「To process」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 982 983 984 985 986 987 988 989 990 .... 999 1000 次へ＞- To provide a method and a device for handling a semiconductor device, which can smoothly and stably transfer the semiconductor device in the mounting process of the semiconductor device.
半導体デバイスの実装工程において特に円滑かつ安定して半導体デバイスを搬送可能な半導体デバイスのハンドリング方法および装置を提供する。 - 特許庁 - The reduced power state entry process includes saving expedited recovery information in registers of an always on domain and putting an external memory in a self-refresh mode to preserve a system context.
減少電力状態エントリープロセスは、迅速回復情報を常時オンドメインのレジスタにセーブし、外部メモリを自己リフレッシュモードとしてシステムコンテクストを保存する。 - 特許庁 - To provide a method for efficiently immobilizing microorganisms and improve gasification efficiency in an anaerobic digestion process intended for an organic waste or wastewater.
有機性廃棄物及び又は廃水を対象とした嫌気性消化法において、効率よく微生物を固定化し、ガス化効率を向上させる方法を提供する。 - 特許庁 - Grout 30 locked in contact with the tapered inner peripheral surface of the straight pipe shaped steel pipe 12 is bored to form an elongate hole H (a grout boring process).
直管状鋼管１２のテーパ形状の内周面に接して係止されているグラウト３０へ削孔を行って長孔Ｈを形成する（グラウト削孔工程）。 - 特許庁 - To provide a curable solid ink being solid at room temperature and molten at high temperature and suitable for obtaining Braille and raised printed matter by an inkjet printing process.
室温で固体で高温で溶融するインクであって、インクジェット印刷により点字および盛り上がった印刷物を得るのに適する硬化性固体インクの提供。 - 特許庁 - To provide a heating process which can reduce deviations in temperature from a heating temperature target inside the roughly rolled sheet when heating the roughly rolling sheet before performing a finish rolling.
仕上圧延前に粗圧延材を加熱するに際して、粗圧延材内における目標加熱温度からの温度偏差を低減できる加熱方法の提供。 - 特許庁 - A selected reagent is fed through the channel, the substrate is rotated on a turning table 403, and the process is repeated to form an array of polymers on the substrate.
選択された試薬を上記チャンネルを通じて送りこみ、基板を回転台（４０３）で回転させ、ついでこの工程を繰返して基板上にポリマーのアレーを形成させる。 - 特許庁 - To provide a process for making the recovered soot of the exhaust gas of a diesel engine into a fuel which can effectively utilize the soot recovered from the exhaust gas of a diesel engine, and its apparatus.
ディーゼル機関の排気ガスから回収したすすの有効利用することができるディーゼル機関排気ガス回収すすの燃料化方法及びその装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a baking method for an electrodeposition coating film by which the hardening of a coating film in the whole part can sufficiently be performed without delaying a coating process.
塗装工程を遅延させることなく、電着塗装物のすべての部分で塗膜の硬化を十分に進行させることができる電着塗膜の焼付方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a process for removing an organic layer easily and surely using ozone and water vapor without causing any damage on a metal layer.
オゾンと水蒸気とを用い、金属層にダメージを与えずに、簡易で確実に有機物層の除去を行なうことができる有機物層の除去方法を提供する。 - 特許庁 - The FET 10 of the semiconductor chip 14 and the PIN diode 20 of the semiconductor chip 24 are formed in separate process and formed to desired characteristics, respectively.
半導体チップ１４のＦＥＴ１０と半導体チップ２４のＰＩＮダイオード２０とは別の工程で形成されており、各々所望の特性に形成されている。 - 特許庁 - The process for producing a polyester includes allowing a compound represented by general formula (1) (A) and an epoxy compound (B) to react with each other under the presence of a phosphine (C).
（Ａ）下記一般式（１）で表される化合物と、（Ｂ）エポキシ化合物とを（Ｃ）ホスフィン類の存在下で反応させることを特徴とするポリエステルの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To precisely position a mask for exposure and a semiconductor substrate in a lithographic process, wherein a resist pattern is formed on the semiconductor substrate where SGI is formed.
