「RECESS」を含む例文一覧(14264)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 285 286 次へ＞- RECESS GATE STRUCTURE HFET AND ITS MANUFACTURING METHOD
リセスゲート構造ＨＦＥＴおよびその製造方法 - 特許庁 - The two electrodes are provided on a bottom of the recess.
二つの電極は凹部の底部に設けられている。 - 特許庁 - RECESS GATE OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
半導体素子のリセスゲート及びその製造方法 - 特許庁 - METHOD OF FORMING METAL POWDER COMPACT HAVING RECESS
凹部を有する金属粉末成形体の成形方法 - 特許庁 - METAL INSERT WITH SCREWED PHASEDLY FORMED RECESS
段階的に形成されたねじ凹み付き金属インサート - 特許庁 - A resilient body presses the pawl portions in the fitting direction to the recess.
弾性体は、凹部に嵌る方向に爪部を押す。 - 特許庁 - The fluid flow passage 12 escapes the oil 13 in the recess 6a when the insertion member 9 is pushed into the recess 6a, and introduces the oil 13 into the recess 6a when the insertion member 9 is pulled out of the recess 6a.
流体流路１２は、挿入部材９が凹部６ａに押し込まれる際に凹部６ａ内の油１３を逃がし、挿入部材９が凹部６ａから引き出される際に凹部６ａ内に油１３を導入する。 - 特許庁 - A recess 5a is formed in the upper cathode 5.
上方のカソード電極(5) は凹部(5a)が形成されている。 - 特許庁 - A handhold recess section 6 is provided to the front back of the holder 2.
ホルダー２の前後面に手掛凹部６を設ける。 - 特許庁 - The body 2 has a recess 8 on its upper surface.
シート本体２は、その上面にリセス８を有する。 - 特許庁 - The size of the recess and a pitch between the recesses are arbitrary.
この凹部の寸法や凹部間のピッチは任意とする。 - 特許庁 - HFET WITH RECESS GATE STRUCTURE AND ITS MANUFACTURING METHOD
リセスゲート構造ＨＦＥＴおよびその製造方法 - 特許庁 - The holding part 4a comprises a recess in which the substrate matches.
保持部４ａは基板が適合する凹部からなる。 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE WITH RECESS AND PROJECTION SCREEN
凹部付き基板の製造方法及び投写用スクリーン - 特許庁 - The center case 20 is provided with a recess chamber forming wall 23 where the recess chamber 21 is formed, a performance member 201 which is arranged within the recess chamber 21 and operable within the recess chamber 21, and a drive source 215 which drives the performance member 201.
センターケース２０に、凹室２１を形成する凹室形成壁２３と、凹室２１内に配設され、該凹室２１内で動作可能な演出部材２０１と、演出部材２０１を駆動する駆動源２１５と、を備える。 - 特許庁 - When the recess surface 3a of the recess 3 is not glossy, the recess surface 3a is made to be glossy by buffing, and the desired surface portion 2 other than the recess surface 3a is satin-finished by the spinning barrel polishing machine.
凹部３の凹部表面３ａが光沢性のない場合は、羽布加工により凹部表面３ａを光沢面とし、回転バレル研磨機で凹部表面３ａ以外の所望する表面２の部分を梨地面とする。 - 特許庁 - A recess 8 is formed in the top face of the container 1.
容器１の頂面に凹陥部８を形成する。 - 特許庁 - A recess 12 is formed in the deepest portion of the groove 11.
溝１１の最深部分に凹部１２を形成する。 - 特許庁 - At a first razor blade 30 at the lowest stage, a recess part communication hole 32 which communicates with the recess part 24 is formed, and the cut beard is discharged from the cut beard discharging path A at the lowest stage through the recess part communicated hole 32 and the recess part 24.
最下段の第１剃刀刃３０には凹部２４に連通する凹部連通孔３２が形成され、最下段の髭かす排出路Ａから、凹部連通孔３２及び該凹部２４を介して髭かすを排出する。 - 特許庁 - A leg 3 is inserted to a leg recess 4 of a pedestal weight C.
