「Photo-method type」を含む例文一覧(74)
＜前へ 1 2- To provide a method of manufacturing a group III-V compound semiconductor photo diode which can control the depth of a p-type diffusion region with high precision and does not generate roughness on a semiconductor light receiving surface.
ｐ型拡散領域の深さを高い精度で制御することができかつ半導体受光表面の荒れを生じることのないＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体フォトダイオードの作製方法を提供する。 - 特許庁 - The curing method is one for the ink layer which is formed on a recording medium and consists of a photo-cure type ink containing at least one acid-polymerizable solvent, a photoacid generator which generates an acid by photoirradiation and color ingredients.
記録媒体上に形成され、酸重合性の少なくとも１種の溶媒と、光照射により酸を発生する光酸発生剤と、色成分とを含有する光硬化型インクからなるインク層の硬化方法である。 - 特許庁 - In this method, after etching and the photo resist peeling, the magnetic field reinforcement type reactivity ion etching method is used for removing a residual substance.
本発明の方法によれば、エッチング及びフォトレジスト剥離後、磁界強化型反応性イオンエッチング法を用いて残留物質を除去することにおいて、その反応条件は、弗素及び酸素を含む気体が反応気体として用いられ、圧力が１０〜５０mtorrで、磁界が２０〜１００ガウスである。 - 特許庁 - In the method for treating waste water which decomposes and removes the organic harmful substance in the presence of a photo-catalyst included in a leachate by introducing the leachate from a waste landfill disposal facility, the method comprises a step of continuously or intermittently adding hydrochloric acid to the leachate influent into the photo-catalyst type waste water treatment apparatus 6 so that the pH becomes 5 or less.
廃棄物埋立処分場の浸出水を、光源と光触媒とを有する光触媒式廃水処理装置に導入して浸出水に含まれる有害有機物を光触媒の存在下に分解、除去する廃水処理方法において、光触媒式廃水処理装置６に流入する浸出水に、ｐＨが５以下となるように塩酸を連続的または間欠的に添加する。 - 特許庁 - To solve the problem that a manufacturing margin is small and when the distance between source/drain wiring is made short, yield is lowered, in the conventional manufacturing method wherein the number of manufacturing steps is reduced by forming a semiconductor layer and the source/drain wiring of a channel etching type and insulating gate type transistor are formed in one photo etching step using a halftone exposure technique.
ハーフトーン露光技術を用いて１回の写真食刻工程でチャネルエッチ型の絶縁ゲート型トランジスタの半導体層とソース・ドレイン配線を形成して製造工程数を削減した従来の製造方法では製造裕度（マージン）が小さくソース・ドレイン配線間の距離が短くなると歩留が低下する。 - 特許庁 - To solve the problem that a manufacturing margin is small and when the distance between source/drain wiring is made short, yield is lowered, in the conventional manufacturing method wherein the number of manufacturing steps is reduced by forming a semiconductor layer and source/drain wiring of a channel etching type and insulating gate type transistor are formed in one photo etching step using a halftone exposure technique.
ハーフトーン露光技術を用いて１回の写真食刻工程でチャネルエッチ型の絶縁ゲート型トランジスタの半導体層とソース・ドレイン配線を形成して製造工程数を削減した従来の製造方法では製造裕度（マージン）が小さくソース・ドレイン配線間の距離が短くなると歩留が低下する。 - 特許庁 - This method for forming the cured coated film comprises applying an ultraviolet light-curing type coating agent containing a photopolymerizable resin, photopolymerization initiator and photo-stabilizing agent as essential components on a base material, and then irradiating the ultraviolet light having <290 nm wave length thereto.
光重合性樹脂と、光重合開始剤と、光安定剤とを必須成分として含有する紫外線硬化型コーティング剤を基材に塗布後、２９０ｎｍ未満の波長の紫外線を照射して、硬化塗膜を形成する方法。 - 特許庁 - In the method for manufacturing the liquid crystal display device, a seal layer 8 is annularly formed by using a sealing agent 8a prepared by a photo-curing resin or combined-type resin on an outer side of a display region (a peripheral region) of a substrate being at least one of a TFT substrate 2 and an opposing substrate 3.
ＴＦＴ基板２および対向基板３の少なくとも一方の基板の表示領域の外側（周辺領域）に、光硬化型樹脂または併用型樹脂からなるシール剤８ａを用いてシール層８を環状に形成する。 - 特許庁 - To provide a gloss restoration method for a floor surface coating material which is capable of rapidly increasing the glossiness of a floor surface by using a polisher or scrubber machine even if the floor surface coating material formed by a photo-curing type resin is used on the floor surface.