ＳＧＩが形成された半導体基板上にレジストパターンを形成するリソグラフィ工程において、露光用マスクと半導体基板との位置合わせを精度よく行う。 - 特許庁 - To provide a setting method for semiconductor manufacturing conditions, a device, semiconductor manufacturing equipment by which plasma process of a semiconductor can be performed under stable conditions, and a semiconductor substrate.
半導体のプラズマプロセスを安定な状態で行える半導体製造条件設定方法、装置、半導体製造装置、及び半導体基板を提供すること。 - 特許庁 - To provide a process and an apparatus for treating surfactant-containing water by which foaming by blowing-in of ozone-containing gas is suppressed and stable treatment can be carried out.
オゾン含有ガスの吹き込みによる発泡を抑制し、安定した処理を行うことができる界面活性剤含有水の処理方法および処理装置を提供する。 - 特許庁 - A nondestructive process for an evaluation of the subsurface damage of the optical element comprises to measure a reflection light intensity by focusing a microscope onto a point of the optical element.
光学素子の表面下の損傷を評価するための非破壊的なプロセスは、光学素子内の点に顕微鏡の焦点を合わせ、反射光の強度を測定する。 - 特許庁 - A receiving part 9 includes a plurality of receiving circuits fewer than the channels to respectively receive and process any one of the signals of the plurality of channels.
受信部９は、複数チャネルの信号のうちのいずれか１つをそれぞれ受信処理する、前記複数のチャネルより少ない数の複数の受信回路を含む。 - 特許庁 - A process for producing a polyamide-based master chip blended with talc as a crystal nucleating agent and a releasing agent comprises adding a releasing agent to a polyamide resin blended with a talc, followed by melt kneading.
結晶核剤としてのタルクと離型剤が配合されたポリアミド系マスターチップを製造するに際し、タルク配合ポリアミド樹脂に離型剤を添加して溶融混錬する。 - 特許庁 - To provide a method and device for inspecting the characteristics of an unvulcanized tire, for reducing the generation rate of the nonconforming articles of the tire that becomes the final shape through a vulcanization process.
加硫工程を経て最終的な形状となるタイヤの不良品発生率を少なくすることのできる未加硫タイヤの特性検査方法及びその装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a dry process various density image processor which is made smaller in size and lighter in weight and is enhanced in a floor area required for installation and utilization efficiency of spaces.
小型かつ軽量化を可能にし、設置に要する床面積や空間の利用効率を高めることができる乾式濃淡画像処理装置を提供する - 特許庁 - The security server may process the request to determine whether the configuration state of the document processing device has changed since the document processing device is registered with the security server.
書類処理装置がセキュリティサーバーに登録されて以来、書類処理装置のコンフィギュレーション状態が変化したか否かを確認するように、セキュリティサーバーはリクエストを処理する。 - 特許庁 - According to this process, lateral movement of acoustic waves inside the resonator is controlled, and the acoustic energy of sonic waves can be located at a desired position inside the resonator.
このプロセスによって、共振器内での音響波の横方向の動きを制御し、音波の音響エネルギーを共振器内の所望の位置に位置付けることが可能になる。 - 特許庁 - The I/O device part 206 is arranged on a single microchip and has a physical layer 208 and a data channel processor 210, and the process device part 220 is coupled to the single microchip.
Ｉ／Ｏ装置部２０６は、シングルマイクロチップ上に配置され、物理層２０８とデータチャネルプロセッサ２１０とを有し、プロセス装置部２２０はシングルマイクロチップに結合される。 - 特許庁 - To provide an electrolytic refining method for producing an electrolytic copper from blister copper for recasting, which directly treats an anode consisting of blister copper having high purity after electrolysis, in an electrolysis process.
電解後の純度が高い粗銅からなるアノードを電解工程で直接処理してしまう鋳返し粗銅から電気銅を得る電解精製方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor manufacturing apparatus which reduces variations in the thickness of a film formed on a semiconductor substrate by restraining the biased flow of process gas.
