In a compression/forming process, a mechanism, by which a lower pestle is once pulled out from a mortar to be exposed and then the fine powder stuck to the lower pestle side face or a mortar inner face is removed is provided in a tabletting machine. 圧縮成形の工程において,下杵をいったん臼から引き抜いて露出させるなどして,下杵側面または臼内壁に付着した微粉末を除去する機構を,打錠機に備える。 - 特許庁
but such a claim, which appeals to miraculous metaphysical intervention or some unspecified physical process (in violation of the known laws of physics) rather than to known physical processes, is not scientific.
けれど、こういう主張は、既知の物理的過程ではなく、超自然的な形而上的な介入やらなにかよくわからない(既知の物理法則に反する)物理過程に訴えかけていて、科学的ではない。 - Ian Johnston『科学のカリキュラムで創造説?』
The owner of a patent of invention, utility model and industrial design shall enjoy an exclusive right to make, sell or commercialize the protected product or object in any form, to use it in any form and to celebrate any type of acts relative to the right conferred upon him, with the following faculties: a) in the case of a patent for a product, utility model or industrial design, to make, offer for sale, import, commercialize or use said product, utility models or industrial design for commercial or industrial use; b) in the case of a patent for a process, to use said process in order to attain the claimed results, or else to offer said process for sale or commercialization.
特許,実用新案及び意匠の所有者は,保護製品又は保護の客体を如何なる態様であれ製造,販売若しくは商品化し,それを如何なる態様であれ使用し,また与えられた権利に関連する諸種の行為を行うことができる。保護客体に応じて具体的に述べると,次の内容の権利が認められる。(a) 製品特許,実用新案特許又は意匠の場合は,対象の製品,実用新案又は意匠を製造し,販売申出し,輸入し,商品化し又は使用すること (b) 方法特許の場合は,目的たる結果を得るために当該方法を使用し,また販売その他商業的目的のために当該方法を提供すること。 - 特許庁
After the ultrasonic washing while cooling the washing liquid in the immersion washing chamber 610 ends, the liquid crystal panels 1 are transferred as they are into a process chamber 630 where the liquid crystal panels are subjected to shower washing and steam washing, following which the process chamber 630 is partitioned by a work base 620 and vacuum drying is executed there. この浸漬洗浄室610で、洗浄液を冷却しながらの超音波洗浄を終えた後は、そのまま処理室630に液晶パネル1に移し、そこでシャワー洗浄および蒸気洗浄を行った後、処理室630をワーク台620で仕切り、そこで真空乾燥を行う。 - 特許庁
To continuously produce a blended raw material having constant components and properties as a raw material for a metal reducing furnace, in a process of blending dust with slurry containing an oxidized metal powder and a carbon powder with a wet process, even when the components and the properties of each raw material change with time. 金属還元炉の原料として、酸化金属粉末と炭素粉末を含むダストおよびスラリーを湿式で混合する方法において、原料の成分や性状が時間の経過と共に変化しても、連続的に成分や性状の一定な混合原料を製造する。 - 特許庁
To eliminate a leak flow inspection for confirming a clearance of products by securely satisfying a design request of a clearance of fitting parts regulated on the basis of a fluid leak between members in a member working process or a member assembling process. 部材間からの流体漏れ量に基づきクリアランスが規定される嵌合部品のクリアランスの設計要求を、嵌合部品を製造する際の、部材の加工工程または組立工程において確実に満たし、製品のクリアランスを確認するための、漏れ流量検査を不要とする。 - 特許庁
Alternatively, the printing apparatus 2 is constituted so that the data process unit 23 recognizes the kind of appointed object and a system control unit 21 prints only the page containing the kind of object in color, when an information process device sends a print request appointing the kind of a drawing object to be printed in color. また、情報処理装置がカラーで印刷する描画オブジェクトの種類を指定した印刷要求を送ってきたとき、印刷装置2では、データ処理部23が指定されたオブジェクト種を認識し、システム制御部21はそのオブジェクト種が含まれるページのみカラー印刷させる構成にした。 - 特許庁
