「Thermal processing」を含む例文一覧(971)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 19 20 次へ＞- THERMAL DECOMPOSITION MELTING PROCESSING METHOD FOR WASTE
廃棄物の熱分解溶融処理方法 - 特許庁 - THERMAL PROCESSING METHOD OF SILICON SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
シリコン半導体基板の熱処理方法 - 特許庁 - THERMAL PROCESSING VERTICAL BOAT FOR SEMICONDUCTOR WAFER
半導体ウエハの熱処理用縦型ボート - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, THERMAL OXIDIZING PROCESSING METHOD, AND THERMAL OXIDIZING PROCESSING APPARATUS
半導体装置の製造方法、熱酸化処理方法及び熱酸化処理装置 - 特許庁 - THERMAL PROCESSING APPARATUS EQUIPPED WITH TRANSVERSE FLOW LINER
横断流ライナを備えた熱加工装置 - 特許庁 - THERMAL SPRAYING MEMBER, ELECTRODE, AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
溶射部材、電極、およびプラズマ処理装置 - 特許庁 - COMPOSITE ROLL FOR THERMAL PROCESSING, MADE OF CEMENTED CARBIDE
超硬合金製熱加工用複合ロール - 特許庁 - METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE OR THERMAL INK-JET HEAD
基板又はサーマルインクジェットヘッドの加工方法 - 特許庁 - THERMAL DECOMPOSITION PROCESSING DEVICE FOR ORGANOHALOGEN COMPOUND
有機ハロゲン化合物の熱分解処理装置 - 特許庁 - To provide a thermal processing apparatus capable of preventing damage to a processing object substrate during thermal processing.
熱処理時に処理対象基板にダメージを与えることを防止することができる熱処理装置を提供する。 - 特許庁 - In the thermal processing apparatus of the semiconductor device, the parameter of the thermal processing apparatus is monitored (S502).
半導体装置の熱処理装置において、熱処理装置のパラメータをモニタリングする（Ｓ５０２）。 - 特許庁 - VERTICAL THERMAL PROCESSING DEVICE AND BOAT TRANSPORTATION METHOD
縦型熱処理装置およびボート搬送方法 - 特許庁 - THERMAL PROCESSING METHOD OF SOI, AND ITS MANUFACTURING METHOD
ＳＯＩの熱処理方法及び製造方法 - 特許庁 - THERMAL PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE TEMPERATURE MEASUREMENT METHOD
熱処理装置および基板温度測定方法 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD FOR SUBSTRATE THERMAL PROCESSING
基板熱処理装置および基板熱処理方法 - 特許庁 - THERMAL DECOMPOSITION REACTION FURNACE IN WASTE PROCESSING APPARATUS
廃棄物処理装置における熱分解反応炉 - 特許庁 - HEATING ROLLER, THERMAL PROCESSING METHOD AND RECORDER
加熱ローラ及び加熱処理方法及び記録装置 - 特許庁 - MICRO THERMAL PROCESSING ELECTRODE AND THERMAL PROCESSING METHOD USING IT FOR METAL MEMBER OR SEMICONDUCTOR MEMBER
マイクロ熱加工用電極及びそれを用いた金属部材若しくは半導体部材の熱加工方法 - 特許庁 - The semiconductor processing unit processes a substrate to be heated in a thermal processing section.
被加熱基板を熱処理部で処理する半導体処理ユニットである。 - 特許庁 - THERMAL PROCESSING DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING APPARATUS
熱処理装置および半導体装置の製造装置 - 特許庁 - REVERSIBLE THERMAL RECORDING MEDIUM AND IMAGE PROCESSING METHOD
可逆性感熱記録媒体及び画像処理方法 - 特許庁 - ADHESIVE COATING DEVICE IN THERMAL TRANSFER PROCESSING LINE
熱転写加工ラインにおける接着剤塗付装置 - 特許庁 - Thereafter, a thermal oxidation processing of the silicon substrate 1 is performed.
その後、シリコン基板１の熱酸化処理を行う。 - 特許庁 - IMAGE RECORDING PROCESSING METHOD AND THERMAL DEVELOPING RECORDING DEVICE
画像記録処理方法及び熱現像記録装置 - 特許庁 - REVERSIBLE THERMAL LAYER COMPOSITION AND REVERSIBLE THERMAL RECORDING MEDIUM, AND REVERSIBLE THERMAL RECORDING LABEL, REVERSIBLE THERMAL RECORDING MEMBER, IMAGE PROCESSING APPARATUS AND IMAGE PROCESSING METHOD
可逆性感熱層用組成物及び可逆性感熱記録媒体、並びに、可逆性感熱記録ラベル、可逆性感熱記録部材、画像処理装置及び画像処理方法 - 特許庁 - THERMAL TRANSFER SHEET CASSETTE FOR PROCESSING OVERCOAT, THERMAL TRANSFER UNIT AND INK JET RECORDER
オーバーコート処理用熱転写シートカセット、熱転写装置及びインクジェット記録装置 - 特許庁 - APPARATUS FOR PRINTING EYEMARK AND PROCESSING PERFORATION ON PAPER FOR THERMAL PRINTER
サーマルプリンタ用紙のアイマーク印刷とミシン目加工装置 - 特許庁 - TREATMENT PROCESSING OF THERMAL INK JET PRINT HEAD BY SILICON ETCHING
シリコンエッチングによるサーマルインクジェットプリントヘッドの処理加工 - 特許庁 - TEMPERATURE MEASURING APPARATUS, PLACEMENT TABLE STRUCTURE AND THERMAL PROCESSING APPARATUS
温度測定装置、載置台構造及び熱処理装置 - 特許庁 - REVERSIBLE THERMAL RECORDING MEDIUM AND IMAGE PROCESSING METHOD
可逆型感熱記録媒体および画像処理方法 - 特許庁 - To provide a laser thermal processing apparatus and a method.