床面上に光硬化型樹脂により形成された床面被覆物を使用しても、ポリッシャーやスクラバーマシンを用いて短時間で床面の光沢度を上昇させることができる床面被覆物の光沢復元方法を提供すること。 - 特許庁 - Provided are an active energy ray-curing type water-based ink composition, characterized by comprising water, a water-soluble photo-polymerizable substance radically polymerizable with active energy rays, a water-soluble photo-polymerization initiator whose residue is an acidic compound after a radical produced with active energy rays is deactivated, and an anionic aqueous pigment dispersion, and an inkjet recording method using the ink.
少なくとも、水と、活性エネルギー線によってラジカル重合する水溶性光重合性物質と、活性エネルギー線によって生成するラジカルの失活後の残渣が酸性化合物となる水溶性光重合開始剤と、アニオン性水性顔料分散体とを含有することを特徴とする水性活性エネルギー線硬化型インク組成物、及び該インクを用いたインクジェット記録方法。 - 特許庁 - Its manufacturing method includes forming the mesa-like piezoelectric substrate on the plate-like piezoelectric substrate using photo-lithography and etching techniques; putting the piezoelectric substrate into a cylindrical container together with abrasive material; and rotating the container at a predetermined rotating speed to manufacture the mesa-bevel type piezoelectric substrate.
その製造方法は、平板状の圧電基板上にフォトリソ技術とエッチング手法とを用いてメサ形圧電基板を形成し、該圧電基板を研磨剤と共に円筒容器に入れ、所定の回転速度で回転してメサ−ベベル型圧電基板を製造する。 - 特許庁 - The method of manufacturing the semiconductor comprises the steps of the forming an n+ type epitaxial layer 2a first on a substrate, forming a SiO_2 film on the substrate and opening a capacitor dielectric film region and an upper electrode contact region by means of photo lithography and etching.
このキャパシタの製法は、まずＳｉ基板１上にｎ型エピタキシァル層２ａを形成し、次に基板１の表面にＳｉＯ_２膜を形成し、フォトリソ工程とエツチ工程により、キャパシタ誘電体膜領域と上側電極コンタクト領域を開口する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor package equipped with a heat spreader permitting to adhere a semiconductor chip without giving any heat stress to the same and without spoiling characteristics such as a resistance to solder heat or the like by a method wherein photo-cation setting type adhesive is employed as an adhesive since heating is not required in the setting process thereof.
「はんだ耐熱性」等の特性を損なわずに、接着剤として光カチオン硬化型接着剤を用いることにより、硬化工程で加熱する必要がないので、半導体チップに熱ストレスを与えることなく接着可能なヒートスプレッダを備えた半導体パッケージを提供する。 - 特許庁 - This method for restoring the gloss of the floor surface coating material disposed on the floor material surface is characterized in that the floor surface coating material is the photo-curing type resin coating film and the floor surface coating material is polished by rotating a pad for polishing and baking and using a polishing agent on the surface coating material.
床材表面に設けられた床面被覆物の光沢復元を行う方法であって、床面被覆物が光硬化型樹脂塗膜であり、床面被覆物上で艶出し・焼付け用のパッドを回転させ、研磨剤を使用して研磨を行うことを特徴とする。 - 特許庁 - To provide an inter-line transfer type solid-state imaging device, together with a method for manufacturing it, of wide dynamic range, high sensitivity, and low smear wherein the dispersion in signal-reading characteristics from a photo-electric conversion part to a charge transfer part is less while a dark current and white blemish occurring at the photoelectric transfer part is suppressed.
光電変換部から電荷転送部への信号読み出し特性のバラツキが少なく、光電変換部で発生する暗電流や白キズを抑制した、広ダイナミックレンジ、高感度、低スミアのインターライン転送型の固体撮像装置及びその製法を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal aligning agent which can impart a good pretilt angle when a liquid crystal aligning film is formed therefrom by a photo-alignment method and this film is applied to a VA type liquid crystal display element, and which can form a liquid crystal aligning film excellent in stability with time of the imparted pretilt angle.
光配向法によって液晶配向膜を形成したときに、これをＶＡ型の液晶表示素子に適用した場合にあっては良好なプレチルト角を付与することができ、且つ付与されたプレチルト角の経時的安定性に優れる液晶配向膜を形成することができる液晶配向剤を提供すること。 - 特許庁 - WET OFFSET PRINTING FORM USED FOR FEEDING-TYPE ROTARY PRINTING DEVICE ACCOMPANIED BY MATERIAL CHANGED BY PHOTO-CATALYTIC ACTION AND HEATING, AND METHOD AND DEVICE FOR FORMING AND/OR ERASING PRINT IMAGE OF THE SAME FORM USED FOR THE SAME DEVICE
光触媒作用および加熱により変質可能な物質を伴う印刷用供給式回転印刷装置に使用される湿式オフセット・プリンティングフォームおよび印刷用供給式回転印刷装置に使用される湿式オフセット・プリンティングフォームのプリント・イメージを生成するためおよび／またはプリント・イメージを消去するための方法及び装置 - 特許庁 - The method of manufacturing the color filter includes processes of: forming the negative type films 18 by using green, blue and red colored compositions in accordance with a plurality of photo-electric conversion elements 12 in an imaging device 14; performing pattern-exposure of the films via a density distribution mask; and thereafter, developing the film to form the outer surface of each color filter into a convex lens shape.
