「To process」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 83 84 85 86 87 88 89 90 91 .... 999 1000 次へ＞- Then, the development process parameters are applied to the photographic image before the demosaicing process, which corresponds to the reference region and the photographic image before the demosaicing process, which corresponds to the similar region to generate the display images of the reference region and similar region (S107, S110).
そして、参照領域に対応するデモザイキング処理の前の撮影画像と、類似領域に対応するデモザイキング処理の前の撮影画像に現像処理パラメータを適用して、参照領域および類似領域の表示画像を生成する(S107、S110)。 - 特許庁 - (A) a process for dispersing carbon black to a natural rubber and/or (B) a diene-based synthetic rubber to give a composition and a process for dispersing silica to the composition obtained by the process (A) are successively carried out to produce the objective carbon black/silica filled rubber composition.
天然ゴム及び／又はジエン系合成ゴムに対し、（Ａ）カーボンブラックを分散させる工程と、（Ｂ）上記（Ａ）工程で得られた組成物に、シリカを分散させる工程を順次施すことにより、カーボンブラック／シリカ充填ゴム組成物を製造する。 - 特許庁 - To make the allocation processing of work in process(WIP) goods to raw materials efficient in each working process by assembling allocation processing parts of WIP goods to be common processing in each work process to raw materials with software and parameterizing the other information.
各加工工程において共通の処理となる仕掛品の原材料への割り付け処理の部分をソフトで組み、その他の情報をパラメータ化することで、各加工工程における仕掛品の原材料への割り付け処理を効率化する。 - 特許庁 - After having passed through vapor deposition processes (c) to (f) to vapor-deposit the organic layer and electrode, a test process (g) to perform a predetermined test to the vapor-deposited organic layer and electrode is equipped, and a sealing process (h) is performed after the test process.
基板に有機層及び電極を蒸着する蒸着工程（ｃ）〜（ｆ）を経た後に、この蒸着された有機層及び電極に対して所定の検査を行う検査工程（ｇ）を備え、該検査工程の後に封止工程（ｈ）を行う。 - 特許庁 - The resin molding method has an application process to apply resin to the surface of an electronic component, a degassing process to carry out degassing in vacuum atmosphere while in the application or after the application, and a molding process to mold a resin for moldings while installing in a metal mold.
本発明の樹脂モールド方法は、電子部品の表面へ樹脂を塗布する塗布工程と、塗布時もしくは塗布後に真空雰囲気で脱気する脱気工程と、金型内に設置して注型用の樹脂をモールドするモールド工程とを有している。 - 特許庁 - The manufacturing method of an oxide superconductive wire rod comprises a process to prepare a precursor powder to make an oxide superconductor, a process to fill the precursor powder into a metal pipe and obtain a strand, and a process to draw and roll the strand.
酸化物超電導線材の製造方法は、酸化物超電導体となるべき前駆体粉末を準備する工程と、前駆体粉末を金属パイプに充填して、素線を得る工程と、素線を伸線および圧延する工程とを備えている。 - 特許庁 - Also, the method has the first process of allowing the reducing agent for electroless gold plating to act on a material to be plated which is formed by subjecting the surface of the material to be plated to a surface treatment by an aqueous solution of palladium, tin, zinc and other metal displacing agents and the second process of forming the electroless gold plating film after the first process.
シリコン表面に無電解金めっき用還元剤を作用させる第一の工程と、この第一の工程の後に無電解金めっき膜を形成する第二の工程を有することを特徴とする無電解金めっき方法。 - 特許庁 - Each object to be processed is conveyed to a plurality of process processing places where a plurality of process processing is performed so that a plurality of process processing can be performed to each object to be processed in a fixed processing sequence, and a conveyance operation to convey each object to be processed from a plurality of process processing places is performed by a plurality of conveyance devices.
複数の工程処理が一定の処理順序で各被処理物に対し行われるように、複数の工程処理がそれぞれ行われる複数の工程処理場所へ各被処理物を搬送し、複数の工程処理場所から各被処理物を搬送する搬送作業を、複数の搬送装置で行う場合を対象とする。 - 特許庁 - The analyzing method of sugars includes: a process for separating a sample to be inspected containing sugars by liquid chromatography using a ligand replacing column; a process for adding ammonia to the separated sample to be inspected; and a process for ionizing the sample to be inspected, to which ammonia is added, by an electrospray ionization process to perform mass analysis.
