「Process Control」を含む例文一覧(6810)
＜前へ 1 2 .... 69 70 71 72 73 74 75 76 77 .... 136 137 次へ＞- The control gates CG are formed so that a polysilicon layer 14 may be left in large amounts on an ONO film 13 in the side sections of memory gates MG through an anisotropic etching process.
異方性エッチング工程を経てメモリゲートＭＧ側部のＯＮＯ膜１３上にポリシリコン層１４が多く残存するようにしてコントロールゲートＣＧを形成する。 - 特許庁 - To provide a tracking control method for accurately calculating the optimal division number of a subfield to avoid abort in a shot process in real time.
ショット処理過程でリアルタイムにアボートを回避するために、最適なサブフィールドの分割数を確実に算出するトラッキング制御方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide an aromatic polyamide film stabilizing its drawing process by addition of an additive, realizing high productivity and allowing easy control of its orientation.
添加剤によって延伸工程を安定化し、高い生産性を発現し、かつフイルムの配向の制御が容易な芳香族ポリアミドフイルムの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a wire harness system that can process data at a practical communication speed even when control data are centrally managed so as to build up a large scale network including many actuators.
制御データを一元的に管理した場合であっても、実用的な通信速度でデータを処理し、もって多数のアクチュエータを含む大規模なネットワークを構築すること。 - 特許庁 - To provide a method of cooling steel and an apparatus for it by which the quality in TMCP (temperature control rolling process) rolling is improved by preventing the water leakage from a nozzle.
ノズルの水漏れを防止してＴＭＣＰ（温度制御圧延プロセス）圧延における品質を向上させる鋼材の冷却方法及びその装置を提供する。 - 特許庁 - A module address storage part 3 stores for each page either the address of a module which a circuit control part 4 should read or data showing the requirements for a branching process and the width of a jump.
モジュールアドレス記憶部３は、回路制御部４が読み込むべきモジュールのアドレス、又は分岐処理の条件及びジャンプの幅を示すデータをページ毎に記憶している。 - 特許庁 - At the steady state, the number of times of comparison when a battery voltage Vs is lower than a reference voltage VH reaches 20 times, a control device 10 performs an ending process.
定常時では、電池電圧Ｖｓが基準電圧ＶHよりも低いという比較回数が２０回に達すると、制御装置１０は装置のエンド処理を行う。 - 特許庁 - To provide a printer realizing printing with high productivity by having the control of a production process improved by an operator, and a method for managing a print queue.
オペレータが生産プロセスを制御するのを改善することによって、高い生産性で印刷するのを可能にするプリンタおよび印刷キューを管理する方法を提供する。 - 特許庁 - To assure excellent magnetic characteristic such as residual magnetic flux density and coercive force or the like, control grain growth in the sintering process, and expand the range of sintering temperature.
残留磁束密度及び保磁力等の磁気特性に優れ、焼結過程における粒成長を抑制することができ、且つ焼結温度幅を拡大することができる。 - 特許庁 - A control process part 25 of a cooking indication device 20 sorts order menus from a handy terminal 10 in the setting order and displays them by tables on a display 22 for cooking indication.
調理指示装置２０の制御処理部２５は、ハンディターミナル１０からの注文メニューを配膳順にソートしてテーブル毎に調理指示用ディスプレイ２２に表示する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor tester for improving the process efficiency of a controller, the synchronization accuracy of a control, and the total test efficiency.
制御装置の処理効率を高め、更には制御の同期精度を高めることで、全体の試験効率を向上させることができる半導体試験装置を提供する。 - 特許庁 - Once, HC gas concentration enter a combustible gas low concentration region (yes in S108), process is changed over and nitrogen gas flow rate is controlled to keep a relation of (HC gas concentration) ≤ (combustible gas control concentration Lcon) (S110).
一旦、HCガス濃度が可燃ガス低濃度領域に入ると（S108でyes）処理を切り替えてHCガス濃度≦可燃ガスコントロール濃度Lconとなるように窒素ガス流量を制御する（S110）。 - 特許庁 - To provide a nonvolatile semiconductor memory device capable of performing a simultaneous multi-bit writing process while averaging loads thereon, and further to provide a writing control method thereof.