プロセスガスが偏って流れることを抑え、半導体基板上に形成される膜の膜厚バラツキを低減することが可能な半導体製造装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate cooler and a substrate cooling method capable of performing a cooling process with good surface-uniformity for a short time with suppressing electrostatic charge.
静電気の発生を抑制しつつ、短時間で面内均一性の良好な冷却処理を行うことのできる基板冷却装置および基板冷却方法を提供する。 - 特許庁 - In a normal game, a lending prohibition state prohibiting the lending process is set during a period from the start of at least reels to the stoppage of all reels.
通常のゲームにおいては、少なくともリールの始動操作が行われてからすべてのリールが停止するまでの間、貸出処理が不可能な貸出禁止状態が設定される。 - 特許庁 - This process is particularly adequate for manufacturing the copper wire and above all, is adequate for manufacturing the copper wire having the extremely thin diameter (for example, about 0.0002 to about 0.02 inch).
このプロセスは、銅ワイヤーを作製するのに特に適切であり、とりわけ、非常に薄い直径（例えば、約0.0002〜約0.02インチ）を有する銅ワイヤーを作製するのに適切である。 - 特許庁 - To provide methods conducted by a system, software and a computer for providing a user interface, retrieval and navigation based on the context in a business process.
ビジネスプロセスにおけるコンテキストに基づくユーザインターフェース、検索、およびナビゲーションを提供するためのシステム、ソフトウェア、およびコンピュータによって実施される方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an ultrafast optical switch dispensing with any extra element structure and process for acquiring a signal strength and acquiring a ultrafast response unrestricted by the relaxation time of an exciton.
信号強度を得るために特別な素子構造や加工が不要で、励起子の緩和時間に制限されない超高速応答が得られる超高速光スイッチを提供する。 - 特許庁 - To surely prevent disperse of radioactive Cs outside a system and obtain a large weight reduction and volume reduction without requiring any special equipment and special oxidation decomposition process.
専用設備や特別な酸化分解処理は必要とせず、放射性Ｃｓの系外への飛散を確実に防止でき、かつ大きな減重・減容効果を得ることができる。 - 特許庁 - To form a desired pattern by preventing discharged ink from spreading on a substrate in a printing and drying process in forming a conductor pattern by an ink jet method.
インクジェット法により導体パターンを形成する際、印刷および乾燥工程において、吐出されたインクが基板上で広がることを抑制し、所望のパターンを形成する。 - 特許庁 - To realize a compression data multiplexer that can decrease a transmission rate of compressed data in the case of multiplexing a plurality of transport streams and can process data at a low data rate.
複数のトランスポートストリームを多重する場合、圧縮データの伝送速度を下げることができ、低いデータレートでも処理できる圧縮データ多重化装置を実現すること。 - 特許庁 - To provide an orientation flat positioning device for a semiconductor wafer capable of positioning an orientation flat of the wafer in a process period wherein the wafer is stored in a cassette.
ウェーハをカセットに格納する工程期間内において、ウェーハのオリフラ合わせも共に実施することができる半導体ウェーハのオリエンテーションフラット合わせ装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide austenitic stainless steel excellent in intergranular corrosion resistance in which the occurrence of intergranular corrosion can be prevented by the optimization of a production process without changing chemical components.
化学成分の変更なしに、製造プロセスの最適化により、粒界腐食を顕著に防止できる、耐粒界腐食性に優れたオーステナイト系ステンレス鋼を提供する。 - 特許庁 - An object where a mask layer 142 having a prescribed lens profile is formed on a lens material layer 130 formed on a substrate is subjected to an etching process.
基板上に形成されたレンズ材料層１３０上に所定のレンズ形状を有するマスク層１４２が形成された被処理体に対してエッチング処理を行う。 - 特許庁 - To provide a plasma processing apparatus capable of uniformizing a process result within a wafer face by minimizing ununiformity of a potential distribution around the outer circumference of the wafer.
ウエハ外周付近の電位分布の不均一を最小限にとどめ、ウエハ面内のプロセス結果を均一にすることができるプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a resist composition and resist pattern forming method which can prevent contamination in a device in a lithography process by an electron beam or EUV(extreme-ultraviolet radiation).