本発明に係る糖類の分析方法は、配位子交換カラムを用いた液体クロマトグラフィにより糖類を含む被検試料を分離する工程、分離した被検試料にアンモニアを添加する工程、およびアンモニアを添加した被検試料をエレクトロスプレーイオン化法によりイオン化し、質量分析を行なう工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁 - This method for producing the bean curd paste, characterized by comprising a process for coagulating a concentrated bean milk to obtain the bean curd, a process for adding a thickening gelation agent and an oligosaccharide or starch to the bean curd, a process for grinding the mixture, and a process for cooling the ground product.
濃縮豆乳を凝固して豆腐を得る工程と、豆腐に増粘ゲル化剤とオリゴ糖類又はデンプン類とを混合する工程と、当該混合物を擂潰する工程と、擂潰物を冷却する工程とからなる豆腐ペーストの製造方法である。 - 特許庁 - Also, two processes; a process of printing a black frame to the diffusion sheet 2 and a double coated tape sticking process, which are heretofore practiced, can be omitted and only the light shielding tape sticking process is required to be performed and therefore, the cost reduction by the simplification of the manufacturing process can be achieved.
また、従来行われていた拡散シート２への黒枠印刷の工程及び両面テープ貼り付け工程の２工程を省略することができ、遮光テープ貼り付け工程のみを行えばよいため、製造工程の簡略化による低コスト化が図られる。 - 特許庁 - A partial flow 3 not sent to the processes after compression of the whole gas flow amount 1 and 2 from the storage container is sent to an energy conversion process by a fuel cell or a Stirling engine, a direct vapor generation process, and a vapor process or a gas turbine process, or it is stored.
貯蔵容器からの気体流全量（１、２）のうち、圧縮以降の工程に付されない部分流（３）は、燃料電池やスターリングエンジンによるエネルギー変換プロセス、直接蒸気発生プロセス、蒸気プロセス又はガスタービンプロセスに供し、或いは貯蔵する。 - 特許庁 - To provide a method to reduce pickup failures or die bonding process failures by rapidly reducing the thickness of a chip at a chip pickup process after dicing or a die bonding process in an assembling process from among manufacturing processes of a semiconductor integrated circuit device.
半導体集積回路装置の製造工程のうちの組立工程におけるダイシング後のチップのピックアップ工程またはダイ・ボンディング工程では、急速なチップの薄膜化によって、ピックアップ不良またはダイ・ボンディング工程不良の低減方法を提供する。 - 特許庁 - In this substrate washing device and a method, an acceleration process is set from the end of the washing treatment process to the start of the drying treatment process, and the rotating speed of the substrate is gradually changed from a low speed to a high speed in this process.
本発明の基板洗浄装置および基板洗浄方法においては、洗浄処理工程終了後、乾燥処理工程開始までの間に加速工程を設け、この工程において基板の回転速度を低速から高速に段階的に変化させる。 - 特許庁 - According to process meta-model information stored in a storage device 104 and the settings content by the setting part 114, an acquisition part 115 acquires counterparts to the process model elements and process model element links set by the setting part 114 from a process model.
取得部１１５は、記憶装置１０４に記憶されたプロセスメタモデル情報と設定部１１４の設定内容とに基づいて、設定部１１４により設定されたプロセスモデル要素とプロセスモデル要素間のリンクとに該当するものをプロセスモデルから取得する。 - 特許庁 - Then, a control circuit executes the washing process and the rinsing process after supplying water to the low water level when a water saving mode is set and executes the washing process and the rinsing process after supplying the water to the standard water level when the water saving mode is not set.
そして、制御回路は、節水モードが設定されたときは低水位まで給水した後、洗浄工程及びすすぎ工程を実行し、節水モードが設定されていないときは標準水位まで給水した後、洗浄工程及びすすぎ工程を実行する。 - 特許庁 - The method comprises: a process of adding perchloric acid into the waste water containing the fluorophosphoric acid compound; a process of adjusting a temperature of the waste water to 65°C to 85°C; a process of keeping the waste water within the temperature range; and a process of adding a calcium compound into the waste water.
