BACKING PLATE USED IN SPUTTERING APPARATUS, AND SPUTTERING METHOD スパッタリング装置に用いられるバッキングプレートおよびスパッタリング方法 - 特許庁
SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING METHOD USING THE TARGET スパッタリング用のターゲット及びこのターゲットを用いたスパッタリング方法 - 特許庁
PLANER MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND PLANER MAGNETRON SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD プレーナマグネトロンスパッタ装置およびプレーナマグネトロンスパッタ成膜方法 - 特許庁
FILM DEPOSITION METHOD BY SPUTTERING, OPTICAL MEMBER AND SPUTTERING DEVICE スパッタによる膜の形成方法、光学部材、およびスパッタ装置 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING METHOD AND DEVICE マグネトロンスパッタリング方法と装置 - 特許庁
PROCESS FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁
EQUIPMENT AND METHOD FOR SPUTTERING スパッタ装置およびスパッタ方法 - 特許庁
SPUTTERING FILM-FORMING APPARATUS AND BACKING PLATE FOR SPUTTERING FILM-FORMING APPARATUS スパッタ成膜装置およびスパッタ成膜装置用のバッキングプレート - 特許庁
SPUTTERING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR スパッタ装置およびその方法 - 特許庁
FACING-TARGET TYPE SPUTTERING APPARATUS AND FACING-TARGET TYPE SPUTTERING METHOD 対向ターゲット式スパッタ装置及び対向ターゲット式スパッタ方法 - 特許庁
SPUTTERING CATHODE AND MAGNETRON TYPE SPUTTERING DEVICE EQUIPPED WITH THE SAME スパッタリングカソード及びこれを備えたマグネトロン型スパッタリング装置 - 特許庁
SPUTTERING EQUIPMENT FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND SPUTTERING METHOD THEREFOR 半導体装置製造用スパッタリング設備及びスパッタリング方法 - 特許庁
SPUTTERING TARGET FOR SOLAR CELL 太陽電池用スパッタリングターゲット - 特許庁
ITO SINTERED COMPACT, SPUTTERING TARGET MATERIAL, SPUTTERING TARGET, AND MANUFACTURING METHOD OF SPUTTERING TARGET MATERIAL ITO焼結体、スパッタリングターゲット材、スパッタリングターゲット、ならびにスパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁
CATHODE FOR UNBALANCED MAGNETRON SPUTTERING 非平衡マグネトロンスパッタ用カソード - 特許庁
SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR PRODUCING SOFT MAGNETIC FILM HAVING HIGH SPUTTERING YIELD 高スパッタ率を有する軟磁性膜作製用スパッタリングターゲット材 - 特許庁
SPUTTERING APPARATUS, AND METHOD FOR SPUTTERING MATERIAL FROM TARGET ONTO SUBSTRATE VIA SPUTTERING APPARATUS スパッタリング装置、およびスパッタリング装置を介してターゲットから基板上へ材料をスパッタリングする方法 - 特許庁