レーザー熱加工装置および方法を提供すること。 - 特許庁 - METHOD FOR RAPID THERMAL PROCESSING (RTP) OF SILICON SUBSTRATE
シリコン基板の高速昇降温処理（ＲＴＰ）方法 - 特許庁 - COMBUSTION TYPE DEODORIZING DEVICE AND THERMAL DECOMPOSITION PROCESSING DEVICE
燃焼式脱臭装置および熱分解処理装置 - 特許庁 - THERMAL INSULATOR FOR SEMICONDUCTOR, PROCESSING FURNACE AND PRODUCING METHOD THEREOF
半導体処理炉用断熱体とその製造方法 - 特許庁 - THERMAL RECORDING CARD, LABEL, IMAGE PROCESSING METHOD, IMAGE DISPLAY METHOD AND IMAGE PROCESSING DEVICE
熱記録カード、ラベル、画像処理方法、画像表示方法及び画像処理装置 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR THERMAL PROCESSING FOR QUICK HEATING AND QUENCHING
急加熱、急冷却用の熱処理方法及び装置 - 特許庁 - A workpiece support device 12 is arranged within a thermal processing chamber 11.
熱処理室11内にワーク支持装置12が配置されている。 - 特許庁 - REVERSIBLE THERMAL RECORDING MEDIUM, AND METHOD AND APPARATUS FOR PROCESSING IMAGE
可逆性感熱記録媒体、画像処理方法及び装置 - 特許庁 - REVERSIBLE THERMAL RECORDING MEDIUM, THERMAL REVERSIBLE RECORDING LABEL, MEMBER HAVING INFORMATION MEMORY UNIT, IMAGE PROCESSING METHOD AND IMAGE PROCESSING DEVICE
熱可逆記録媒体、熱可逆記録ラベル、情報記憶部を有する部材、画像処理方法及び画像処理装置 - 特許庁 - After the impurity ions are implanted, a processing such as conventional thermal processing is not conducted.
不純物イオンの注入後は、従来方法のような加熱処理は行わない。 - 特許庁 - To provide a thermal processing apparatus that speedily cools a substrate after thermal processing with simple constitution and keeps constant a temperature history of the substrate in the thermal processing.
簡易な構成にて加熱処理後の基板を迅速に冷却することができ、しかも熱処理時の基板の温度履歴を一定に維持することができる熱処理装置を提供する。 - 特許庁 - REVERSIBLE THERMAL RECORDING MEDIUM, REVERSIBLE THERMAL RECORDING LABEL, AND IMAGE PROCESSING METHOD FOR THEM
可逆性感熱記録媒体、可逆性感熱記録ラベル、及びこれらに対する画像処理方法 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus capable of accurately estimating the temperature of a substrate during the thermal processing of the substrate and precisely performing the thermal processing to the substrate.
基板の熱的処理の際に基板の温度を正確に推定でき、基板に対して熱的な処理を精密に行うことができる基板処理装置の提供。 - 特許庁 - Furthermore, the control portion 9 applies shift processing, halftone dot processing, reverse shift processing and thermal storage correction processing, and prints acquired image data.
さらに、制御部９は、シフト処理、網点処理、逆シフト処理、蓄熱補正処理を施し、得られた画像データを印画する。 - 特許庁 - OPTIMAL CORRECTION TO THERMAL DEFORMATION OF WAFER IN LITHOGRAPHIC PROCESSING
リソグラフィ処理におけるウェハの熱変形に対する最適補正 - 特許庁 - ROTATING THERMAL OXIDATION APPARATUS FOR RECYCLING USAGE PROCESSING OF BATTERY
バッテリーを循環使用処理するための回転式熱酸化装置 - 特許庁 - THERMAL DEVELOPING PHOTOSENSITIVE MATERIAL AND PROCESSING METHOD FOR THERMALLY DEVELOPED IMAGE
熱現像感光材料及び熱現像画像の処理方法 - 特許庁 - TEMPERATURE MEASUREMENT AND CONTROL OF WAFER SUPPORT IN THERMAL PROCESSING CHAMBER
熱処理チャンバにおけるウエハ支持体の温度測定及び制御 - 特許庁 - To improve temperature uniformity of a substrate in a thermal processing apparatus.
熱処理装置において基板の温度均一性を向上する。 - 特許庁 - SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND THERMAL TYPE FLOWMETER SUITABLE FOR THE DEVICE
基板処理装置および該装置に適した熱式流量計 - 特許庁
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