負荷を平均化して複数ビットの同時書き込み処理を行うことができる不揮発性半導体記憶装置およびその書き込み制御方法の提供を図る。 - 特許庁 - To improve film thickness precision (film thickness control precision) of an insulating film on a fuse in a process of forming a bonding opening on a bonding pad and a groove on the fuse together.
ボンディングパッド上のボンディング開口と、ヒューズ上の溝とを一括して形成するプロセスにおいて、ヒューズ上における絶縁膜の膜厚精度（膜厚制御精度）を高める。 - 特許庁 - The masking process circuits 16A, 16B respectively execute the masking to the high-frequency part of an output of the quantizer 14 to 0 in accordance with the control signal from buffers 20A, 20B.
マスキング処理回路１６Ａ，１６Ｂはそれぞれ、バッファ２０Ａ，２０Ｂからの制御信号に従い、量子化器１４の出力の高周波部分を０にマスキングする。 - 特許庁 - After an m th image of a plurality of images has been formed, a printer controller performs image process control at a timing before an (m+1) th image is formed.
プリンタ制御装置は、複数枚の画像におけるｍ番目の画像が形成された後で、（ｍ＋１）番目の画像が形成される前のタイミングで、画像プロセス制御を行う。 - 特許庁 - This image forming apparatus 1 is equipped with a memory 1a, an operation part 1b, a main control part 3, and the process cartridge 2 which incorporates the recording material 2a such as toner and an ID chip 2b.
画像形成装置１は、メモリ１ａ、操作部１ｂ、主制御部３及びトナーなどの記録材２ａとＩＤチップ２ｂを内蔵するプロセスカートリッジ２を備えている。 - 特許庁 - To control light as well as color of illumination to meet the process of a game, thus performing light representation and informing a player of the state and the result of the game.
照明の光や色をゲームの進行に合わせて制御でき、光の演出を行いながらプレイヤにゲームの状態や結果などを知らせることを可能とする。 - 特許庁 - To early find a wafer of element isolation level difference abnormality and to control a polishing amount in a CMP process to an appropriate size by a simple configuration and with good accuracy.
素子分離段差異常ウェハの早期発見を可能とし、ＣＭＰ工程における研磨量を簡便な構成でしかも精度良く適切な大きさに制御する。 - 特許庁 - The method is provided with a remote control system for the medical diagnostic images which may be received from a user or a remote image storage system for matching and subtraction process.
ユーザから受け取ったり遠隔の画像記憶システムから収集することがある医用診断画像をマッチング及びサブトラクション処理するために遠隔処理システムを設けている。 - 特許庁 - To enhance the chemical cleaning effect of a filter membrane soaked in a membrane soaking tank and facilitate the operation control by shooting a variety of troubles entailing a chemical cleaning process.
膜浸漬槽に浸漬された濾過膜の薬品洗浄の効果を高めると共に、薬品洗浄時に併発する種々のトラブルを解決し、運転管理を容易にする。 - 特許庁 - To provide a material vaporization supply apparatus which can accurately control the supply quantity of material to a process chamber, and is used for semiconductor manufacture by MODVC method.
原料のプロセスチャンバへの供給量を高精度で制御することができるＭＯＤＶＣ法による半導体製造に使用する原料気化供給装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus that can control an operation of a processor in accordance with a speed of a subsequent stage process to maintain a speed of data processing properly, while reducing a consumption power.
画像形成装置において、後段の処理の速度に合わせてプロセッサーの動作を制御してデータ処理の速度を適切にしつつ消費電力を低減させる。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a liquid crystal display device, by which reduction in the yield of a liquid crystal display device can be decreased, process control can be facilitated and performances such as contrast can be improved.
液晶表示装置の歩留まりの低下を低減でき、工程管理を容易化でき、コントラスト等の性能を向上できる液晶表示装置の製造方法を得る。 - 特許庁 - The control means 500 determines that the state of the recording medium is abnormal when the distance to the recording medium detected in the second process is equal to or more than a predetermined value.
