「To process」を含む例文一覧(50000)

<前へ 1 2 .... 956 957 958 959 960 961 962 963 964 .... 999 1000 次へ>
  • Residues generated when a semiconductor layer is subjected to dry-etching in a semiconductor substrate manufacturing process are removed by the use of a cleaning agent containing an oxidizing agent and a chelating agent.
    半導体基板の製造工程において、半導体層のドライエッチング時に発生する残渣物を酸化剤とキレ−ト剤とを含有する洗浄剤により除去する。 - 特許庁
  • To continuously and uniformly form a mixed film composed of different element and having prescribed compositional ratios and objective thickness on the surface of a film in the process of running.
    走行中のフィルム表面に異なる元素からなり、所定の組成比および目標厚みを有する混合膜を、連続的、且つ均一に形成可能にする。 - 特許庁
  • To provide a method for producing polyorganosiloxane particles and a method for producing silica particles for easily suppressing trouble occurring in a firing process when particle size is increased.
    粒径を大きくするに際して焼成に伴う不具合を抑制することの容易なポリオルガノシロキサン粒子の製造方法及びシリカ粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a display device which can process the video signal of n+k bits per pixel by using a data driving part capable of decoding the video signal of n bits per pixel.
    一画素当たりnビットの映像信号が解読可能なデータ駆動部を用いて一画素当たりn+kビットの映像信号を処理可能なディスプレイ装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a temperature sensor circuit capable of effecting a highly accurate temperature compensation by eliminating manufacturing process variation, a semiconductor integrated circuit and a temperature sensor circuit regulating method.
    製造プロセス変動の影響をなくし、高精度な温度補償が可能な温度センサ回路、半導体集積回路及び温度センサ回路の調整方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a dicing tape and a processing film for manufacturing a semiconductor element that facilitates peeling of a dicing and die-bonding integrated type tape from a ring frame in a peeling process.
    ダイシングテープ、及びダイシング・ダイボンド一体型テープとリングフレームとの剥離工程において、リングフレームからの剥離が容易な半導体素子製造用工程フィルムを提供する。 - 特許庁
  • The residue after extracting phthalic anhydride generated in a distillation-refining process of the low purity phthalic anhydride is used as a part of a refining agent when a desulfurizing refining to molten iron alloy is performed.
    低純度無水フタル酸の蒸留精製過程で発生する無水フタル酸抽出残渣を、溶融鉄合金の脱硫精錬に際して精錬剤の一部に使用する。 - 特許庁
  • To provide a method for effectively cleaning flux remainder produced in the manufacturing process of a semiconductor device and a method for manufacturing the semiconductor device including the cleaning method.
    半導体装置の製造工程で生じるフラックス残渣物の効果的な洗浄方法及び、この洗浄方法を含む半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • He supervised Shinsen-en Temple at the Imperial Court from 868 to 872, and in the process he formed friendship with intellectual persons such as SUGAWARA no Michizane and KI no Haseo.
    貞観_(日本)10年(868年)から同14年(872年)にかけては宮廷の神泉苑を監修し、その過程で菅原道真や紀長谷雄といった知識人とも親交を結んだ。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • To provide an electrolytic polishing unit and a burr removing method, which effectively remove burr formed in a press process from a workpiece made of thin metal sheet.
    本発明の課題は、薄板の金属被加工物のプレスバリを効果的に除去することのできる電解研磨装置及びバリ取り方法を提供することである。 - 特許庁
  • The printing nonwoven fabric is obtained by imparting a water-dispersed organic polymer and a pigment to a base cloth sheet essentially comprising wood pulp and organic fibers and produced by papermaking by wet process.
    少なくとも、木材パルプと有機繊維とからなり、湿式抄紙法にて抄紙した原布シートに、水分散有機重合物と顔料とを付与してなる印刷用不織布。 - 特許庁
  • To greatly improve the reliability of a semiconductor integrated circuit device by reducing the dispersion of detection levels in power source voltage caused by temperature, a manufacturing process and the like.