In the synthetic resin made blow container manufactured by performing an axial stretching blow molding at one time before and after heating and shrinking process for removing residual stress, and the container has a density change rate of -0.03% or more in relation to a blow intermediate body 2 after a heating process. 残留応力を除去する加熱、収縮処理の前後でそれぞれ一回の軸延伸ブロー成形を行うことによって製造された合成樹脂製ブロー容器において、前記ブロー容器は、加熱処理を終えたのちにおけるブロー中間体2に対する密度の増減率を-0.03%以上とする。 - 特許庁
Then insulation layers 24a2, 24b2 (f) formed by a heat insulation forming process repeating predetermined times a basic process made of series of processes: application of the polyimide resin 24 → exposure → development →curing are made to be the heat insulation layers 4a, 4b. その後、「ポリイミド樹脂24の塗布→露光→現像→キュア」の一連の工程からなる基本工程を規定回数(図示例では2回だが複数回であればよい)繰り返す熱絶縁部形成工程により形成された絶縁層24a_2,24b_2(図1(f)参照)を熱絶縁部4a,4bとする。 - 特許庁
At first, a net list 101 is inputted, and the maximum and minimum values of delay coefficients corresponding to the characteristics of respective clock paths at a data transmission side FF and a data reception side FF are set by a path-categorized delay coefficient setting process 104, and a timing analysis process 106 is executed. まず、ネットリスト101を入力とし、パス別遅延係数設定工程104によりデータ送り側FFとデータ受け側FFのクロックパスにそれぞれのパスの特徴に応じた遅延係数の最大値と最小値を設定し、タイミング解析工程106を行う。 - 特許庁
Exhaust gas produced in the first half of the sintering process is recovered into a wind box 10 and supplied to the raw material 1 in the middle and last half of the sintering process via moisture eliminating and cooling action performed by a condenser 14 together with the exhaust gas heat-exchanged by the heat exchanger 13. 焼結過程の前半で発生する排ガスはウィンドボックス10で回収され、熱交換器14による熱交換を行った排ガスと共に凝縮器14による水分除去及び冷却作用を経て、焼結過程の中間及び後半の原料1に供給される。 - 特許庁
An operation system server 1 generates a copy mail data file including a mail main body, and information associated with mail such as the mail identification information and the mail update information in the unit of mail in an SMTP server process 11, and transmits the file to a backup server 2 in a mirror transmission process 13. 運用系サーバ1は、SMTPサーバプロセス11において、メール本体と、メール識別情報やメール更新情報等のメールに関する情報とを含む複製用メールデータファイルをメール単位で作成し、ミラー送信プロセス13において、バックアップサーバ2へ該ファイルを送信する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor device for realizing stable manufacture of a precise device, by measuring a plurality of points on a sample simultaneously for realizing speedy three-dimensional shape measurement, before reflecting for the setting of working process conditions, in a semiconductor manufacturing process. 試料上の複数の点を同時に計測して高速な立体形状計測を実現し、半導体製造工程の加工プロセス条件の設定に反映させて、高精度なデバイスの安定な製造を実現することができる半導体デバイスの製造技術を提供する。 - 特許庁
To provide a microbicidal composition exhibiting excellent microbicidal effect on microorganisms causing stains or slime trouble in various kinds of industrial process water such as process water of the paper pulp manufacturing industry, industrial circulating cooling water or industrial wastewater. 本発明は、紙パルプ製造業の工程水、工業用循環冷却水、産業排水等の各種工業用工程水において、汚れやスライム障害を引き起こす微生物類に対して、優れた殺微生物効果を示す殺微生物剤組成物を提供することである。 - 特許庁
