「Pattern of」を含む例文一覧(49955)
＜前へ 1 2 .... 983 984 985 986 987 988 989 990 991 .... 999 1000 次へ＞- In the device and method for adjusting the stereoscopic image display device, a test pattern image is projected on a screen 26 via an aperture member 36 attached to a center projector 24e via the projection lens 28e, and the position of the projection lens 28e is adjusted so that an appropriate test pattern image is obtained.
本発明は、立体画像表示装置の調整装置及び調整方法に関するものであり、中央のプロジェクタ２４ｅに投影レンズ２８ｅを介して装着したアパーチャ部材３６を介してスクリーン２６にテストパターン画像を投影し、適切なテストパターン画像が得られるように、投影レンズ２８ｅの位置を調整する。 - 特許庁 - The wiring board 1 includes a metal bump 4 formed on the electronic component 3, a recessed part 5 which is formed in a wiring board 2 having a wiring pattern and into which the metal bump 4 is fitted and a metal plated layer 6 formed to cover an inner surface of the recessed part 5 to connect the metal bump 4 with the wiring pattern.
配線基板１は、電子部品３に形成された金属バンプ４と、配線パターンを備える配線基板２に形成され金属バンプ４が嵌合された凹部５と、凹部５の内側面を被覆して形成されると共に金属バンプ４と配線パターンとを接続する金属メッキ層６とを備える。 - 特許庁 - The alignment controlling protrusion of the color filter is the alignment controlling protrusion 39 formed by grinding a pattern 37 with a nearly rectangular planar shape and a nearly rectangular sectional shape or a pattern with a circular planar shape and a nearly rectangular sectional shape formed by using a photoresist so as to form a protrusion with the circular arc shaped sectional shape.
配向制御用突起が、フォトレジストを用いて形成した平面形状及び断面形状が略矩形状のパターン３７、或いは平面形状が円形状で断面形状が略矩形状のパターンを研磨して、その断面形状を円弧状の突起に形成した配向制御用突起３９であることを。 - 特許庁 - The electrode mold 35 for electric discharge machining is provided with: a base material 30, in which a linear protrusion pattern 34 is formed on the surface with a prescribed arrangement; a catalyst layer 31 formed on the convex pattern 34 of the base material 30; and a carbon nanotube electrode 32 formed on the catalyst layer 31.
本発明の放電加工用電極型３５は、表面に、線状の凸パターン３４が所定配列で形成されてなる基材３０と、前記基材３０の凸パターン３４上に形成されてなる触媒層３１と、前記触媒層３１上に形成されてなるカーボンナノチューブ電極３２と、を具備することを特徴とする。 - 特許庁 - This manufacturing method uses the photomask 7 which has a pattern A for diffuse reflection area formation formed inside and a transparent pattern B formed outside and the exposure is carried out after the surface of the substrate 1 is coated with the positive photoresist with which a light-absorbing material having light absorptivity in a sensitive wavelength range is mixed.
この製造方法では、内側に拡散反射領域形成用パターンＡが外側に透明パターンＢが形成されたフォトマスク７を用い、基板１の表面上に感光波長域に対して吸光性を有する吸光性材料が混入したポジ型のフォトレジストを塗布してから露光を行う。 - 特許庁 - To provide an image pickup device for detecting the surface condition of a circuit pattern-formed wafer with high resolution and a defect detection apparatus using the same, without being affected by steep pattern steps, reflectance distributions and optically transparent substance which are formed after resist patterns are formed and removed.
本発明の目的は、レジストパターン形成後やレジスト除去後の回路パターン付ウェハに存在する急峻なパターン段差、反射率分布、光学的透明体に影響を受けることなく、表面状態を高解像度で検出する撮像装置並びにこれを用いた欠陥検査装置を提供することである。 - 特許庁 - These monitor patterns 13a-13d are formed on both of the STI surface 11 and the active area surface 12 as a line and space pattern and an isolated pattern, and are also arrayed and formed with the edges in the width direction shifted with respect to the borderline between the STI surface 11 and the active area surface 12.