該方法は、 フルオロリン酸化合物を含有する廃水中に過塩素酸を添加する工程、 廃水の温度を６５〜８５℃に調整する工程、 廃水を該温度範囲内に保持する工程、及びカルシウム化合物を廃水に添加する工程を有する。 - 特許庁 - To provide a wafer-processing apparatus for manufacturing a semiconductor element, wherein uniformity in a process such as etching process or cleaning process is improved by minimizing changes in temperature of a wafer process solution supplied on a wafer attached stably to a spin chuck.
スピンチャックに安着されたウェーハ上に供給されるウェーハ処理溶液の温度変化を最小化することでエッチング工程または洗浄工程等の処理工程の均一度を向上させる半導体素子製造用ウェーハ処理装置を提供する。 - 特許庁 - The method for producing the frozen deep-fried chicken comprises adding the pretreatment solution B to chicken (A), followed by tumbling treating in a tumbling process 13, sprinkling a coating material E to the chicken in a coating process 14, cooking the product in oil in a frying process 15, and rapidly freezing the product in a freezing process 16.
鶏肉Ａは、下処理液Ｂを加え、タンブリング工程１３でタンブリング処理された後、衣付け工程１４で衣材料Ｅがまぶされ、フライ工程１５で油ちょうされ、冷凍工程１６で急速冷凍され、冷凍鶏唐揚げが製造される。 - 特許庁 - The respective processes of a connection process, a line-thinning process, an end specification process and a thumb specification process are performed with respect to the two-dimensional image to recognize a position indicating the thumb and the direction of the thumb, thereby determining the thumb traveling direction as holding direction information.
二次元画像に対して連結処理、細線化処理、端特定処理、親指特定処理の各工程を実行することにより、親指を表す位置及び親指の方向が認識され、それに従って保持方向情報として親指走行方向が判定される。 - 特許庁 - After the process cartridge 13 including the photoreceptor drum 19 is attached to a process frame 12 and after the process frame 12 is attached to a body casing 2, the process cartridge 13 is energized from above toward below or is released from such energizing by a translation cam mechanism 51.
感光ドラム１９を備えたプロセスカートリッジ１３をプロセスフレーム１２に装着し、そのプロセスフレーム１２を本体ケーシング２に装着した後、直動カム機構５１によってプロセスカートリッジ１３を上方から下方向かって付勢または付勢解除する。 - 特許庁 - The process for forming molten slag preferably comprises a process for mixing incinerated ash with water glass to form a non-scattering mixture, a process for forming a non-scattering granule, a process for melting the non-scattering granule to give molten slag in this order.
溶融スラグを形成する工程は、焼却灰と水ガラスとを混合して非飛散性混合物を形成する工程、非飛散性粒状物を形成する工程、非飛散性粒状物を溶融して溶融スラグを得る工程、をこの順に備えることが好ましい。 - 特許庁 - The method for dewaxing the floor involves a process for cleaning the floor to be dewaxed, a process for dewaxing by a polisher while melting wax by supplying heat to a cleaning portion of the polisher, and a process for collecting wax removed in the process for dewaxing.
ワックスを剥離する対象となる床面の清掃工程と、ポリシャーの清掃部に熱を供給しワックスを溶かしながらポリシャーによりワックスを剥離する工程と、この剥離工程により剥離したワックスを回収する工程とからなる床面のワックス剥離方法。 - 特許庁 - For the process control which switches processes based on a plurality of OSs, an interrupt process partition serving as an interrupt process execution period corresponding to an interrupt process request is set to coincide with preset partition switching timing.
複数のＯＳに基づく処理を切り替え制御するプロセス制御において、割り込み処理要求に対応する割り込み処理実行期間としての割り込み処理パーティションを、予め設定されたパーティション切り替えタイミングに一致させて設定する構成とした。 - 特許庁 - When the method is applied to the salt water generated in a gas treatment system upon gasification reforming of waste under a reductive atmosphere, an Fe removal process, a Zn removal process, a salt water concentration process and a salt crystallization/separation process are provided prior to the ion exchange treatment.
この発明を廃棄物を還元性雰囲気下でガス化改質処理した際にガス処理系で発生する塩水に適用する場合には、イオン交換処理の前に、Ｆｅ除去工程、Ｚｎ除去工程、塩水濃縮工程、塩晶析・分離工程を設ける。 - 特許庁 - The process 2: a process for mixing an emulsion composition containing the cationic surfactant and a higher alcohol with the dispersion obtained in the process 1 at ≤50°C, to obtain the hair cosmetic.