To easily prepare a standard work combination chart of accurate contents in a short time by preparing the standard work combination chart for a plurality of work process cycles and extracting the standard work combination chart for the work process cycle in a normal state. 複数の作業工程サイクルについての標準作業組合せ表を作成し、定常な状態の作業工程サイクルについての標準作業組合せ表を抽出することによって、正確な内容の標準作業組合せ表を容易に、かつ、短時間で作成することができるようにする。 - 特許庁
As a means to solve the fence or the lift-off residue of the resist mask in a track formation process and an element height formation process, lift-off is performed by CMP by forming a 1st stopper layer 41 on the magnetoresistive effect film 3, and a 2nd stopper layer 42 on a refill film 6. トラック形成工程及び素子高さ形成工程における、フェンスやレジストマスクのリフトオフ残りを解決する手段として、磁気抵抗効果膜3の上に第一のストッパー層41を、リフィル膜6の上に第二のストッパー層42を配し、CMPによってリフトオフを行う。 - 特許庁
To provide a manufacturing process of a dispersion liquid of a crystalline polyester having a width of distribution of the volume average particle size as narrow as 0.2-1.0 μm which is useful for a toner, a dispersion liquid obtained by the process, an imaging toner using the dispersion liquid and a developer and a method of imaging using the toner. トナーとして有用な体積平均粒径が0.2〜1.0μmの分布巾の狭い結晶性ポリエステル分散液の製造方法、その方法で得られた分散液、その分散液を使用した画像形成用トナー、該トナーを用いた現像剤、および画像形成方法を提供すること。 - 特許庁
Further, a wiring structure including one and more layers of wiring layers 113, 115 is formed on the substrate 100 by performing one and more times a process of forming one layer of a wiring layer 110 on the substrate 100 and a process of processing the one layer of the wiring layer 110 to a wiring pattern. さらに、基板100上に1層の配線層110を形成する処理と、1層の配線層110を配線パターンに加工する処理を1回以上行うことにより、基板100上に、1層以上の配線層113,115を含む配線構造を形成する。 - 特許庁
The method of manufacturing the board 1 comprises a bump masking process where a mask 15 is pasted on the reinforcing plate 14 covering the solder bumps 12 so as to prevent a pickling solution SJ from coming into contact with them and a pickling process where the board 1 is cleaned with a pickling solution SJ which contains hydrochloric acid. この基板1の製造方法は、補強板14上に、酸洗浄液SJの接触を防止するマスク15を貼り付けて、ハンダバンプ12を覆うバンプマスキング工程と、その後、塩酸を含む酸洗浄液SJで基板1を洗浄する酸洗浄工程とを備える。 - 特許庁
The minimization is achieved by actuating the MEMS display elements with potential differences having a first polarity during a first portion of a display writing process, and with potential differences having the polarity opposite to the first polarity during a second portion of the display writing process. MEMS表示素子を表示書き込み過程の第1の部分の期間は第1の極性の電位差で作動させ、MEMS表示素子を表示書き込み過程の第2の部分の期間は第1の極性とは逆の極性を持つ電位差で作動させることにより減少できる。 - 特許庁
In an idle moving process in which a laser machining head 25 is transferred at an idle moving speed faster than the cutting speed, the gain of a controller 37 in the upward retreating of the laser machining head 25 is designed to be higher than the normal gain of the controller 37 in the laser cutting process. 切断速度よりも速い空移動速度で移動させる空移動工程において、レーザ加工ヘッド25を上方向へ退避移動させるときにおけるコントローラ37のゲインを、レーザ切断工程におけるコントローラ37の通常のゲインよりも上げるように構成した。 - 特許庁
This method for producing the lactic acid has a process for culturing lactic acid bacteria in a lactic acid bacterium-proliferating culture medium containing saccharides, vitamins, amino acids, and mineral and a process for producing the lactic acid by adding the cultured lactic acid bacteria to a buffer solution containing the saccharides. 糖類、ビタミン類、アミノ酸類及びミネラルを含有する乳酸菌増殖用培地で乳酸菌を培養する工程と、糖類を含有する緩衝液に、培養した乳酸菌を添加して乳酸を生産させる工程と、を備えた乳酸の生産方法を提供する。 - 特許庁
