「Pattern」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 990 991 992 993 994 995 996 997 998 999 1000- An insulating sponge member 40 is attached to the circuit pattern formation face 21a of the printed circuit board 21 of the brush-less motor 12.
ブラシレスモータ１２のプリント回路基板２１の回路パターン形成面２１ａに、絶縁性を有するスポンジ部材４０が装着される。 - 特許庁 - Thereafter, a second photoresist film 35 is formed on the substrate 31, and a device pattern is drawn by the drawing machine adjusted in correction parameter.
その後、基板３１上に第２のフォトレジスト膜３５を形成し、補正パラメータを調整した描画機によりデバイスパターンを描画する。 - 特許庁 - To provide a method of creating a design layout of a semiconductor device that can modify design pattern at a high-speed and with high accuracy.
高速高精度に設計パターンを修正することが可能な半導体装置の設計レイアウト作成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing semiconductor apparatus having a pattern where the minimum width thereof is formed of isolated narrow space as small as possible.
最小幅が可及的に小さい孤立した狭いスペースからなるパターンを有する半導体装置を製造することを可能にする。 - 特許庁 - The pattern surface 20 is so constituted as to receive the solar energy from the flat surface 18 and then concentrate and guide the solar energy.
パターン面（２０）は、平面（１８）から太陽エネルギーを受け取り且つその太陽エネルギーを集中させて誘導するように構成される。 - 特許庁 - A sub-pattern 309 after the replacement is preferably square, and the length of one side is determined according to the length of the external-shape rectangle.
置き換え後のサブパターン３０９は、正方形が好ましく、その一辺の長さは対応する外形矩形の長さに応じて定められる。 - 特許庁 - The common electrode which has a black matrix and the second opening pattern is formed in the up substrate opposed to the thin-film transistor substrate.
薄膜トランジスタ基板と対向する上部基板にはブラックマトリックスと第２開口パターンを有する共通電極が形成されている。 - 特許庁 - The respective igniters 8, 9 are mounted in a housing respectively by connection constitution (pattern E) with different connecters 33, 34.
そして、各点火器８、９を、相異なるコネクタ３３、３４との接続構成（パターンＥ）を以て、ハウジング１に夫々装着するものである。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a multilayer ceramic substrate which can provide a positional relationship between a surface pattern or via and a substrate end accurately.
表面パターンやビア等と基板端面との位置関係を正確に設定できる多層セラミック基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To add tape information to a magnetic tape by holding the tape information in an erase gap pattern while maintaining compatibility with the conventional device.
イレーズギャップパターンにテープ情報を持たせることにより、従来装置との互換性を保ちながら磁気テープにテープ情報を付加する。 - 特許庁 - The pixels in each pair are made to be active alternately so that only one of the pixels in these pairs is used for generating a pattern.
これらのペアにおけるピクセルのうち一方のピクセルだけがパターンの生成に用いられるよう、各ペア内のピクセルを交互にアクティブにする。 - 特許庁 - To provide a method for establishing core loading pattern (LP) of a reactor for fuel assemblies and burnable absorbers (BAs).
燃料集合体及び可燃吸収体（ＢＡ）のための原子炉の炉心装荷パターン（ＬＰ）を確立するための方法を提供する。 - 特許庁 - A conductor pattern 2 constitutes a circuit element and comprises a sintered conductive film, formed on the surface of the dielectric film 3.
導体パターン２は、回路要素を構成するものであって、焼結導電膜でなり、誘電体膜３の表面上に形成されている。 - 特許庁 - To solve the problem that the cost of production of an organic molecular film pattern using ultraviolet ray and a photomask does not lower because of a relatively long tact time.
紫外光とフォトマスクを用いた有機分子膜パターンの作製には、タクトタイムが比較的長いため、製造コストが下がらない。 - 特許庁 - To provide a game machine capable of enriching the variations of performances without substantially increasing the number of variation patterns in a decorative pattern column.
装飾図柄列における変動パターンの数を大幅に増やすことなく、演出のバリエーションを豊富にすることが可能な遊技機。 - 特許庁 - A center 2 calls a microcomputer meter 9 and a network controller 8 detects ringing with a specific call pattern (steps 200-203).
センタ２がマイコンメータ９を呼び出し、網制御装置８は特定の呼出パターンのリンギングを検出する（ステップ２００からステップ２０３）。 - 特許庁 - The plastic orifice plate (28) having a specific pattern of orifices is formed with the use of a photoimageable polymer (20) and photolithography.