これらのモニタパターン１３ａ〜１３ｄは、ＳＴＩ表面１１上と活性領域表面１２上とにそれぞれ、ラインアンドスペースパターン及び孤立パターンとして形成され、また、ＳＴＩ表面１１と活性領域表面１２との境界線に対して幅方向のエッジをずらした状態で配列形成される。 - 特許庁 - In the method of creating the service map, service transaction repository related to the same service transaction on at least two functions is determined, a data feature pattern in the service transaction repository is determined, and the service map for associating the determined data feature pattern with the service is determined.
本発明のサービスマップを生成する方法は、少なくとも二の機能上同一のサービストランザクションと関連付けられるサービストランザクションリポジトリを決定し、前記サービストランザクションリポジトリにおけるデータ特徴パターンを決定し、決定された前記データ特徴パターンとサービスとを関連付けるサービスマップを決定する。 - 特許庁 - All the liquid droplet ejection nozzles 28 are made to be a first nozzle group, and the eight continued liquid droplet ejection nozzles 28 on the X arrow direction side in the first nozzle group are used to simultaneously form dots D which are formed in the column direction for every column of the first dot pattern 10A to draw the first dot pattern 10A.
全ての液滴吐出ノズル２８を第１ノズル群とし、その第１ノズル群のＸ矢印方向側の連続する８個の液滴吐出ノズル２８を使用して、第１ドットパターン１０Ａの列毎に、列方向に形成されるドットＤを一斉に形成して第１ドットパターン１０Ａを描画する。 - 特許庁 - A pixel pattern 8 is formed in the pixel substrate area on the substrate base material 1, a cutting area 11 having a specified width is provided along an end of the pixel substrate area to be cut, and a dummy pixel pattern 12 is formed on a substrate base material 1 in a cutting area facing a pixel substrate area across the cutting area 11.
基板母材１の画素基板領域に画素パターン８を形成し、画素基板領域の切断される端部に沿って所定の幅の切断領域１１を設け、切断領域１１を隔てた画素基板領域と対向する切捨て領域の基板母材１に擬似画素パターン１２を形成する。 - 特許庁 - To provide a positive actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which achieves high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness and suppression of outgassing, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin film and a pattern formation method using the same.
高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及びアウトガスの低減を同時に達成可能とするポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin laminate having high resolution, capable of diminishing defects in a resist pattern and failures such as chipping, breaking and short circuit in a circuit formed in an etching or plating step and less liable to generate residue on removal in a resist pattern removing step particularly after electroplating by a semi-additive process.
高解像性を有し、レジストパターンの欠陥や、エッチング工程またはめっき工程において形成される回路の欠けや断線、ショートなどの欠陥を低減することができ、特にセミアディティブ工法の電解めっき後のレジストパターン剥離工程における剥離残が発生しにくい感光性樹脂積層体を提供すること。 - 特許庁 - A two-dimensional code 70 to be read by a two-dimensional code reading system 1 is configured such that first data including the ID of the two-dimensional code are recorded in a first data area near a specific pattern arranged at a specific corner section, and that second data are recorded in an area separated from the specific pattern in comparison with the first data area.
二次元コード読み取りシステム１で読み取られる二次元コード７０は、規定の角部に配置された特定パターン寄りの第１データ領域に、当該二次元コードのＩＤを含んだ第１データが記録され、第１データ領域よりも特定パターンから離れた領域に第２データが記録されている。 - 特許庁 - A wiring pattern 3a, for a mounting-side signal, which is arranged on a semiconductor IC chip mounting face 1a on the wiring board 1 and a wiring pattern 3b for a rear-side signal, which is arranged on the rear 1b as the face on the opposite side of the semiconductor IC chip mounting face 1a constitute the wiring patterns 3 for the signals.
上記信号用配線パターン３は、配線基板１の半導体ＩＣチップ実装面１ａに配置される実装側信号用配線パターン３ａと、該半導体ＩＣチップ実装面１ａの反対側の面である裏面１ｂに配置される裏側信号用配線パターン３ｂとからなる。 - 特許庁 - The film-like electronic component 1 is arranged by positioning the end P for connection on the metal terminal 22 of the terminal component 2 in such a manner that the electrode pattern 12 is arranged upwards, and the electrode pattern 12 and the metal terminal 22 are connected by an electrically conductive material 4 in the substrate end including the end P for connection and the metal film 13.