To prevent the peeling-off of a low dielectric constant insulation film when etching gas and moisture, etc., fetched in the low dielectric constant insulation film are eliminated in a heating process in process even at realizing the structure, for which a diffusion preventing insulation film is directly formed on the low dielectric constant insulation film. 低誘電率絶縁膜上に直接に拡散防止絶縁膜を成膜した構造を実現しても、低誘電率絶縁膜中に取り込まれたエッチングガスや水分等がプロセス中の熱工程で脱離した際に低誘電率絶縁膜の剥離を防止する。 - 特許庁
To provide an aqueous adhesive composition which can provide a smooth coating surface without thin spots and eye holes when applying the aqueous adhesive particularly by a curtain process, and a process for application thereof, as well as an adhesive-coated product obtained therefrom. 本発明の課題は、特にカーテン方式により水性粘着剤を塗工する場合において、塗工表面のカスレやハジキなどがなく、かつ平滑な塗工表面を得る事ができる水性粘着剤組成物とその塗工方法、およびそれにより得られる粘着剤塗工物を提供する事にある。 - 特許庁
The method is for manufacturing a ferrite powder containing Y-type ferrite, which comprises a process where an alkali source is added to an aqueous solution of metal salts containing elements constituting the Y-type ferrite and a process where the aqueous solution is irradiated with a microwave for heating and reacting. Y型フェライトを含有するフェライト粉末の製造方法であって、前記Y型フェライトの構成成分元素を含有する金属塩の水溶液にアルカリ源を添加する工程と、前記水溶液にマイクロ波を照射して加熱し、反応させる工程を有することを特徴とする。 - 特許庁
Since the TiN film 102 can be readily removed after anisotropic etching, it is possible to eliminate the need for additional process for removal of an etching mask which remains in eaves shape after anisotropic etching, thus realizing micromirror formation of high quality without increasing manufacturing process. TiN膜102は、異方性エッチング後の除去を容易に行うことが可能なため、異方性エッチング後にひさし状に残るエッチングマスク除去のための工程を追加する必要がなく、製造工程の増加を招くことなく高品位のマイクロミラー形成が実現可能となる。 - 特許庁
In a full screen mode, the image processor 200 applies an image process using a most suitable parameter selected by the user in the image comparison mode, to the input images, wherein a higher-quality image process is executed by using a broader tap range than the image comparison mode. また、表示モードが全画面モードである場合、画像処理装置200は、ユーザが画像比較モードで選択した最適なパラメータで入力画像に対する画像処理を行うが、画像比較モードのときよりもタップ範囲を広くすることにより、より高画質な処理を行う。 - 特許庁
Disclosed is the cleaning agent used after a chemical-mechanical polishing process in the manufacturing process of the semiconductor device having the copper interconnection formed on the surface, wherein the cleaning agent contains (A) polycarboxylic acid and (B) a compound having an aldehyde structure and has the pH of 0.5 to 5. 表面に銅配線が施された半導体デバイスの製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤であって、(A)ポリカルボン酸と、(B)アルデヒド構造を有する化合物と、を含有し、pHが0.5〜5であることを特徴とする洗浄剤である。 - 特許庁
To provide a fabrication method by which a fine wiring structure is formable without using dry etching or ashing process of a wiring trench for a multiple layer fine wiring in a semiconductor device, at the same time the simplification of wiring process, the improvement of wiring reliability, and cost reduction are achieved. 半導体装置における微細な多層配線において、配線溝のドライエッチングやアッシングプロセスを用いることなく、微細な配線構造の形成が可能であって、配線工程の簡略化、配線信頼性向上、低コスト化を同時に達成する製造方法を提供する。 - 特許庁
