体上に形成して、第２の色ズレ量に基づいて色ズレ補正データを更新するようにする。 - 特許庁
  • To accurately evaluate the defect detection sensitivity of an inspection apparatus for a defect in a mask pattern by suppressing influences of the shift of a pattern defect created in a basic pattern from a design value.
    基本パターンに作り込んだパターン欠陥の、設計値からのズレによる影響を抑えて、正確にマスクパターンの欠陥検査装置の欠陥検出感度を評価する。 - 特許庁
  • The ground yellow pattern Yp1 is used also as a yellow pattern for detecting a color shift amount with respect to a magenta pattern Mp1 which is a reference color.
    さらに、下地として形成したイエローパターンＹｐ１を、基準色であるマゼンタパターンＭｐ１に対する色ずれ量を検知するためのイエローパターンとしても兼用する。 - 特許庁
  • Therefore, while maintaining strong phase shift effects as features of a conventional crome-less phase shift mask, pattern falling can be suppressed.
    したがって、従来のクロムレス位相シフトマスクの特徴である強い位相シフト効果を維持しつつ、パターン倒れを抑制することが可能となる。 - 特許庁
  • In correcting manual color shift by a user, the load on the user is reduced, by easily printing an image pattern which can read the correction value of color shift.
    ユーザによる手動色ずれ補正の際、容易に色ずれの補正値を読み取れる画像パターンを印字することで、ユーザの負荷を低減する。 - 特許庁
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