    温度、製造プロセスなどによる電源電圧における検出レベルのばらつきを少なくし、半導体集積回路装置の信頼性を大幅に向上させる。 - 特許庁
  • To provide a process for making a no-alkali glass suitable for a clear glass substrate for a display showing a high bubble quality, without using As_2O_3 nor Sb_2O_3 as a clarifier.
    清澄剤としてAs_2 O_3 やSb_2 O_3 を使用せず、しかも泡品位が高く、ディスプレイ用透明ガラス基板として好適な無アルカリガラスを製造する方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method and device in which porosity formation is made compatible with contraction control in a flocculation process of a thin film-like polymer.
    本発明は、薄膜状のポリマーの凝固プロセスにおいて、多孔質化と収縮制御を両立させることができる製造方法および装置を提供することにある。 - 特許庁
  • To provide an information processor capable of performing time correction in a secure manner while setting time information different at each execution space and each process.
    各実行空間や各プロセスごとに異なる時刻情報を設定できるようにしつつ、時刻の補正を安全な方法で実行できる情報処理装置を提供する。 - 特許庁
  • This method for producing the mechanical pulp is characterized by comprising a process of dehydrating pulp slurry containing the mechanical pulp to make ≥20 mass % pulp concentration.
    本発明の機械パルプ製造方法は、機械パルプを含むパルプスラリーを脱水してパルプ濃度を20質量%以上とする工程を有することを特徴とする。 - 特許庁
  • In a process S109, etching equipment performs a differential operation or a difference operation of a signal to detect a change in the signal indicating the valve travel of the CV valve.
    工程S109では、エッチング装置では、CVバルブの開度を示す信号の変化を検知するために、この信号の微分演算又は差分演算を行う。 - 特許庁
  • Since formation of the dummy gate electrode 13 can be executed, in combination with ordinary formation of the gate electrode of a transistor, and no fabrication process needs to be added newly.
    また、ダミーゲート電極13の形成は、通常のトランジスタのゲート電極の形成と併せて実行可能なので、新規の製造工程を追加する必要はない。 - 特許庁
  • To provide a polyamino compound that is a precursor for a polynitroxyl compound which has high energy density and is useful for an electrode material for large capacity secondary batteries and its manufacturing process.
    エネルギー密度が高く大容量の二次電池の電極材料として有用なポリニトロキシル化合物の前駆体であるポリアミノ化合物およびその製造方法の提供。 - 特許庁
  • To provide a method for efficiently manufacturing toner which has less coarse particles or fine particulates not through a classifying process and generates neither print white stripes nor fogging.
    分級工程を経なくとも粗大粒子又は微細粒子が少なく、印字白筋やカブリが発生しないトナーを効率よく製造することができる方法を提供する。 - 特許庁
  • To securely prevent molten resin from leaking out of the cavity of a mold even when injection pressure for the molten resin slightly varies in a sealing process.
    封止工程のとき、溶融樹脂の注入圧力が多少変動した場合であっても、溶融樹脂が型のキャビティ内から外部に確実に漏れ出さないこと。 - 特許庁
  • To solve the problems of conventional techniques, when the optical characteristics of a coating substrate are measured in the middle of a coating process, in coating facilities provided with several chambers.
    幾つかのチャンバを備えたコーティング設備で、正にコーティングプロセス中にコーティング基板の光学的特性を測定する際の従来技術の問題を解決することにある。 - 特許庁
  • In this effective use method of tank sludge, the tank sludge is mixed with a solvent to make a dispersed material, and it is supplied in a cement firing process.
    本発明のタンクスラッジの有効利用方法は、タンクスラッジと溶剤とを混合して分散体とし、該分散体をセメント焼成工程に供給することを特徴とする。 - 特許庁
  • When a half-press switch 22 is operated, the CPU 21 commands the CPU 29 not to perform the processing for the overlay display and also starts a photographing process.
    CPU21は、半押しスイッチ22が操作されると、画像処理CPU29にオーバーレイ表示のための処理を行わないように指令を出すとともに撮影処理を開始する。 - 特許庁
  • To provide a pay-for-placement bidding process where advertisers can participate in an auction among a number of advertising placements which are purchased by a service provider in advance.