The method comprises: a film deposition process for depositing an SiC epitaxial film 2 on an off-cut SiC single crystal substrate 1; and a heating process for reducing crystal defects by heating the deposited SiC epitaxial film 2 so as to generate step bunching 3 on the surface of the SiC epitaxial film 2. オフカットされたSiC単結晶基板1上にSiCエピタキシャル膜2を成膜する成膜工程と、SiCエピタキシャル膜2を加熱することでSiCエピタキシャル膜2の表面にステップバンチング3を発生させて結晶欠陥を減少させる加熱工程とからなる。 - 特許庁
To provide a welding structure of a face plate of a golf club head that can quickly and accurately complete the assembly of a head body and a face plate before a manufacturing process for temporary welding and high energy welding, increase the convenience of assembly and simplify the manufacturing process for welding. 仮溶接および高エネルギー溶接の製造過程の前にヘッド本体とフェース板の組立を迅速かつ精確に完成することができ、組立の便利性を高めることができると共に、溶接の製造過程を簡単にすることができるゴルフクラブヘッドのフェース板の溶接構造を提供する。 - 特許庁
In manufacturing the semiconductor device, the switch 5 is transferred so as to conduct the wiring 2 on scribe lines with the terminal 3 alone of the main circuit 4 of IC chip 1 passing through acceptance criteria in a pass-fail process before a screening process is implemented. そして、半導体装置を製造する際では、スクリーニング工程を行う前に、ICチップ1の良、不良を判定する工程で良品と判定されたICチップ1の主回路4の端子3のみが、スクライブライン上の配線2と導通するように、スイッチ5を切り替える。 - 特許庁
To provide an ultrasonic vibrator whose process of separately providing a metal electrode on the substrate side is eliminated, which selects ceramics for which processing at high temperature is required as a material of a vibrating membrane or a sacrifice layer in manufacture, and whose flexibility is raised in a manufacturing process. 製造において、基板側に金属性の電極を別度設ける工程を省くことが可能である上に、高温での処理が必要であるセラミックスを振動膜又は犠牲層の材料として選択でき、製造工程において自由度が高まる超音波振動子を提供する。 - 特許庁
Based on the overexposure information accumulated during the execution of a noise reduction process or a demosaic process, the overexposure information holding part 272 creates an overexposure map of a pixel of interest in a chromatic aberration correcting part 273 and supplies the overexposure map to the chromatic aberration correcting part 273 at a predetermined timing. そして、白とび情報保持部272は、ノイズリダクション処理やデモザイク処理が行われている間に蓄積した白とび情報から、色収差補正部273における注目画素の白とびマップを生成し、それを所定のタイミングで色収差補正部273に供給する。 - 特許庁
A reflow treatment comprises a heating process of melting solder paste attached to a PCB 3 by heating, and a cooling process of forcibly solidifying the molten solder paste by cooling it down at a cooling rate of 1.5°C/second or higher. リフロー処理では、PCB3上に付着されたはんだペーストを加熱溶融するための加熱工程と、この加熱工程により加熱溶融されたはんだペーストを溶融状態から1.5℃/秒以上の冷却速度をもって強制的に冷却、凝固する冷却工程とを経る。 - 特許庁
Specially, the processing part 54 performs the process of carrying out the process so that the processing intensity gradually decreases from inside the processing object area toward the peripheral edge at the part in the source image corresponding to the outline of the specific line width by an outline processing part 54a. 特に、処理部54では、元画像データ上の前記所定の線幅の輪郭線に対応する部分においては、前記処理対象領域の内側から周縁に向かって処理強度が漸次低下するように前記処理を施す処理を、輪郭線処理部54aによって行なう。 - 特許庁
