In the patterning method, marks on a wafer W are detected by mark detection systems ALG1, ALG2, patterning for the wafer W is started using the detection results, marks on the wafer W are also detected by the mark detection systems ALG1, ALG2 even after starting the patterning, and the detection results are used in the patterning. パターン形成方法では、ウエハW上のマークをマーク検出系ALG1、ALG2で検出し、その検出結果を用いてウエハWに対するパターン形成を開始するとともに、パターン形成開始後もマーク検出系ALG1、ALG2でウエハW上のマークを検出し、パターン形成でその検出結果を用いる。 - 特許庁