「argon complex」を含む例文一覧(3)
- To provide an organometal complex compound which is easily cured by ultraviolet rays (UV), can be patterned, is excellent in uniformity of a coated film when being converted to the coated film, and has a high resistance to etching using an etching gas such as argon gas; to provide a method for producing the organometal complex compound; and to provide a photocurable composition containing the organometal complex compound.
紫外線（ＵＶ）により容易に硬化し、パターニングが可能であり、塗膜とした時に塗膜の均一性に優れ、アルゴンガスなどのエッチングガスを用いたエッチングに高い耐性を有する硬化物となる有機金属錯体化合物、該有機金属錯体化合物の製造方法および該有機金属錯体化合物を含む光硬化性組成物を提供すること。 - 特許庁 - This method for producing the complex comprises baking MoSi2 or Mo5Si3 at a temp. of ≥1600°C in a nitrogen or argon atmosphere in a baking furnace containing carbon so as to form Mo5-xSi3 C1-y.
この複合体の製造方法は、ＭｏＳｉ_2又はＭｏ_5Ｓｉ_3を、１６００℃以上の温度で、窒素雰囲気又はアルゴン雰囲気中において、カーボンが存在する焼成炉内で焼成することによりＭｏ_5-xＳｉ_3Ｃ_1-yを生成させることができる。 - 特許庁 - The silica-titania complex oxide having dispersion of rutile titania microcrystals in an amorphous matrix is obtained by hydrolyzing a silicon alkoxide such as silicon tetramethoxide or silicon tetraethoxide and a titanium alkoxide such as titanium tetraethoxide, or titanium tetraisopropoxide, heating the co-hydrolyzed product at 900 to 1,300°C in an inert atmosphere such as nitrogen or argon to produce the complex oxide to crystallize the microcrystals of rutile titania in the complex oxide.
シリコンテトラメトキシド、シリコンテトラエトキシド等のシリコンアルコキシド化合物と、チタニウムテトラエトキシド、チタニウムテトライソプロポキシド等のチタニウムアルコキシド化合物とを加水分解して得られる共加水分解物を、窒素下、アルゴン下等の非酸化性雰囲気下で、９００〜１３００℃で加熱して複合酸化物とすることにより、この複合酸化物中にルチル型チタニアの微結晶が析出し、該微結晶が非晶質マトリックス中に分散されたシリカ−チタニア複合酸化物が得られる。 - 特許庁
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