「Sputtering」を含む例文一覧(6532)

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  • COOLING PLATE FOR SPUTTERING APPARATUS
    スパッタリング装置用冷却板 - 特許庁
  • PRODUCTION OF SPUTTERING TARGET
    スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁
  • ZINC OXIDE BASED SPUTTERING TARGET
    酸化亜鉛系スパッタリングターゲット - 特許庁
  • FILM FORMING METHOD BY SPUTTERING
    スパッタリングによる成膜方法 - 特許庁
  • INTEGRAL SPUTTERING TARGET
    一体構造型スパッタリングターゲット - 特許庁
  • BACKING PLATE FOR SPUTTERING TARGET
    スパッタリングターゲット材用支持体 - 特許庁
  • SPUTTERING METHOD AND APPARATUS
    スパッタ方法およびスパッタ装置 - 特許庁
  • SPUTTERING TARGET MANUFACTURING METHOD
    スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁
  • SPUTTERING APPARATUS, AND TARGET PLATE
    スパッタ装置およびターゲットプレート - 特許庁
  • TARGET MATERIAL FOR Ru SPUTTERING
    Ruスパッタリング用ターゲット材 - 特許庁
  • DIVIDED ITO SPUTTERING TARGET
    分割ITOスパッタリングターゲット - 特許庁
  • MAGNETIC CIRCUIT FOR MAGNETRON SPUTTERING
    マグネトロンスパッタリング用磁気回路 - 特許庁
  • MAGNETRON CATHODE OF SPUTTERING DEVICE
    スパッタリング装置のマグネトロンカソード - 特許庁
  • SPUTTERING APPARATUS AND TARGET PLATE
    スパッタ装置およびターゲットプレート - 特許庁
  • TARGET PLATE AND SPUTTERING APPARATUS
    ターゲットプレートおよびスパッタ装置 - 特許庁
  • PRODUCTION METHOD FOR SPUTTERING TARGET
    スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁
  • FACING TARGET SPUTTERING SYSTEM
    対向ターゲット式スパッタリング装置 - 特許庁
  • POWER SUPPLY, POWER SUPPLY SYSTEM, POWER SUPPLY FOR SPUTTERING, AND SPUTTERING APPARATUS
    電源、電源システム、スパッタリング用電源及びスパッタリング装置 - 特許庁
  • FACING-TARGET TYPE SPUTTERING APPARATUS, AND FACING-TARGET TYPE SPUTTERING METHOD
    対向ターゲット式スパッタ装置及び対向ターゲット式スパッタ方法 - 特許庁
  • METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET
    スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁
  • METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET
    スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁
  • PHOTORECORDING MEDIUM, SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF PHOTORECORDING MEDIUM AND SPUTTERING TARGET
    光記録媒体、スパッタリングターゲット、及びそれらの製造方法 - 特許庁
  • METHOD FOR CONTROLLING SPUTTERING APPARATUS
    スパッタリング装置の制御方法 - 特許庁
  • APPARATUS AND METHOD FOR SPUTTERING
    スパッタ装置およびスパッタ方法 - 特許庁
  • METHOD AND APPARATUS FOR SPUTTERING
    スパッタ方法およびスパッタ装置 - 特許庁
  • REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM
    反応性マグネトロンスパッタリング装置 - 特許庁
  • MAGNET SYSTEM, MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS
    磁石装置、マグネトロンスパッタ装置 - 特許庁
  • BACKING PLATE USED IN SPUTTERING APPARATUS, AND SPUTTERING METHOD
    スパッタリング装置に用いられるバッキングプレートおよびスパッタリング方法 - 特許庁
  • SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING METHOD USING THE TARGET
    スパッタリング用のターゲット及びこのターゲットを用いたスパッタリング方法 - 特許庁
  • PLANER MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND PLANER MAGNETRON SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD
    プレーナマグネトロンスパッタ装置およびプレーナマグネトロンスパッタ成膜方法 - 特許庁
  • FILM DEPOSITION METHOD BY SPUTTERING, OPTICAL MEMBER AND SPUTTERING DEVICE
    スパッタによる膜の形成方法、光学部材、およびスパッタ装置 - 特許庁
  • MAGNETRON SPUTTERING METHOD AND DEVICE
    マグネトロンスパッタリング方法と装置 - 特許庁
  • PROCESS FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET
    スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁
  • EQUIPMENT AND METHOD FOR SPUTTERING
    スパッタ装置およびスパッタ方法 - 特許庁
  • SPUTTERING FILM-FORMING APPARATUS AND BACKING PLATE FOR SPUTTERING FILM-FORMING APPARATUS
    スパッタ成膜装置およびスパッタ成膜装置用のバッキングプレート - 特許庁
  • SPUTTERING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
    スパッタ装置およびその方法 - 特許庁
  • FACING-TARGET TYPE SPUTTERING APPARATUS AND FACING-TARGET TYPE SPUTTERING METHOD
    対向ターゲット式スパッタ装置及び対向ターゲット式スパッタ方法 - 特許庁
  • SPUTTERING CATHODE AND MAGNETRON TYPE SPUTTERING DEVICE EQUIPPED WITH THE SAME
    スパッタリングカソード及びこれを備えたマグネトロン型スパッタリング装置 - 特許庁
  • SPUTTERING EQUIPMENT FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND SPUTTERING METHOD THEREFOR
    半導体装置製造用スパッタリング設備及びスパッタリング方法 - 特許庁
  • SPUTTERING TARGET FOR SOLAR CELL
    太陽電池用スパッタリングターゲット - 特許庁
  • ITO SINTERED COMPACT, SPUTTERING TARGET MATERIAL, SPUTTERING TARGET, AND MANUFACTURING METHOD OF SPUTTERING TARGET MATERIAL
    ITO焼結体、スパッタリングターゲット材、スパッタリングターゲット、ならびにスパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁
  • CATHODE FOR UNBALANCED MAGNETRON SPUTTERING
    非平衡マグネトロンスパッタ用カソード - 特許庁
  • SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR PRODUCING SOFT MAGNETIC FILM HAVING HIGH SPUTTERING YIELD
    高スパッタ率を有する軟磁性膜作製用スパッタリングターゲット材 - 特許庁
  • SPUTTERING APPARATUS, AND METHOD FOR SPUTTERING MATERIAL FROM TARGET ONTO SUBSTRATE VIA SPUTTERING APPARATUS
    スパッタリング装置、およびスパッタリング装置を介してターゲットから基板上へ材料をスパッタリングする方法 - 特許庁
  • Al-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET
    Al基合金スパッタリングターゲット - 特許庁
  • Ag-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET
    Ag基合金スパッタリングターゲット - 特許庁
  • PLASMA ASSISTED SPUTTERING FILM-FORMING APPARATUS
    プラズマ支援スパッタ成膜装置 - 特許庁
  • FILM-FORMING METHOD BY GAS-FLOW SPUTTERING
    ガスフロースパッタリング成膜方法 - 特許庁
  • BACKING PLATE FOR SPUTTERING DEVICE
    スパッタリング装置用のバッキングプレート - 特許庁
  • INTEGRATED STRUCTURE TYPE SPUTTERING TARGET
    一体構造型スパッタリングターゲット - 特許庁
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