フォトイメージング可能なポリマー（２０）およびフォトリソグラフィーを用いて、規定したオリフィスのパターンを有するプラスチックのオリフィス板（２８）を形成する。 - 特許庁 - An electrode pattern 300 is provided on the structure of the outermost dielectric layer 140 and connected to the through-hole electrodes 141-150.
電極パターン３００は、最外側誘電体層１４０の表面に設けられ、スルーホール電極１４１〜１５０に接続されている。 - 特許庁 - A resist pattern 22 in required shape is formed on the cathode surface side of a silicon thermal oxide film 21a of an N--type semiconductor substrate 45 (S1a).
まず、ｎ^-型半導体基板４５のシリコン熱酸化膜２１ａのカソード面側に所望のパターンのレジスト２２を設ける(Ｓ１ａ)。 - 特許庁 - Further, a pattern is drawn with electron beams by using a high acceleration voltage electron beam drawing machine, and then treated for patterning such as by developing to produce a photomask.
さらに、高加速電圧の電子ビーム描画機で電子ビーム描画し、現像等のパターニング処理を施してフォトマスクを作製する。 - 特許庁 - A circuit purpose grounding electrode 16 is formed to the rear part of the dielectric board opposed to the circuit pattern 11 of the high frequency circuits 4, 5.
高周波回路４，５の回路パターン１１に対向する誘電体基体裏面部分には回路用接地電極１６を形成する。 - 特許庁 - The reticle R is cylindrical or columnar, for example, and a pattern to be transferred to the wafer W is formed on its circumferential surface.
レチクルＲは、例えば円筒形状又は円柱形状であり、その周上にウェハＷに転写すべきパターンが形成されている。 - 特許庁 - To efficiently perform gradation without being subjected to restriction on a pattern when performing coloration having texture of a metal on an aluminum-based member.
アルミニウム系部材に金属の質感を有する着色を行う際に、グラデーションを効率良く、かつパターンの制約を受けずに行う。 - 特許庁 - One such system includes: a storage containing a load profile representative of a pattern of power consumption by a type of load; and a data processing circuitry.
システムは、或る種の負荷による電力消費パターンを表す負荷プロファイルを格納する記憶装置と、データ処理回路とを含む。 - 特許庁 - To provide an object recognition system that can newly generate a sample pattern without registering all sample patterns in advance.
あらかじめすべてのサンプルパターンを登録することなく、新たにサンプルパターンを生成することのできる対象物認識システムを提供する。 - 特許庁 - An activity calculation section 23 and a mean value calculation section 25 obtain an activity of each macro block and a mean activity of one entire image pattern.
アクティビティ計算部２３、平均値計算部２５で各マクロブロックのアクティビティ及び１画面全体のアクティビティ平均値を求める。 - 特許庁 - To enhance a judging precision of an adjustment test pattern in adjustment of a tilting amount or alignment of an ink delivering section in a printing apparatus.
印刷装置におけるインク吐出部の傾き量又はアライメントの調整において、調整用テストパターンの判定精度を高める。 - 特許庁 - Then, the reflecting sheet 2 is pasted to the light guide plate body 4 by a pasting action of the paste ink which has formed the light scattering pattern 3.
該反射シート２を、前記光散乱パターン３を形成した糊インクの貼着作用をもって導光板本体４に貼着する。 - 特許庁 - To prevent a rapid load variation to a cleaning device when a reference pattern toner image formed on an intermediate transfer belt is cleaned.
中間転写ベルトに形成する基準パターントナー像をクリーニングする際に、クリーニング装置に急激な負荷変動が生じないようにする。 - 特許庁 - The board molded article 100 used for a door trim and the like of an automobile comprises a wood grain board layer with a wood grain pattern and a kenaf board layer.
自動車のドアトリム等に用いるボード成形品１００は、木目調柄を有する木目調ボード層とケナフボード層とからなる。 - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM, RESIST-COATED MASK BLANK, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOMASK, AND HIGH MOLECULAR COMPOUND
化学増幅型レジスト組成物、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び、フォトマスク、並びに、高分子化合物 - 特許庁 - Then, when the pattern becomes a state-holding mode, the on control signal is read from the element to remain the MOSFET 7 and 8 in on states.
次に状態維持モードになると、オン制御信号がメモリ素子から読出され引き続きＭＯＳＦＥＴ７及び８をオンとする。 - 特許庁 - (2) A production method of a gel pattern for providing a patterned water-repellent layer and selectively depositing and applying gel preparation raw liquid material 122.
（２）パターン化された撥水処理層を設け、選択的にゲル作製用原料液１２２を付着・塗布するゲルパターンの作製方法。 - 特許庁 - The magnetic anisotropy multilayer structure where an inversion mechanism is controlled to make inversion magnetic distribution in the bit pattern medium strict, is disclosed.