To provide an apparatus capable of making frozen dessert ideally soft wholly and evenly remarkably earlier than a conventional apparatus, and performing a softening process in an almost fixed time regardless of a kind of frozen dessert material without storing water drops in a bag-like container during a softening process. 従来よりも一段と早く、全体に均一に理想的な軟らかさにすることができ、併せて軟化処理中に袋状容器内に水滴が溜まることなく、加えて冷凍菓子の素材の種類にかかわらず略一定の時間で軟化処理を行うことができるようにする。 - 特許庁
To provide the high luminance polishing method of high productivity, which reduces a process for removing printing burrs and reduces an operation, such as inversion in a high luminance plane polishing process being one of the processes in the manufacturing of an inspection wafer for evaluating the quality characteristic of semiconductor crystal. 半導体結晶の品質特性を評価するための検査用ウェーハ等の作製における一プロセスである高輝度平面研削工程において、従来のような印字バリを取る工程を削減し、反転などの操作を低減した生産性の高い高輝度研削法の提供。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus and a process cartridge, which stably supplies a high-quality image without image defects, in which the flaws on the surface layer of a photoreceptor or the fused adhesion of toner is few, and in which a prescribed image forming process functions effectively, even under repeated use under whatever environment. 感光体上の表面層上の傷やトナー融着が少なく、いかなる環境下でも繰り返し使用において所定の画像形成プロセスを有効に機能させ、画像欠陥の無い高品位な画を安定して供給することのできる画像形成装置およびプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁
Because the seal member is arranged after the two sheets of substrates are opposingly disposed, the gas generated from the seal member in a temporary baking process and the baking process spreads into the gap of the order of only 100 μm and, therefore, the phosphor in a display area is hardly made to be contaminated. 2枚の基板を対向配置した後封着部材を配置するために、仮焼成工程や焼成工程で封着部材から発生するガスは2枚の基板のわずか100μm程度のギャップ間を広がることなり、表示エリア内の蛍光体を汚染しにくくなる。 - 特許庁
The parameter PRX of the combustion condition is calculated by deducing '1' from the pressure ratio P3/P2 of the internal pressure P2 in the combustion chamber detected at 60 degrees before the top dead center in the compression processto the internal pressure P3 in the combustion chamber detected at 60 degrees after the top dead center in the expansion process. 圧縮行程の上死点前60度で検出した燃焼室内圧力P2と、膨張行程の上死点後60度で検出した燃焼室内圧力P3との圧力比P3/P2から「1」を減算して燃焼状態パラメータPRXを算出する。 - 特許庁
A trouble in a preparation process is dissolved by fractionating the non-wheat grain into at least a starch fraction and a protein fraction, separately treating both the fractions with an external enzyme respectively to make them into a saccharified starch and a protein decomposed substance, and using them for the raw material of the preparation liquid in the fermentation process. 非麦穀物を、少なくともデンプン画分とタンパク質画分を分画し、両画分をそれぞれ別個に外部酵素で処理して糖化スターチおよびタンパク分解物としてから、発酵工程の仕込み液の原料として用いることにより、仕込み工程での不具合を解消した。 - 特許庁
The printer, equipped with a print engine capable of performing the cleaning process, is configured to perform the cleaning process, when print contents prescribing data cannot be prepared within a standby time (steps S111: time-out) and when reception of next-page data has not started (step S111: "NO"). クリーニング処理を実行可能な印刷エンジンを備えた印刷装置を、待機時間内に印刷内容規定データが用意できなかった場合(ステップS113;タイムアウト)と、次ページデータの受信が開始されていなかった場合(ステップS111;NO)とに、クリーニング処理が行われるように、構成しておく。 - 特許庁