工程２：カチオン性界面活性剤と高級アルコールとを含有する乳化組成物と、工程１で得られた分散液とを、５０℃以下で混合して、毛髪用化粧料を得る工程。 - 特許庁 - If this backup process 12 is in an execution state, the checkpoint obtaining part 15 stops the process 12 by an instruction F to a backup process execution state control part 17.
このときバックアッププロセス１２が実行状態にあれば、チェックポイント採取部１５はバックアッププロセス実行状態制御部１７に対する指示Ｆにより当該プロセス１２を停止状態にさせる。 - 特許庁 - An aeration process for aerating and stirring sewage allowed to flow in a sewage treatment tank 1, a sedimentation process for sedimenting sludge and a supernatant water discharge process for discharging supernatant water are provided.
汚水処理槽１に流入された汚水を曝気撹拌する曝気工程と、汚泥を沈殿させる沈殿工程と、上澄水を排出する上澄水排出工程とを有する。 - 特許庁 - To provide a process container and a process method for improving surface roughness of a piezoelectric element plate, such as a crystal oscillator, by a wet beveling process.
主に水晶振動子などの圧電素板片の表面の粗さ状態の改善を湿式のべべリング加工方法により実現する際に使用する加工容器及び加工方法を提供する。 - 特許庁 - To provide substrate processing equipment wherein no atmosphere outside a process chamber is sucked nor disturbs the air current in an adjoining process chamber, causing no degradation in process quality for the substrate.
処理室外の雰囲気を吸い込んだり隣接する処理室の気流を乱したりすることがなく、基板の処理品質の低下が生じない基板処理装置を提供でする。 - 特許庁 - In addition, a process set value obtaining means 16 which obtains the process set value of the recording material which is not stored in the storage means 13, to store the obtained process set value in the storage means is provided.
記憶手段１３に記憶されていない記録材についてのプロセス設定値を取得して前記記憶手段に記憶させるプロセス設定値取得手段１６を備えている。 - 特許庁 - A process which grows a nitride semiconductor layer on a heterogeneous substrate; after that, a process which sticks a supporting substrate to the nitride semiconductor layer; and after that, a process which removes a heterogeneous substrate are provided.
異種基板上に窒化物半導体層を成長させる工程と、その後、窒化物半導体層に支持基板を貼り合わせる工程と、その後、異種基板を除去する工程とを備える。 - 特許庁 - To realize a method for manufacturing an SOI wafer for improving uniformity of the thickness of a semiconductor layer, using an oxidizing process and a wet etching process instead of a CMP process.
ＣＭＰ工程の代りに酸化工程とウェットエッチング工程を用いることにより、半導体層の厚さの均一度を向上させることができるＳＯＩウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a silicon nozzle plate which prevents the problem of silicon chips in the outer shape forming process from occurring, facilitates handling after the process thereof, and can simplify the manufacturing process.
外形加工工程におけるシリコンの切り屑の問題がなく、それ以降のハンドリングが容易であり、かつ製造工程を簡略化できるシリコンノズルプレートの製造方法の提供。 - 特許庁 - To overlay sub harnesses with high dimension accuracy without misalignment in a manufacturing process for separately assembling the sub harnesses in a pre-process and for overlaying and binding them in a post-process.
前工程でサブハーネスを個別に組み立てて後工程で重ね合わせて結束する製造工程において、サブハーネス同士の重ね合わせをずれのない高い寸法精度で行う。 - 特許庁 - The interface module stores a register map database in which Fieldbus process control parameters of function blocks in the field devices of the Fieldbus process control network are mapped to register numbers of the Modbus process control network.
インターフェイスモジュールは、Fieldbusプロセス制御ネットワークのフィールドデバイスに於ける機能ブロックのFieldbusプロセス制御パラメータが、Modbusプロセス制御ネットワークのレジスタ番号にマップされるレジスタマップデータベースを格納する。 - 特許庁 - The second communication means stores association information between a process ID for a process activated on the information processing apparatus and a logical ID that is previously assigned to the process.
第２通信手段は、情報処理装置上で動作しているプロセスのプロセスＩＤと、該プロセスに予め割り当てられている論理ＩＤと、の間の対応付け情報を格納する。 - 特許庁 - In a position calculation process, on the basis of potential measured in the potential measuring process, an amount of misregistration of the probe needle to a checking pad is computed (a position calculation process).