反転機構を制御してビットパターン媒体内の反転磁場分布を厳格化する磁気異方性多層構造が開示されている。 - 特許庁 - Then, a dry etching or a wet etching is applied to the second layer film 130 by using a pattern 150 formed on the resist layer 140 as a mask.
次に、レジスト層１４０に形成されたパターン１５０をマスクとして第二層膜１３０にドライエッチング、又はウェットエッチングを施す。 - 特許庁 - In this case, the pattern etching of the same conductor layer 22 is effected for the dam layer 22A whereby the dam 21 is formed simultaneously with the electrode pad 4.
このとき、同じ導体層２２をダム層２２Ａ用にパターンエッチングすることで、電極パッド４と同時にダム２１が形成される。 - 特許庁 - A bit pattern is detected and intervals are measured in the single end bit serial signal, and the timing signal is activated in that period.
シングルエンドビットシリアル信号内においてビットパターンが検知され且つインターバルが計測され、その期間中に、タイミング信号が活性化される。 - 特許庁 - Further, the defect compensating circuit 76 performs interpolation using a prepared interpolation pattern selected according to adjacent patterns of the dot flaw and line flaws.
また、欠陥補正回路７６は点キズと線キズの隣接パターンに応じて予め用意された補間パターンから選択して補間する。 - 特許庁 - To extract embedded information by simply and accurately specifying the positions of patterns one by one even when pattern arrangement is distorted.
パターンの並びが歪んだ場合であっても、パターン一つひとつの位置を簡易かつ正確に特定して、埋め込まれた情報を抽出する。 - 特許庁 - To provide a magnetic disk device for making magnetic recognition of the servo-pattern area correctly and performing disk access control properly.
サーボパターン領域を磁気的に正しく認識し、ひいてはディスクアクセス制御を正常に行うことができる磁気ディスク装置を提供する。 - 特許庁 - PHOTOPOLYMERIZATION INITIATOR, PHOTOCURABLE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, COLOR FILTER, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING PHOTOPOLYMERIZATION INITIATOR
光重合開始剤、光硬化性組成物、パターン形成方法、カラーフィルタ、液晶表示装置、及び光重合開始剤の製造方法 - 特許庁 - The data recording method on an optical recording medium forms marks or spaces by using the recording waveforms having a erasure pattern including multiple pulses.
光記録媒体へのデータ記録方法は、マルチパルスを含む消去パターンを有する記録波形を用いてマークまたはスペースを形成する。 - 特許庁 - On a ceramic substrate 111, where many heat radiation holes (holes for heat sink) 11 are bored, a pattern electrode of a specific style is provided first.
先ず、多数個の放熱穴(holes for heat sink)１１１ａ、１１１ａ'を設けたセラミック基板１１１上に一定形態のパターン電極を設ける。 - 特許庁 - To acquire the accurate luminance information of a pattern on a substrate, and to set illumination light quantity optimal to check for the substrate.
基板上におけるパターンの正確な輝度情報を取得し、基板に対して検査に最適な照明光量を設定すること。 - 特許庁 - Recording conductive patterns W1 and W2 are formed between a control conductive pattern P and reproducing conductive patterns R1 and R2.
制御用導電パターンＰと再生用導電パターンＲ１，Ｒ２との間に、記録用導電パターンＷ１，Ｗ２が形成されている。 - 特許庁 - To prevent failure of a resist pattern in using a barrier film containing nano-particles consisting of an inorganic oxide for liquid immersion lithography.
液浸リソグラフィに無機酸化物からなるナノ粒子を含む液体を用いる際のレジストパターンのパターン不良を防止できるようにする。 - 特許庁 - A groove part 6 for adhesive resin flow is formed near the mounting region of a semiconductor chip 1 in the wiring pattern 3.
配線パターン３における半導体チップ１の搭載領域近傍には、接着用樹脂を流すための溝部６が形成されている。 - 特許庁 - A resist pattern 22a having an opening 41 is formed by forming a photosensitive layer 22 having a predetermined thickness and effecting a series of patterning treatments.
所定厚の感光層２２を形成し、一連のパターニング処理を行って、開口部４１を有するレジストパターン２２ａを形成する。 - 特許庁 - POLYMER MEMBRANE FOR HARD MASK COMPOSED OF TETRAHEDRAL CARBON COMPOUND AND ITS PRODUCING METHOD, AND METHOD FOR FORMING FINE PATTERN USING IT
四面体炭素化合物からなるハードマスク用のポリマー膜及びその製造方法、並びにそれを利用した微細パターンの形成方法 - 特許庁
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