The process unit 3 provided with at least the photoreceptor 11 and a brush electrostatic charger 12 has the shutter 102 of the exposure aperture which moves between the brush electrostatic charger 12 and an optical path 112 cooperatively with the attachment and detachment of image forming devices 1 to and from the process unit 3. 少なくとも感光体11とブラシ帯電器12を備えるプロセスユニット3において、プロセスユニット3の画像形成装置1への着脱に連動して、露光開口部のシャッタ102が、ブラシ帯電器12と光路113との間に移動するプロセスユニット3とする。 - 特許庁
In this production process, a stirring process for stirring the organic material in order to promote the reactive decomposition is involved. 有機材料から水素を発生させる水素製造方法において、有機材料を投入する投入工程と、クロストリジウム属の微生物を投入する微生物投入工程と、を具備し、この反応工程中に、反応・分解を促進させるため有機材料を撹拌する撹拌工程を設けている。 - 特許庁
To provide a process for preparing a composite particle useful as an abrasive, a composite particle prepared through this process, and an aqueous dispersion for grinding chemical machines which contains this composite particle, yields a sufficient abrasion speed and sufficiently inhibits scratching, disconnection, or the like. 研磨剤として有用な複合粒子の製造方法、及びこの方法により製造される複合粒子、並びに複合粒子を含有し、十分な研磨速度が得られ、且つスクラッチ及び断線等が十分に抑えられる化学機械研磨用水系分散体を提供する。 - 特許庁
The method of preparing the above catalyst for removing an environmentally burdensome substance according to the present invention is characterized by comprising at least either a heat treatment process that applies heat treatment or a pulverizing process that applies pulverizing treatment thereto. また、上記本発明の環境負荷物質の除去触媒の製造方法であって、少なくとも、熱処理を施す熱処理工程および粉砕処理を施す粉砕工程のいずれかを含むことを特徴とする環境負荷物質の除去触媒の製造方法である。 - 特許庁
When a base film is rolled around a winding core and formed in a shape of a roll after coating and calendar processing and rewound and cut into a plurality of magnetic tapes after heat treatment in a roll state, the elapsed time from completion of heat treatment processto cutting process is made 80 hours or shorter. 塗布、カレンダ処理後、ベースフィルムを巻芯に巻き取ってロール状に形成し、ロール状態のまま熱処理した後、巻戻して複数本の磁気テープに裁断する場合において、熱処理の工程が完了してから裁断の工程までの経過時間を80時間以内とする。 - 特許庁
The game control microcomputer 560 transmits a retrieval command for informing that a retrieval process has been executed to the presentation control microcomputer if the game control microcomputer executes the retrieval process based on the content of storage stored in backup RAM when the power supply is on. 遊技制御用マイクロコンピュータ560は、電源投入時に、バックアップRAMに保存されている記憶内容にもとづいて復旧処理を行ったときに、その旨を報知させるための復旧コマンドを演出制御コマンドとして演出制御用マイクロコンピュータに送信する。 - 特許庁
According to the production method, since a polishing process can be eliminated, the occurrence of polishing trace resulting from the polishing process can be prevented, and thus the Mg alloy coiled material having substantially smooth surface over the whole length of the coiled material and excellent in surface property can be efficiently obtained. このMg合金コイル材の製造方法によれば、研磨加工を省略することができるので、研磨加工に起因する研磨痕の発生を防止することができ、コイル材の全長に亘って、実質的に表面が平滑で表面性状に優れるMg合金コイル材を効率よく得ることができる。 - 特許庁
This work has been released into the public domain by the copyright holder. This applies worldwide.
本翻訳は Ian Johnston : Creationism in the Science Curriculum? を日本語訳したものです。 翻訳は http://www.mala.bc.ca/~johnstoi/essays/creationism.htm に基づいています。 なお、この文書は著者によりパブリック・ドメインとして公開されています。 Copyright on Japanese Translation (C) 2004 Ryoichi Nagae 永江良一 本翻訳は、原著作を明示し、かつこの著作権表示を付すかぎりにおいて、訳者および著者に一切断ることなく、商業利用を含むあらゆる形で自由に利用し複製し配布することを許諾します。翻訳の改変を行うことも許諾しますが、その場合は、この著作権表示を付すほか、著作権表示に改変者を付加し改変を行ったことを明示してください。