フィルム状電子部品１は、電極パターン１２を上にして接続用端部Ｐを端子部品２の金属端子２２上に位置決めして配置され、電極パターン１２と金属端子２２とは、接続用端部Ｐと金属膜１３を含む基板端部において導電性材料４により接続される。 - 特許庁 - To obtain a translucent decorative material A that does not expose a color pattern in the surface side and the appearance of a normal woody decorative material is presented when there is no light from the backside, and when the light is hit from the backside, the color pattern 7 together with a wood grain make a sudden change and appears to the surface clearly and distinctly.
裏側から光がないときには、色柄が表面側に露呈させず、通常の木質化粧材の外観を呈する一方、裏側から光が当たったときには、一転、木目と共に色柄７が表面に明確にかつ鮮明に現出する透光性化粧材Ａが得られるようにする。 - 特許庁 - Wave pattern processing data for making electric power that is predicted from the voltage entered descend to a target electric power is stored in the memory circuit 25, in advance, then the control circuit 26 reads out the wave pattern processing data, according to the measurement value on the input electric voltage from the memory circuit 25, and conduction timing of a triac 21 is controlled for electric power adjustment.
記憶回路２５に入力電圧より予測される電力を目標電力まで降下させるための波形処理データを予め記憶し、制御回路２６が入力電圧の測定値に応じた波形処理データを記憶回路２５から読み出し、電力調整用のトライアック２１の導通タイミングを制御する。 - 特許庁 - There are womenwho wish to continue working (the "continued employment pattern"), women who wish to take theopportunity of marriage and childbirth to stop working and then return to the workplace when the burdenof childrearing has eased (the "reemployment pattern"), and women who wish to be regular homemakersconcentrating on housework and childrearing.
また、継続就業も含めた定年後の人生の設計について、企業は仕事以外の情報をほとんど従業員に与えていないのが現状であるが、従業員が本当の希望を実現し、企業が発展していくためには、仕事以外の情報も含めた、広い範囲の情報を提供していくべきである。 - 厚生労働省 - A near cluster detecting means 12 detects a cluster near an inputted retrieval pattern (q) among clusters in a multidimensional space according to clusters touching a ring generated almost at the distance between the center cluster C1 close to the center of the multidimensional space and inputted retrieval pattern (q) by using the retrieval dictionary.
至近クラスタ検出手段１２は、多次元空間内のクラスタに対し、多次元空間の中心に近い中心クラスタＣ１と、入力された検索パターンｑと、の距離の前後で生成される環にかかるクラスタにもとづいて、検索パターンｑと至近のクラスタを、検索辞書を利用して検出する。 - 特許庁 - To set a light distribution pattern for low beam to be a light distribution pattern with a cutoff line and to sufficiently ensure visibility of a the upper part before a vehicle during high beam running, in a vehicular headlamp constituted so that beam switching between the low beam and the high beam is performed by vertically tilting a reflector by a given angle.
リフレクタを上下方向に所定角度傾動させることによりロービームとハイビームとのビーム切換えを行うように構成された車両用前照灯において、ロービーム用の配光パターンをカットオフラインを有する配光パターンとした上で、ハイビーム走行時における車両前方上方の視認性を十分に確保する。 - 特許庁 - Fibers 2 are superposed on the pattern surface of a film in which a pattern 3 is executed on one surface, an uncured thermosetting resin obtained by reacting polyester polyol with an isocyanate resin is placed on the fibers, and drawn, and held until polymerization progresses by approximately 80%, and cut in proper size, and the film is peeled and removed.
片面に模様３が施されたフィルムの模様面の上に繊維２を重ね、この上にイソシアネート系樹脂にポリエステルポリオールを反応して得られる未硬化熱硬化性樹脂を載置し、延伸し、重合が約８０％進行するまで保持し、適当な大きさに切断し、フィルムを剥がし、除去する。 - 特許庁 - When printing data is input from a printing data input device 10, an area which has a high density of printing data is detected by a dot counter 13, and only the dot same as the examination pattern memorized in an examination pattern storage memory 14 from the printing data in the area is extracted and printed in the printing medium.