電子線またはＥＵＶ（極紫外光）によるリソグラフィプロセスにおいて、装置内の汚染を防ぐことができるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a production process of the electrode for an electric double layer capacitor exhibiting excellent electrode characteristics with good production aptitude using a coating liquid under good dispersion state.
分散状態の良好な塗布液を用いて、電極特性に優れる電極を製造適性良く得る電気二重層キャパシタ用電極の製造方法を提供する。 - 特許庁 - A base material of magnesium is rolled by each rolling roller while heating it by a thermostatic bath by setting a rolling amount at each time by a rolling machine to 1-20μm in a rolling process.
圧延工程において、圧延機による１回毎の圧延量を１μｍ〜２０μｍとし、マグネシウムの基材を恒温槽で加熱しつつ各圧延ローラーで圧延する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor storage device of high reliability and proper characteristics, capable of including a ferroelectric capacitor and a thermal process at a required temperature, after wiring formation.
強誘電体キャパシタ及び配線形成後に必要な温度での熱処理工程を入れることが可能な高信頼性の高特性の半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁 - An asynchronous processing device is configured to process data stored in a local storage and a memory which is accessible by at least several of asynchronous processing devices.
非同期の処理デバイスは、ローカルストレージおよび複数の非同期の処理デバイスのうちの少なくともいくつかによってアクセス可能なメモリに記憶されるデータを処理する。 - 特許庁 - To realize an LSI having a high performance, even in a fining process, by inhibiting the dispersion of a gate length or a gate width mainly caused by optical proximity effect.
光近接効果を主原因とするゲート長又はゲート幅のばらつきを抑制することによって、微細化プロセスにおいても高性能なＬＳＩを実現する。 - 特許庁 - When performing the display drive using the overdrive process, dispersion in response speeds among the pixels 20R, 20G, and 20B having different colors is reduced so as to suppress coloring phenomenon.
オーバードライブ処理を用いた表示駆動の際に、色の異なる画素２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂ間での応答速度のばらつきが低減され、色づき現象が抑えられる。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a power semiconductor module with a simple and short manufacturing process, low electrical resistance of wiring from an electrode, and small heat resistance for cooling.
製造工程が簡単で短く、電極からの配線の電気抵抗が低く、且つ放熱のための熱抵抗が小さいパワー半導体モジュールの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To support improvement activities in a manual assembly line by automatically finding abnormality as quickly as possible in working hours and work sequences in each process of the manual assembly line.
手組みラインの各工程における作業時間や作業手順の異常を自動的に且つ可及的速やかに発見することで、手組みラインの改善活動を支援する。 - 特許庁 - To improve quality of defect correction while remarkably improving work efficiency in a defect correcting process against an interlayer short-circuit defect between upper and lower parts of a multilayer structure.
多層構造の上下間での層間ショート欠陥に対する欠陥修正工程の作業効率を著しく向上させつつ、欠陥修正の品質を向上させる。 - 特許庁 - The control device 13 conveys the substrate 14 into a tantalum layer forming chamber F3 to coat the whole magnetic layer 15 with a tantalum layer 16 using an oblique incidence sputtering process.
また、制御装置１３が、基板１４をタンタル層形成チャンバＦ３に搬送し、斜め入射スパッタ法を用いて磁性層１５の全体にわたりタンタル層１６を被覆する。 - 特許庁 - A projection formed in a patterning process of an insulating film and an electrode metal layer formed on the projection are provided to obtain electric conduction between an electrode metal and driving IC bumps.
絶縁膜のパターニングプロセスで形成させた突起と、突起上に成膜された電極メタル層を備えることにより、電極メタルと駆動ＩＣバンプの電気導通を取る。 - 特許庁 - To provide a method for inexpensively producing tubular titanium oxide having a large specific surface area and anatase crystallinity by a simple process without using a specific apparatus.
特殊な装置を用いることなく、簡易なプロセスにより比表面積が大きいアナターゼ結晶性を有するチューブ状酸化チタンを経済的に製造する方法を提供する。 - 特許庁
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