脚３を台座ウェイトＣの脚用凹４にさす。 - 特許庁 - On a center part in the right and left width directions of the frame 4, a wiring fixing recess 50 and a lightening recess 53 are provided on the upper surface, and a lightening recess 54 is provided on the under surface, respectively.
フレーム４の左右の幅方向の中央部には、上面に配線固定凹部５０及び肉抜凹部５３が、また、下面に肉抜凹部５４が、それぞれ備えられている。 - 特許庁 - A crystal piece 2 is accommodated within the recess of the container body 1, and the recess is closed with a metal cover 3 grounded, thereby tightly sealing a crystal piece 2 within the recess.
水晶片２を容器本体１の凹部内に収容し、接地された金属カバー３によって凹部を閉じることによって凹部内に水晶片２を密閉封入する。 - 特許庁 - In this way, the resin flows annularly in the peripheral part of the recess 11, falls into the recess 11 by gravity, and can be packed/impregnated uniformly into the recess 11.
これにより、樹脂は凹部１１の外周部を環状に流れ、重力により凹部１１内に流れ落ちていき、凹部１１内に樹脂を均一に充填・含浸することができる。 - 特許庁 - The fixing plate 3 comprises a recess 7 for mounting the needle base part 5, and a recess 8 for mounting the filter 4 made in the center of the bottom face of the recess 7.
取付板３は、針基部５が載置された針基部用凹部７と、針基部用凹部７の底面中央に形成され、フィルター４が載置されたフィルター用凹部８と、を有する。 - 特許庁 - A recess/protrusion portion 6 is formed on the surface of the lead frame 5, and a hook portion 5c is formed at a tip portion of a protrusion 5b positioned between the recess 5a and recess 5a.
そのリードフレーム５の表面には凹凸部６が形成され、その凹部５ａと凹部５ａとの間に位置する凸部５ｂの先端部分にはカギ部５ｂが形成されている。 - 特許庁 - The terminal block 3 has a seat 30 to place the bus bar 2, a first recess 31 which opens in the seat 30, and a second recess 32 which leads to the first recess 31.
端子台３は、バスバー２を載置する載置面３０と、該載置面３０に開口した第１凹部３１と、該第１凹部３１に連通した第２凹部３２とを有する。 - 特許庁 - The mesa recess 6 is formed by wet etching with the impurity concentration varied in the regions where the lower-stage recess 6a and the upper-stage recess 6b are to be formed.
メサ溝６は、下段溝６ａ及び上段溝６ｂが形成される領域の不純物濃度を変えた状態でウェットエッチングすることにより形成される。 - 特許庁 - An upper face recess angle (an angle making an inclined face P1-P3 of the recess 14R and a film surface 14a) α of the recess 14R is 35-68 degrees.
凹部１４Ｒの上面逃げ角（凹部１４Ｒの斜面部Ｐ１〜Ｐ３とフィルム表面１４ａとのなす角度）αは３５度以上６８度以下とされている。 - 特許庁 - To provide a gasket fitted into an cutout recess and sealing the cutout recess, and capable of being fitted into the cutout recess without damaging a seal surface.
切欠凹部に嵌め込まれて当該切欠凹部をシールするガスケットであって、シール面を傷付けることなく切欠凹部への嵌め込みがなされるようにしたガスケットを提供する。 - 特許庁 - A P-type second semiconductor layer 13 is formed on an inner surface of the second recess part 51a so as to generate a third recess part 52a being smaller than the second recess part 51a; and has a second impurity concentration.
Ｐ型第２半導体層１３は第２凹部５１ａの内面にそれより小さい第３凹部５２ｃを生じるように形成され、第２不純物濃度を有する。 - 特許庁 - The height of the recess is set to be higher than the height of the magnet, the magnet is completely housed in the recess, and a space (second recess 23b) is secured above the magnet.
凹部の高さは、マグネットの高さよりも高く設定されており、マグネットは凹部内に完全に収納され、さらにその上方に空間（第２凹部２３ｂ）が確保される。 - 特許庁 - The first recess is sealed by using a first resin while the second recess is sealed by using a second resin after the first recess is sealed using the first resin.