印刷データが印刷データ入力装置１０から入力された場合に、ドットカウンター１３で印刷データの濃度の高い領域を検出し、その領域内の印刷データから検査パターン記憶メモリ１４に記憶された検査パターンと同じドットのみを抽出して印刷媒体に印刷を行う。 - 特許庁 - The method of manufacturing a conductive pattern sheet is characterized in that a layer containing a photocatalytically-active material is formed on the base material; a solution containing a metal compound is arranged on the layer; and a metal pattern used as wiring is formed by subjecting the metal in the metal compound to photoreduction by an exposure process.
基材上に光触媒活性材料を含有する層を設け、該層に金属化合物を含む溶液を配置し、露光工程によって該金属化合物中の金属を光還元することで配線となる金属パターンを形成することを特徴とする導電性パターンシートの作製方法。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition which has high radiation sensitivity and development margin to form a favorable pattern even when the process time exceeds the optimum developing time in a developing process, and with which a pattern thin film having excellent adhesiveness can be easily formed, and to provide an interlayer insulating film of electronic parts and microlens.
高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物、電子部品の層間絶縁膜およびマイクロレンズの提供。 - 特許庁 - Thereafter, a second doped polysilicon film 28a and a second tungsten silicide film 28b are sequentially formed on the surface of a contact hole and the interlayer insulating film, and the second tungsten silicide film 28b and the second doped polysilicon film are patterned into an upper conductive layer pattern which comes into contact with the lower conductive layer pattern.
その後、熱処理したコンタクト孔表面及び前記層間絶縁膜上に第２のドープしたポリシリコン膜２８ａと第２のタングステンシリサイド膜２８ｂを順次形成し、第２のタングステンシリサイド膜と第２のドープしたポリシリコン膜をパターニングし、下部導電層パターンとコンタクトする上部導電層パターンを形成する。 - 特許庁 - To restrain delay fluctuation accompanied to fluctuation of a wiring pattern to prevent timing refixing from being generated frequently, when wiring density is uniformized for the detail wiring pattern for which timing fixing is finished already, as one means for evading a cross talk, for reducing delay and for enhancing a yield.
クロストーク回避や遅延減少化や歩留まり向上の一手段として、既にタイミングフィックスを完了した詳細配線パターンに対して配線密度均一化を行なうに当り、配線パターン変動に伴う遅延変動を抑えられるようにし、もって、タイミングフィックスのやり直しが多く発生しないようにする。 - 特許庁 - Copperless pads 29 and 29 suppressed by having directivity on heat leaving from a through hole 26 when melting solder is formed on a solid pattern 25 in the neighborhood of a thermal land 27 to the specific through hole 26 inserting a component lead connected to the solid pattern 25 such as the gland layer and the power source layer.
グランド層や電源層等のベタパターン２５に接続される、部品リードが挿入される特定のスルーホール２６に対して、そのサーマルランド２７近傍のベタパターン２５上に、はんだ溶融時にスルーホール２６から逃げる熱を方向性をもたせて抑制する銅抜きパッド２９，２９を形成したことを特徴とする。 - 特許庁 - A groove for surrounding the first electrode 14 is formed on the luminous layer 13, a protective film having a lattice-like opening pattern is formed on the luminous layer 13 including the groove, dicing is performed from the side of the luminous layer 13 along the opening pattern for dividing into chips, and crushed layers on the luminous layer 13 and the semiconductor substrate 12 are removed.
発光層１３に第１電極１４を囲む溝を形成し、溝を含む発光層１３上に格子状の開口パターンを有する保護膜を形成し、開口パターン沿って発光層１３側からダイシングしてチップに分割した後、発光層１３および半導体基板１２の破砕層を除去する。 - 特許庁 - If there is information on the presentation in a second pattern, in which the possibility of the shift to a second game state more advantageous to the player than the first game state while the presentation in the first pattern is executed is high, the presentation control board 102, etc. output the information from the liquid crystal display device 13.