カラーフィルター製造方法は：撮像素子１４の複数の光電変換素１２に対応して緑，青，赤色組成物によりネガ型膜１８を形成し、この膜を濃度分布マスクを介してパターン露光した後に現像し、現像後に各色フィルターの外表面が凸レンズ形状に形成されている。 - 特許庁 - In this method, in a nuclear power plant, the radioactive material handling facility or the like, a photo-curing type vinyl ester resin satisfying a specification of radioactivity resistance, heat resistance and tensile strength is formed beforehand in a sheet shape, and the formed product is directly stuck onto a SUS steel, a general steel product, concrete or the like in the air.
原子力プラント及び放射線物質を取り扱っている設備等において、耐放射線性，耐熱性，引張強度の仕様を満たす光硬化型ビニルエステル樹脂をあらかじめシート状に成型加工し、該加工品を気中でＳＵＳ鋼，一般鋼材及びコンクリート等に直接貼り付け処理する方法である。 - 特許庁 - This method of adhering two substrates adheres by locating an activated adhesive film after irradiating the photo activating type adhesive film with light to contact with a first substrate, and locating a second substrate to contact with the activated adhesive film, and then thermo compression bonding the first substrate and the second substrate.
２つの基材を接着する方法において、光線活性化型接着フィルムに光線を照射し、この活性化された接着フィルムを第１の基材と接するように配置し、第２の基材を、前記活性化された接着フィルムと接するように配置し、次いで上記第１の基材と第２の基材を熱圧着して接着する。 - 特許庁 - To provide a novel reduction type flake-like highly heterochromic titanium oxide composition developing color in appearance on powder or on a coating surface layer by light interference, useful as a photo-functional material for cosmetics, ink, plastics, catalysts or the like and excellent in availability such as dense feeling, flip/flop property or extensibility and a method of producing the same.
粉体外観色及び塗布面上の層において光干渉により外観発色する新規で、且つ化粧料、塗料、インキ、プラスチック、触媒等の光機能性材料として有益な緻密感とフリップ・フロップ性及び伸展性等の使用感触の良好な還元型薄片状高虹彩色酸化チタン組成物及びその製法を提供する。 - 特許庁 - This inkjet recording method includes a step for forming a black film by ejecting, on a same region in a recoding medium respectively, a plurality of inkjet photo-curing type inks including at least a polymerizable compound, a polymerization initiator and a coloring agent, and a step for curing the film by allowing the film to be irradiated with light.
本発明に係るインクジェット記録方法は、少なくとも重合性化合物、重合開始剤および色剤を含む、複数のインクジェット用光硬化型インクを、それぞれ記録媒体上の同一領域に吐出することによってブラックの膜を形成する工程と、光を照射することにより該膜を硬化させる工程と、を含む。 - 特許庁 - The method of manufacturing a bidirectional photo thyristor having a semiinsulating oxygen-doped polycrystalline silicon film as a high voltage withstanding passivation film of a planar type light receiving device comprises a step of measuring the refractive index of the semiinsulating oxygen-doped polycrystalline silicon film, and a step of estimating the oxygen concentration of the semiinsulating oxygen-doped polycrystalline silicon film, based on the measured refractive index.
本発明の製造方法は、プレーナ型受光素子の高耐圧用パシベーション膜として半絶縁性酸素ドープ多結晶シリコン膜を有する双方向フォトサイリスタの製造方法であって、半絶縁性酸素ドープ多結晶シリコン膜の屈折率を測定する工程と、測定した屈折率に基き半絶縁性酸素ドープ多結晶シリコン膜の酸素濃度を推定する工程とを備える。 - 特許庁 - To provide a method of forming a pattern of a semiconductor device in which a smaller photomask pattern stage can be achieved by performing an etching stage for photomask patterns using photosensitive film patterns as an etch-stop layer after forming the photosensitive film patterns between the photomask patterns by using a self-alignment system using negative photoresist and then performing a heat treatment stage for expanding the photoresist film patterns.
本発明は、ネガ型フォトレジスト(Negative Type Photo Resist)を用いた自己整列方式を利用してフォトマスクパターンの間に感光膜パターンを形成し、感光膜パターンを拡大するための熱処理工程を行った後、感光膜パターンをエッチング防止膜として用いてフォトマスクパターンに対してエッチング工程を行うことにより、さらに微細なフォトマスクパターン工程が可能な半導体素子のパターン形成方法を提供するものである。 - 特許庁
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