「Time Variance」を含む例文一覧(205)
＜前へ 1 2 3 4 5- A CPU 110 in the teaching processing determines a maximum exposure time while repeating detection processing by a projection part 101 and a light reception part 102, calculates variance of measurement data on a displacement amount, and derives the number of data of moving average operation suitable to the input value of the parameter.
ティーチング処理時のＣＰＵ１１０は、投光部１０１および受光部１０２による検出処理を繰り返しながら最大露光時間を決定すると共に、変位量の計測データのばらつきを算出し、最大露光時間および計測データのばらつきを用いた演算処理により、入力されたパラメータの値に適した移動平均演算のデータ数を導出する。 - 特許庁 - To provide a method for packing a catalyst, in which a pressure drop of each of reaction tubes of a multitubular reactor, in which a solid catalyst is dropped and packed easily, is made small regardless of the kind of the solid catalyst and the variance of the pressure drops of the reaction tubes is also made small to save the time and labor required to pack the solid catalyst.
多管式反応器に触媒を落下充填するにおいて、固体触媒の種類に関係なく、簡易に触媒充填後の各反応管の圧力損失を軽減し、各反応管毎の圧力損失のばらつきを均質化することにより、触媒充填にかかる時間と労力を軽減する触媒充填方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device module which is not only made low-cost but also easily manufactured by reducing the number of parts relating to the semiconductor device module and allows a stable optical output to be secured by suppressing deviations between optical parts even against the temperature variance in a hermetical sealing stage of an enclosure of the module and at the time of use of the module.
半導体素子モジュールに係る部品点数を削減し、低コスト化及び製造の容易性を図ると共に、該モジュールの筐体の気密封止工程や該モジュールの使用時の温度変化に対しても、光学部品間のズレを抑制し、安定した光出力を確保することが可能な半導体素子モジュールを提供すること。 - 特許庁 - To provide a cushion to be loaded in a storage box together with contents wherein cushioning ability is high, rigidity may not deteriorate in any direction, there is no variance in shock absorbing ability depending on a direction at the time of drop or collision, the shock absorbing ability is sufficient and also the cushion can be stored and transported in a small space.
収納箱に収納物とともに装填される緩衝材であって、緩衝能力が高く、どの方向に対しても剛性が劣ることがなく、落下や衝突時などにおいても方向によって衝撃の吸収能力にばらつきがなく、衝撃吸収能力も十分であるとともに、少ないスペースで保管や運搬が可能となる緩衝材を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a photomask by which an optimum etching period can be always set corresponding to changes in a device state with lapse of time upon dry-etching a shifter film of a phase shift mask, particularly for a halftone phase shift mask, etching conditions can be set considering variance in the shifter film thickness caused by formation of a shifter film or etching of a chromium light shielding film.
フォトマスクの製造方法に関し、位相シフトマスクのシフター膜をドライエッチングする際、経時的な装置状態の変化に対応して常に最適なエッチング時間の設定を行うことができるように、特に、ハーフトーン型の位相シフトマスクにおいては、シフター膜形成やクロム遮光膜のエッチングによって生じるシフター膜厚のばらつきを考慮したエッチング条件の設定を行なうことができるようにする。 - 特許庁
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