第１のパターンによる演出の実行中に第１の遊技状態よりも遊技者に有利な第２の遊技状態に移行する可能性が高い第２のパターンによる演出に関する情報が存在する場合に演出制御基板１０２等は液晶表示装置１３から当該情報を出力する。 - 特許庁 - In the image obtained by inverse-transforming the matrix to which the small component ΔF is added a phase difference pattern W01 corresponding to the small component ΔF is embedded, and if the original image is secretly hidden, this pattern cannot be taken out of an embedded image or cannot be erased by an overwriting attack.
微小成分ΔＦを加えた行列を逆変換することにより得られた画像には、微小成分ΔＦに対応した位相差パターンＷ01が埋め込まれており、このパターンは、原画像が秘匿されていれば、埋め込み済みの画像から取り出したり、上書き攻撃により抹消したりすることができない。 - 特許庁 - At least one of a predetermined cycle and a predetermined interval differs between the case that an adjustment pattern for adjusting an ejection timing for printing a color image is printed and the case that an adjustment pattern for adjusting an ejection timing for printing a monochrome image is printed.
カラー画像を印刷する際の前記吐出タイミングを調整するための前記調整用パターンを印刷する場合と、単色画像を印刷する際の前記吐出タイミングを調整するための前記調整用パターンを印刷する場合とで、前記所定周期及び前記所定間隔の少なくとも一方が異なる。 - 特許庁 - To provide a positive photoresist composition for exposure to a far ultraviolet ray in which bridging for forming a developing defect or particularly line pattern and a trench pattern is reduced so as to perform a subject in a technique for improving an original performance of a microphotofabrication used for a far ultraviolet ray or particularly an ArF excimer laser beam.
遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術における課題を達成すべく、現像欠陥、特にラインパターン及びトレンチパターン形成におけるブリッジングを低減した遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - In a game machine 1 provided with a CRT display 3 for variably displaying plural picture pattern images required for a game and a control means for controlling display on this display, the CRT display 3 displays a direction image to be determined in relation to the variable display control of the picture pattern image by the control means.
遊技に必要な複数の図柄画像を可変表示するＣＲＴディスプレイ（３）と、このディスプレイの表示を制御する制御手段とを備えた遊技機（１）において、ＣＲＴディスプレイ（３）には、制御手段による図柄画像の可変表示制御に関連して決定される演出画像が表示される。 - 特許庁 - A shift level from the previously set and basically established focal point of a photolithography machine is obtained based on the measured resist pattern widths, and then exposure is performed to the wafer by correcting a shift amount from the focal point based on the obtained shift amount, and thereby the resist pattern is formed.
測定された前記レジストパターン幅寸法に基づいて、前記露光装置の予め設定された基本設定焦点位置からのずれ量を求め、前記基本設定焦点位置からのずれ量に基づいて、前記基本設定焦点位置からのずれ量分を補正して前記ウエハに対して露光し、レジストパターンを形成する。 - 特許庁 - Accordingly, a size-variable gap is prevented from appearing between the sensor substrate and the sensor cover when performing position adjustment on the magnetic sensor unit 120 relative to the magnetic pattern 131 by using a spacer tool 140, for example, and therefore, dispersion in the size 145 of the gap can be made smaller between the sensor unit and the magnetic pattern.
よって、例えばスペーサ治具１４０を用いて磁気パターン１３１に対して磁気センサユニット１２０の位置調整を行う際に、センサ基板とセンサカバーとの間に寸法が変動可能な空隙を生じることがなく、磁気センサユニットと磁気パターンとの間のギャップ寸法１４５のバラツキを小さくすることができる。 - 特許庁 - To provide an authenticity discriminating method for an invisible printed matter, the uneven pattern of which can be recognized under observation by adhering a discriminator to or by irradiating white light or the like on the invisible printed matter having an uneven pattern hard to be distinguished with naked eyes, its invisible printed matter and its discriminator.
本発明は、肉眼では識別困難な凹凸模様を設けた不可視印刷物に、判別具を密着させて観察した場合又は白色光等を照射して観察した場合に、凹凸模様を視認することができる不可視印刷物の真偽判別方法及びその不可視印刷物並びにその判別具に関する。 - 特許庁 - To provide a wiring board whose height of bumps formed on a wiring pattern is made uniform so that the electric continuity between a TFT and the wiring pattern can be surely attained, a method for manufacturing the wiring board, a substrate joined body, a method for manufacturing the substrate joined body, an electrooptical device, and a method for manufacturing the electrooptical device.