第一の凹部は、第一の樹脂を用いて封止され、第二の凹部は、第一の樹脂を用いて第一の凹部が封止された後に第二の樹脂を用いて封止される。 - 特許庁 - The recess forming process comprises two steps of a step for digging each recess by dry etching, and a step for removing a surface deterioration layer of each recess inner wall, by wet etching using an acid.
凹部形成工程は、ドライエッチングにより凹部を掘り下げるステップと、酸を用いたウエットエッチングにより凹部内壁の表面変質層を除去するステップの２段階からなる。 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR COVERING AND EMBEDDING MICRO RECESS ON BASE MATERIAL
基材面微細凹み被覆・埋込み方法及び装置 - 特許庁 - The substrate 14 includes an upper surface having a recess formed thereon.
基板１４は、凹部が形成された上面を有する。 - 特許庁 - For example, a recess 2a is formed on the n^- type channel layer 2, and the p^+ type gate region 4 is formed in the recess 2a.
例えば、ｎ^-型チャネル層２に凹部２ａを形成し、この凹部２ａ内にｐ^+型ゲート領域４を形成する。 - 特許庁 - By repeating this action, the foreign substance 2 in the recess 3 can be removed outside the recess 3.
この作業の繰り返すことにより、凹部3内にあった異物2を除去し、凹部3外へ移動させることができる。 - 特許庁 - Moreover, a reinforcing recess groove 10 extending in a recess part periphery area Z within 10 mm from the recessed part 8 is provided.
また凹部８から１０mm以内の凹部周辺領域Ｚをのびる補強用の凹溝１０が設けられる。 - 特許庁 - A receiving recess 6 is arranged inside the layered pile 4.
受容凹所（６）が層パイル（４）内に配置されている。 - 特許庁 - MANUFACTURE OF CEMENT MOLDING PLATE HAVING PROTRUSION AND RECESS PATTERN
凹凸模様を有するセメント系成形板の製造法 - 特許庁 - The inorganic film 5 is removed thereafter to form a recess 9.
その後、無機膜５を除去し、凹み９を形成する。 - 特許庁 - Both sides 65a, 65a of inside recess (recess) 65 of the fixed disc 6 are comprised of circular arc surface convexed outward.
固定ディスク６の内側凹部（凹部）６５の両側面６５ａ，６５ａを外側に凸の円弧面によって構成する。 - 特許庁 - The socket 1 includes a body 3 having a recess 3a and a contact 4 retained inside the recess 3a.
ソケット１は、窪み３ａが設けられたボディ３と、窪み３ａの内側に保持されたコンタクト４とを備える。 - 特許庁 - Four female screws 32 are provided every 90 degrees on the central recess 31.
中央凹部31に90度ごとに４つの雌ネジ32がある。 - 特許庁 - A recess 30f is formed on the receiving plate 30a.
受け板３０ａには、凹部３０ｆが形成されている。 - 特許庁 - The needle valve 20 has a recess 24, and the movable core 34 has a projection 45 reciprocating inside the recess 24.
ニードル弁２０は凹部２４を有し、可動コア３４は凹部２４の内側で往復移動する凸部４５を有する。 - 特許庁 - A part of the drain compensation pattern is located inside the recess.
ドレイン補償パターンの一部分が凹所内部に位置する。 - 特許庁 - The third-layer pad 13 positioned at an upper-layer side includes a pad recess 13a caused by the substrate recess 1a.
上層側に位置する第３層目パッド１３は、基板凹部１ａに起因してパッド凹部１３ａを備えている。 - 特許庁 - A recess 42 with a prescribed depth is formed on a bottom surface 41B of a recess 41 for bonding of a gas sensor 10.
ガスセンサ１０の接着用凹部４１の底面４１Ｂには所定の深さの凹所４２が形成されている。 - 特許庁 - A recess part 204 is formed in the center of the upper lid 202, and the screw 203 is inserted into the inside of the recess part 204.
上蓋２０２の中央部分は凹部２０４を形成しており、この内部にネジ２０３が挿通される。 - 特許庁
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