    サービス・プロバイダが事前購入した多数の広告掲載欄の間で、オークションに広告主が参加することができるペイ・フォー・プレースメント入札プロセスを提供する。 - 特許庁
  • To provide a process of successively producing a stable dispersion that causes neither separation nor precipitation without adding any dispersant such as a surfactant and a distributor therefor.
    界面活性剤などの分散剤を添加することなく、分離・沈殿を起こさない安定した分散液を連続して製造する方法および装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a simple method of manufacturing a semiconductor device for forming a gate electrode by a lift-off process by which elements can be miniaturized.
    本発明は、リフトオフ加工によりゲート電極を形成する半導体装置の製造方法において、素子の微細化が可能でかつ、簡単な製造方法を提供することである。 - 特許庁
  • To provide a deburring method allowing easy settling process by preventing dust during the deburring from accumulating on products, and its device.
    バリ除去時の粉塵が製品上に貯まってしまわないようにして後始末の処理を楽にするようにしたバリ取り方法およびその装置を提供することにある。 - 特許庁
  • To provide a method for recovering phenol from a waste liquid discharged from a process of producing phenol resin where the recovered phenol is used quickly.
    フェノール樹脂の製造工程から排出される廃液からフェノールを回収する方法において、そのプロセスで回収フェノールを迅速に使用する方法を提供する。 - 特許庁
  • A single crystal substrate 1 having a plurality of recesses 1a formed is prepared and is subjected to a process of removing part of the substrate, like anisotropic wet etching.
    複数の凹部1aが形成された単結晶基板1を用意し、これに異方性のウエットエッチングなどの基板の一部を基板から除去する工程を行なう。 - 特許庁
  • Taking machining error in a manufacturing process of the spacer into consideration, thickness of the spacer is made equal to an effective focal length of the aspheric lens or larger than that in the condition of within 30 micron.
    スペイサーの製造工程中の機械加工の誤差を考慮し、スペイサーの厚みは、非球面レンズの有効焦点距離と同等か30ミクロン以内で大きくする。 - 特許庁
  • As for the image forming condition for forming a toner image on an image carrier in a developing process, a developing bias condition is set as follows so as to perform an image stabilization control.
    現像工程で像担持体上にトナー像を形成する画像形成条件を、下記の工程によって現像バイアス条件を設定し、画像安定化制御を行う。 - 特許庁
  • A method for forming an image (22) of the object includes a process for dynamically helically scanning an object (46) to be placed on a moving table utilizing a scanning imaging system.
    対象の画像(22)を形成する方法は、走査型イメージング・システムを用いて、移動式テーブルに載置されている対象(46)を動的に螺旋走査する工程を含んでいる。 - 特許庁
  • To reduce the quantity of water in a washing process and the amount of energy used by a hot water heater while maintaining washing performance of a dishwasher.
    食器洗い機の洗浄性能を維持しつつ、且つ洗浄工程の水量を削減すると同時に温水ヒータの使用エネルギー量を低減させることを目的とする。 - 特許庁
  • To produce a reformed gas at high total efficiency including the efficiency of a raw material manufacturing process even though an ethanol aqueous solution capable of being produced from biomass is used as a fuel source.
    バイオマスで生産できるエタノール水溶液を燃料源としながらも、原料製造過程も含めた総合効率が高い改質ガスを製造できるようにする。 - 特許庁
  • In an erase process to erase the test write data recorded in the test area, CW erase is performed (a step S104) and reproduction of the test write data is attempted (a step S106).
    テストエリアに記録された試し書きデータを消去する消去工程では、CWイレーズを行い(ステップS104)、試し書きデータの再生を試行する(ステップS106)。 - 特許庁
  • To make the securing accuracy of positioning an intermediate electrode in a beading process compatible with the prevention of the deformation of an electron beam passing hole of a compensation electrode in the intermediate electrode.
    ビーディング工程における中間電極の位置決め精度の確保と、中間電極の補正電極の電子ビーム通過孔の変形防止とを両立する。 - 特許庁
  • This method 200 includes a process 206 for determining one adjustment out of a plurality of views so as to align the imaging object with at least one alignment marker.