配線パターン上に形成されるバンプ高さの均一化を図り、ＴＦＴと配線パターンとの導通を確実に得ることができる配線基板、配線基板の製造方法、基板接合体、基板接合体の製造方法、電気光学装置、及び電気光学装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an electromagnetic wave shield film, in which a continuous metal pattern is formed on a belt-like base by using a photosensitive material having a photosensitive layer on the belt-like base, by performing exposure through a mask having a predetermined pattern while lowering power consumption, and by performing development processing; and to provide an electromagnetic wave shield film.
帯状支持体の上に感光性層を有する感光材料を使用し、消費電力を低くし、所定のパターンを有するマスクを介して露光し、現像処理を経て、帯状支持体の上に連続した金属パターンを形成する電磁波遮蔽フィルムの製造方法及び電磁波遮蔽フィルムの提供。 - 特許庁 - The heat seal paper for filtering liquids, having clear and constant pattern and good freeness is obtained by papermaking with wet paper combination of a cylinder wire wet paper and a short-fourdrinier wire wet paper in a wet paper machine provided with a pattern on a cylinder wire 3 for the cylinder wire layer having a higher density than the short-fourdrinier wire layer and easily forming good formation.
短網層より密度が高く、地合がとりやすい円網層の円網シリンダー３にパターンを付与した湿式抄紙機にて、円網層湿紙と短網層湿紙を抄き合わせ抄紙することにより、鮮明かつ規則的なパターンおよび良好なろ水性を有する液体ろ過用ヒートシール紙が得られる。 - 特許庁 - Then, a conductive film 14 is formed on the semiconductor substrate 1, on which the capacitance insulating film 12a is formed and by processing the conductive film 14, a second conductor pattern 14b arranged on an upper electrode 14a and the first conductor pattern 11b of the memory cell capacitor is formed.
そして、当該容量絶縁膜１２ａが形成された半導体基板１上に導電膜１４が形成され、導電膜１４を加工することにより、メモリセルキャパタの上部電極１４ａおよび第１の導電体パターン１１ｂ上に配置された第２の導電体パターン１４ｂが形成される。 - 特許庁 - As a more concrete mode, a focus adjustment method of carrying out focus adjustment as well as pattern measurement by alternately arranging (each other, or each several) beam scanning position(s) for obtaining signals for focus adjustment and for obtaining signals for pattern measurement in the same FOV, and the charged particle beam device are proposed.
より具体的な一態様として、同じＦＯＶ内にて、フォーカス調整用信号を得るためのビーム走査位置と、パターン測定用信号を得るためのビーム走査位置を交互（１本ごと、或いは複数本ごと）に配置して、焦点調整とパターン測定を実行する焦点調整方法、及び荷電粒子線装置を提案する。 - 特許庁 - In this optical head device, the flexible printed wiring board 70 has a conductive pattern 708 formed thereon and not used for signal transmission and is in elastic contact with the top surface 60 of the driving IC 6 and also with a main cover 80 at an area where the conductive pattern 708 is formed.
光ヘッド装置では、フレキシブル配線基板７０に、信号伝達に用いられない導電パターン７０８が形成されているとともに、この導電パターン７０８が形成されている領域が駆動用ＩＣ６の上面６０に弾性をもって当接し、かつ、本体カバー８０に弾性をもって当接している。 - 特許庁 - In the ashing method, while irradiating a heating gas to a resist pattern 101 that is formed at the upper part of a silicon substrate 100 and having an alteration layer 101b formed at the surface layer in an oxygen-containing atmosphere, the silicon substrate 100 is cooled down to the temperature lower than the heating gas to remove the resist pattern 101.
シリコン基板１００の上方に形成されて表層に変質層１０１ｂが形成されたレジストパターン１０１に対し、酸素含有雰囲気中において加熱ガスを照射しながら、加熱ガスよりも低い温度にシリコン基板１００を冷却してレジストパターン１０１を除去するアッシング方法による。 - 特許庁 - The ultrasonic system to be activated with a plurality of diagnostic modes comprises an impact sensor to perceive an impact applied to the ultrasonic system by the user and operate so as to generate impact pattern information, and a controller to operate so as to control the ultrasonic system's activation based on the impact pattern information.