制御手段５００により、第２の工程で検知した記録媒体までの距離が所定値以上である場合に記録媒体の状態が異常であると判断する。 - 特許庁 - In the color reproduction accuracy improving process, control parameters are corrected so as to bring the results of the measurement of the colorimetric adapting area of a multi-dimensional color toner image closer to original colors.
色再現精度向上処理では、多次色トナー像の測色適応領域を測色した結果を本来の色に近づけるように制御パラメータを補正する。 - 特許庁 - To provide a resin heat exchanger and a method of manufacturing the resin heat exchanger capable of efficiently and accurately carrying out temperature control of a process fluid.
高効率且つ高精度に、プロセス流体を温度制御できる樹脂製熱交換器及び樹脂製熱交換器の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - A working liquid storing pump is driven so that the number of revolution of the working liquid storing pump is proportional to the difference value ΔT, and the process of this control cycle is finished (SA4).
加工液溜め用ポンプの回転数を差分値ΔＴに比例するように加工液溜め用ポンプを駆動し、今回の制御周期の処理を終了する（ＳＡ４）。 - 特許庁 - To provide a control device of a manufacturing plant, which can flexibly response to a change in component such as extension of the manufacturing plant without completely stopping the whole manufacturing process.
製造プロセス全体を完全に止めず、製造プラントの増設等の構成要素の変更に対して柔軟な対応を可能にする製造プラントの制御装置を提供する。 - 特許庁 - Further, an application program installed on the side of the general OS is actuated to perform a process of automatically setting various parameters (control variable, processing condition data, etc.) at need.
また、汎用ＯＳ側にインストールしたアプリケーションプログラムを起動して諸パラメータ（制御変数、加工条件データ等）を自動設定する処理を必要に応じて実行する。 - 特許庁 - Alternatively, the main control device 101 creates priority sequence information with respect to respective symbol numbers of reels to which no stop command is issued, in a stop information setting process.
また、主制御装置１０１は、停止情報設定処理において、停止指令の発生していないリールの各図柄番号に対して優先順位情報を作成する。 - 特許庁 - A process control device 13 which controls plant equipment 15 connected via a network substrate 14 is connected with a graphic controller device 12 via a bass device 18.
ネットワーク基板１４を介して接続して接続されたプラント機器１５を制御するプロセス制御装置１３は、バス装置１８を介してグラフィックコントローラ装置１２に接続される。 - 特許庁 - In this way, on the basis of the amount of displacement of the valve shaft and that of measurement results (measurement values) of the process variable, a diagnosis operation control unit 107 controls the operation of a diagnosis unit 100.
このような、弁軸の変位量やプロセス変量の測定結果（測定値）の変化量をもとに、診断動作制御部１０７は、診断部１００の動作を制御する。 - 特許庁 - The control device 9 of the over-loading preventing device can be shifted to a process for setting the operation mode only when the operation mode setting allowance switch 12 is turned on.
過負荷防止装置の制御器９は、作業モード設定許可スイッチ１２がオン操作されるときにのみ作業モードを設定するプロセスへ移行できるものとする。 - 特許庁 - To provide a manufacturing apparatus and manufacturing method which control heating of a reaction furnace in order to curtail the energy cost of a zinc reduction process manufacturing apparatus of silicon for solar batteries.
太陽電池用シリコンの亜鉛還元法製造装置のエネルギーコスト削減を図るための反応炉の加熱制御を行う製造装置及び製造方法を提供する。 - 特許庁 - To shorten the pouring time of dilute sulfuric acid electrolyte and to reduce deformation of a separator when pouring electrolyte in an assembly process of a control valve lead-acid battery.
制御弁式鉛蓄電池の組立工程において、希硫酸電解液の注液時間を短縮するとともに、注液時におけるセパレータの変形を少なくする。 - 特許庁 - To control fluctuation so as to satisfy the manufacturing tolerance by uniforming the fluctuation of a pattern dimension over a workpiece and forming the pattern on the workpiece in a plunge EDM process.