    本方法(200)は、撮像対象を少なくとも1つの整列マーカと整列させるように複数の画像ビューのうちの1つの調整を決定する工程(206)を含む。 - 特許庁
  • In a heat treatment method containing a cooling process for dipping the work composed of the heated steel material into coolant, the work dipped in the coolant is made to displace.
    加熱された鋼材からなるワークを冷媒中に浸漬して冷却する工程を含む熱処理方法において、冷媒中に浸漬したワークを変位させるようにする。 - 特許庁
  • A testing pad (22), which is integrated with the bonding pad, is equipped with a probe region for the execution of a wafer level testing (26) prior to the execution of the bumping process.
    試験パッド(22)は、ボンディング・パッドと一体構築されており、バンピング・プロセスの実行に先立ってウェハ・レベルの試験を実行するためのプローブ領域(26)を備えている。 - 特許庁
  • To enable rigid connection between a valve actuator and a valve stem having contact with high temperature process fluid or vapor.
    バルブアクチュエータと、高温プロセス流体または蒸気と接触しているバルブステムとの間の剛体接続を提供する新規および改良された熱絶縁体を提供する。 - 特許庁
  • To provide an EL element for sufficiently preventing leakage of light among pixels and luminous unevenness at pixel end part while simply manufacturing by omitting manufacturing process.
    工程を省略して簡便に製造できると共に、画素間の光の染み出し及び画素端部における発光むらを十分に防止できるEL素子を提供する。 - 特許庁
  • The front side 103-1 of the wafer may be textured prior to forming the dopant sources (201, 202, 203, and 204) using a texturing process that minimizes removal of wafer materials.
    ウェハの前面103−1は、ドーパント源(201、202、203、204)の形成前に、ウェハ材料の除去を抑えるテクスチャリングプロセスを使用して、テクスチャリングすることができる。 - 特許庁
  • A contour information extracting part 18 performs a predetermined contour tracking process on the diagram to be processed, and converts its contour into a chain code while extracting the coordinates of the contour.
    輪郭情報抽出部18は、処理対象図形に対して所定の輪郭追跡処理を行い、輪郭をチェーンコード化するとともに輪郭座標を抽出する。 - 特許庁
  • To form a ferroelectric film in a bismuth layer structure by using low temperature crystallization in the MOCVD process.
    MOCVD法を用いて強誘電体膜を形成する方法において、低温で結晶化することによりビスマス層状構造を有する強誘電体膜を形成する。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a semiconductor laser in which the contamination or damage of edges caused during a manufacturing process is suppressed, and the semiconductor laser obtained by the method.
    製造工程中に被る端面の汚染や損傷を抑制するようにした半導体レーザの製造方法及びこれによって得られる半導体レーザを提供すること。 - 特許庁
  • One of a plurality of processors of process definitions related to the content processes a digital content, and the processor repeats the method.
    コンテンツに関連するプロセス定義による複数の処理装置の内の何れかの処理装置においてディジタルコンテンツが処理され、その処理装置において本方法が反復される。 - 特許庁
  • To provide a method and apparatus for drying a ceramic honeycomb body which can inexpensively produce a ceramic honeycomb sintered body by reducing a production loss and simplifying a production process.
    製造ロスを低減しかつ製造工程を簡易化してセラミックハニカム焼成体を安価に製造できるセラミックハニカム体の乾燥装置および乾燥方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide an electrode for a nonaqueous electrolyte secondary battery capable of being manufactured in a simple process, and providing high initial charge discharge efficiency, high electrode plate strength, and low irreversible capacity.
    平易な工程で製造でき、高初回充放電効率、高極板強度、低不可逆容量を呈する非水系電解液二次電池用電極を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a method of removing a polysilicon film for reliably etching/removing the polysilicon film at an end of a substrate in desired width without a complicated process.
    煩雑な工程を経ることなく、基板の端部のポリシリコン膜を所望の幅で確実にエッチング除去することができるポリシリコン膜の除去方法を提供すること。 - 特許庁
<前へ 1 2 .... 956 957 958 959 960 961 962 963 964 .... 999 1000 次へ>

例文データの著作権について