次に、位置算出工程においては、電位測定工程において測定された電位に基づいて、検査用パッドに対するプローブ針の位置ずれ量を算出する（位置算出工程）。 - 特許庁 - A TC server 1 stores a process ID in cross-reference with an access ID of a user utilizing a TC terminal 2 being a communication opposite party of a process to which the process ID is provided.
ＴＣサーバ１では、プロセスＩＤに、該プロセスＩＤを付与されたプロセスの通信相手であるＴＣ端末２を利用しているユーザの接続ＩＤを対応づけて記憶している。 - 特許庁 - A ciphering process control part of a recording device performs controls for executing commands needed for an authenticating process, a ciphering process for stored data, etc., according to a predetermined set sequence.
記録デバイスの暗号処理制御部が、認証処理、および格納データの暗号処理等に必要となるコマンドを、予め定めた設定シーケンスにしたがって実行する制御を実行する。 - 特許庁 - To provide a process for manufacturing a variable flange of a continuously variable transmission which can provide good workability in spinning process and impart sufficient hardness by carburizing and quenching process.
スピニング加工において良好な加工性が得られ、浸炭焼入れ処理により十分な硬度を付与できる無段変速機用プーリの可動フランジの製造方法を提供する。 - 特許庁 - A semiconductor substrate determined as defective is returned to its original manufacturing process again through another process for removing absorbed moisture or is eliminated from the manufacturing process.
また、不良判定となった半導体基板は、吸湿した水分を除去する別の工程を経て再び元の製造工程に復帰させるか、もしくは製造工程から排除する。 - 特許庁 - To contract an occupancy time and minimize an occupancy range by update process by regarding retrieval process and update process as separate transactions without changing an application.
アプリケーションの変更を必要とすることなく、検索処理と更新処理を別トランザクションとして占有時間の短縮および更新処理での占有範囲を必要最小限とする。 - 特許庁 - Then the process time required for the data processing of each representative sample is tabulated (S7) to calculate a process time per each unit figure from the process time and the number of figures in the representative sample.
続いて、各代表サンプルのデータ処理にかかった処理時間を集計しＳ７、その処理時間と代表サンプルの図形数Ｆとから単位図形当たりの処理時間を算出する。 - 特許庁 - The black quartz glass film is easily formed by a process of applying a precursor to a substrate, a process of irradiating ultraviolet rays, and a process of firing under an inert atmosphere.
本発明は、基体にプレカーサを塗布する工程と、紫外線を照射する工程と、不活性雰囲気下で焼成する工程により、容易に黒色石英ガラス膜を形成する。 - 特許庁 - The one set of process observations includes the set of normalized process parameters with respect to one or more of the plurality of statistical models θ_k that identify the states of the machining process 500.
１セットの処理観測は、加工処理５００の状態を特定する複数の統計モデルθ_ｋの１又はそれ以上に対して、セットの正規化された処理パラメータを含む。 - 特許庁 - This heating process diffuses the doping material of the optical waveguide core to the clad (process D), and then by cooling(process E), the substantial refractive index of the waveguide core is changed.
この加熱処理により導波路コアのドープ材ををクラッド側に拡散させ（工程Ｄ）、この後冷却する（工程Ｅ）ことで、導波路コアの実効的屈折率を変化させる。 - 特許庁 - To provide an image input output device which can shorten the process executing time, as compared with the case where two processes of a copying process and a reading and distributing process are individually and successively executed.
コピー処理と、読み取り配信処理の２つのプロセスを個別に順次実行する場合に比べて、処理実行時間を短縮することが可能なイメージ入出力装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a light emitting element in a way such that a process of forming a low-temperature buffer layer before a GaInN forming process is omitted and only a high-temperature film forming process is carried out.
ＧａＩｎＮ形成工程前に必要な低温バッファ層の形成工程を省略し、高温の膜形成工程のみとする方法による発光素子の製造方法。 - 特許庁 - To automatically devise a mixing process plan and a raw material ordering plan in consideration with the number of operation-possible man-hours of workers and the difference between operation dates of the first mixing process and second mixing process.
作業者の稼働可能工数や、第１混合工程と第２混合工程との実施日の差などを考慮して混合工程計画や原料発注計画を自動立案する。 - 特許庁
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