プランジＥＤＭプロセスにおいて、工作物にわたるパターン寸法の変動を一様にして工作物にパターンを形成し、製造許容差を満たすように変動を制御する。 - 特許庁 - To provide a method of producing a metal oxide by a sol-gel process, which can control particle diameters freely and further uniformize the particle diameters.
粒径を自在に制御することができ、更にはその粒径の均一化を図ることが可能なゾルゲル法による金属酸化物の製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - To provide an assembly type optical component that achieves characteristic change suppression before and after a lead-free solder reflow process, while achieving control of transmittance, in particular, high transmittance.
透過率の制御、特に高透過率を実現しつつ、鉛フリー半田のリフロー工程前後での特性変動抑制を実現する組立型光学部品を提供する。 - 特許庁 - To provide a motor drive capable of eliminating the use of an expensive and complicated dielectric process one-chip IC in drive control of blast motor in various types of household electrical appliances.
各種家電機器に使用される送風モータの駆動制御において、高価で複雑な誘電体プロセスの１チップＩＣを使用せずに、モータの駆動装置を提供する。 - 特許庁 - A control part changes a drop condition of a resist drop process by the resist drop part for each shot, for a plurality of shots set on the substrate.
前記制御部は、前記基板上に設定された複数のショットに対し、前記レジスト滴下部によるレジスト滴下処理の滴下条件をショット毎に変化させるよう制御する。 - 特許庁 - In the process of manufacturing the SZ slot 8, the temperature of a rotary die 2 is measured by using a radiation thermometer 9 and its temperature information is sent to a temperature control unit.
ＳＺスロット８の製造工程において、回転ダイス２の温度を、放射温度計９を用いて測定し、この温度情報を温度制御機へ送信する。 - 特許庁 - The electronic control device 61 changes degree of gradual change at a time of the gradual change process according to load applied on the engine 11 and change gear ratio of a gear box.
また、電子制御装置６１は、前記徐変処理を行う際の徐変度合いをエンジン１１に加わる負荷、ここでは変速機による変速比に応じて変更する。 - 特許庁 - To provide an electric rice cooker including cleaning function menu, which is stable in duration of boiling and cleaning process at the time of cleaning control operation.
クリーニングメニュー機能を備えた電気炊飯器であって、クリーニング制御時の沸とう維持時間およびクリーニング工程時間共に安定した電気炊飯器を提供する。 - 特許庁 - To provide a process for fabricating an electronic device in which control of removing quantity of a damaged layer or shaving remnant on the surface of an insulating film can be carried out easily.
絶縁膜の表面上の表面損傷層及び削り残し等の除去量の制御を容易に行うことができる電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a sputtering method and a film deposition apparatus which, during a process for depositing a layer on a substrate by a physical vapor deposition (PVD) method, control properties of the layer.
物理的気相成長法（ＰＶＤ）により基板上に層を形成するプロセス中に、層の特性を制御可能なスパッタリング方法及び成膜装置を提供する。 - 特許庁 - In addition, the system is provided with a process control table which realizes setting of relating of processing programs corresponding to functions for embedding/detecting the sub-information with each other for each type of medium.
また、副情報埋込検出の機能に対応する処理プログラムの関連付けをメディア種別毎に設定することを可能とするプロセス制御テーブルを備える。 - 特許庁 - To provide a process for producing a clad material, which excels in productivity, facilitating control of the surface roughness and flatness of side material member, and which suppresses bonding failure.
生産性に優れ、側材用部材の表面粗度および平坦度の制御が容易であり、密着不良が生じにくいクラッド材の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To evaluate maintainability and continuity regarding inner control periodically requested to a company, and reduce operation load and cost for test and evaluation process.
会社が定期的に求められる内部統制について、維持・継続性を評価し、テスト・評価過程の作業負荷・コストの軽減を図る業務プロセス統制テスト計画作成システム。 - 特許庁 - Based on the fact that the obtained measured value is not included in a second range including the record value, an abnormality counter process about the second ABS control 262 is executed (25).
また、取得した計測値が、当該記録値を含む第２の範囲に含まれないことに基づいて、第２のＡＢＳ制御（２６２）についての異常対策処理を行う（２５）。 - 特許庁
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