本発明による、複数の診断モードで駆動する超音波システムは、ユーザから前記超音波システムに加えられる衝撃を感知して衝撃パターン情報を形成するように動作する衝撃感知部と、前記衝撃パターン情報に基づいて前記超音波システムの駆動を制御するように動作する制御部を備える。 - 特許庁 - When transferring a mask pattern to a photoresist film applied on a wafer principal surface, after transferring on an off-condition of under dose or defocus or both, a defective inspection is carried out through a process which inspects a transferred pattern to the photoresist film with a scanning electron microscope (SEM) for a voltage potential controlling type visual inspection.
ウエハ主面上に塗布されたフォトレジスト膜にマスクパターンを転写する際、アンダードーズあるいはデフォーカスまたはその両方の、オフコンディション条件で転写をした後、フォトレジスト膜に転写されたパターンを電位制御型外観検査用走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：ＳＥＭ）で検査する工程を経て欠陥検査する。 - 特許庁 - A mask correction pattern for narrowing an etching opening width is formed in a position in irrelevance to a sensor shape, in an etching opening part for etching the semiconductor substrate, and the etching difference within the wafer face is narrowed by regulating a size of the mask pattern toward a wafer outer circumferential part to enhance the yield and to reduce the cost.
半導体基板をエッチングするマスク開口部において、センサ形状と無関係の位置にエッチング開口幅を狭めるマスク補正パターンを形成し、ウエハ外周部に向かって、マスク補正パターンのサイズを調整することにより、ウエハ面内でのエッチングレート差を縮め、歩留まりの向上及び低コスト化を図る。 - 特許庁 - This printing system includes an application (11) and a user interface driver (14), the user interface driver draws pattern data to a page on the basis of a start instruction from the application (S108) and the application draws document text data to the page in which the pattern data is drawn by the user interface driver (S109).
アプリケーション（１１）とユーザインターフェースドライバ（１４）とを有する印刷システムであって、前記ユーザインターフェースドライバは、アプリケーションからの開始命令に基づき模様データをページに描画し（Ｓ１０８）、前記アプリケーションは、前記ユーザインターフェースドライバにより模様データの描画されたページに文書データを描画すること（Ｓ１０９）を特徴とする。 - 特許庁 - A semiconductor device includes an interposer 20 having a first and a second faces 22, 24 facing an opposite side each other and having the wiring pattern 26 formed on the first face 22, and a semiconductor chip 10 having an electrode 12 which is mounted on the first face 22 of the interposer 20 and is electrically connected with the wiring pattern 26.
半導体装置は、相互に反対を向く第１及び第２の面２２，２４を有して第１の面２２に配線パターン２６が形成されてなるインターポーザ２０と、インターポーザ２０の第１の面２２に搭載されて配線パターン２６と電気的に接続された電極１２を有する半導体チップ１０と、を有する。 - 特許庁 - The image forming device includes a reading unit of a color image, and a controller equipped with a printing unit.When a specified pattern is recognized by the reading unit, the controller generates substituted data to the printing unit so that plane DMA data with a special pattern are substituted and printed.
カラー画像の読み取り部と、印刷部とを備えたコントローラを有する画像形成装置において、前記読み取り部が特定のパターンを認識すると、前記コントローラは、前記特定のパターンのプレーンのＤＭＡデータをすり替えて印刷するよう前記印刷部にすり替えたデータを出力する事を特徴とする。 - 特許庁 - Further, the method includes a step S08 for computing the times that the signal requires to reach plural circuits from the signal supply means as delay times and a step S09 for altering a 2nd pattern as part of the 1st pattern for arranging plural capacity elements so that the delay times are substantially as long as one another.
信号が信号供給手段から複数の回路のそれぞれに到達するのに要する時間を、遅延時間としてそれぞれ算出するステップＳ０８と、遅延時間が実質的に同一になるように、第１パターンのうち、複数の容量素子を配置するための部分である第２パターンを変更するステップＳ０９とを含む。 - 特許庁
