「average roughness」を含む例文一覧(922)

1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 18 19 次へ＞
  • The surface roughness Rz is a ten-point average roughness.
    表面粗さＲｚは、十点平均粗さである。 - 特許庁
  • The surface roughness of the base plane is ≤0.8 μm in arithmetic average roughness.
    ベース平面の表面粗さは算術平均粗さで０．８μｍ以下である。 - 特許庁
  • When the surface roughness of the mirror surface is represented by a center-line average roughness, the center-line average roughness is less than 1.6 μm.
    また、前記鏡面の表面粗さを中心線平均粗さで表したとき、中心線平均粗さが１.６μｍ未満となるようにしている。 - 特許庁
  • The sliding face roughness of the mate material is preferably 2-4 μm in ten-point average roughness (Rz).
    相手材の摺動面粗さは、十点平均粗さ（Ｒz）で２〜４μｍが好ましい。 - 特許庁
  • The surface roughness of the coating film 13 is specified to ≤10 μm ten-point average roughness (Rz).
    また，被膜１３の表面粗度は，十点平均粗さ（Ｒｚ）１０μｍ以下である。 - 特許庁
  • The recording surface has an average roughness of less than about 2.5 nm.
    記録表面の平均粗さは約２．５ｎｍ未満である。 - 特許庁
  • Surface roughness of raceway surfaces is from 0.1 μm or more to 2.0 μm or less at average roughness (Ra).
    軌道面の表面粗さを平均粗さ（Ｒａ）で０．１μｍ以上２．０μｍ以下とする。 - 特許庁
  • The arithmetic average roughness Ra of the surface of the high polymer film is smaller than the arithmetic average roughness Ra of the surface of the toner carrier 12.
    高分子フィルム表面の算術平均粗さＲａは、トナー担持体１２表面の算術平均粗さＲａより小さい。 - 特許庁
  • The surface roughness of the surface of the reduction part 5 is <1.40 μm in ten point average roughness Rz and <0.19 μm in a center line average roughness Ra.
    上記リダクション部５の表面粗さは、十点平均粗さＲｚでは、１．４０μｍ未満であり、中心線平均粗さＲａであれば、０．１９μｍ未満である。 - 特許庁
  • The coating (12) has an average surface roughness of less than approximately 5 microns.
    コーティング（１２）は、約５ミクロン未満の平均表面粗さを有する。 - 特許庁
  • The cellulose ester film has the arithmetic average roughness of the film: Ra, the 10-point average roughness: Rz and the average interval of the local peaks: Sm within the following ranges, respectively.
    またセルロースエステルフィルムは、フィルムの算術平均粗さ：Ｒａ、十点平均粗さ：Ｒｚ、局部山頂の平均間隔：Ｓｍが、それぞれつぎの範囲内である。 - 特許庁
  • Then, the surface roughness (ten-point average roughness) Rz of the irregularities 16b is set to <0.3μm.
    また、凹凸部１６ｂの表面粗さ（十点平均粗さ）Ｒｚを０．３μｍ未満に設定した。 - 特許庁
  • Especially, the level difference is equal to or below 10 μm, and roughness of the rough surface part is, an average roughness Ra=10 to 2 μm.
    特に段差は１０μｍ以下、粗面部の粗さは平均粗さＲａ＝１０〜２μｍとする。 - 特許庁
  • Further, the difference between arithmetic average roughness Ra of the rough part 12 and arithmetic average roughness Ra of the flat part 11 is within a range of 0.5-10.0 μm.
    また、粗部１２の算術平均粗さＲａと、平滑部１１の算術平均粗さＲａとの差が、０．５〜１０．０μｍになされている。 - 特許庁
  • Here, Rm and Sm are respectively the arithmetic average roughness and the average interval of roughness measured based on JIS (Japanese Industrial Standards) B0601:1994.
    （ＲａおよびＳｍは、それぞれＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に基づいて測定される算術平均粗さおよび凹凸の平均間隔である。） - 特許庁
  • The polyimide film has a tensile modulus of 2 GPa or more, an Ra (average surface roughness) of 5-150 nm, and an Ra/σ [(average surface roughness)/(standard deviation of average surface roughness)] of 2-5,000 and is particularly from a polyimide in which the residue of an aromatic diamine has a diamine residue having a benzoxazole skeleton.
    引張弾性率が２ＧＰａ以上、Ｒａ（平均表面粗さ）が５〜１５０ｎｍ、Ｒａ／σ（（平均表面粗さ）／（平均表面粗さの標準偏差））が２〜５０００であるポリイミドフィルムでる。 - 特許庁
  • The surface roughness value Rz obtained by ten-point average roughness is preferably within a predetermined range.
    また、十点平均粗さにより求めた表面粗さ値Ｒｚが所定の範囲内であることが好適である。 - 特許庁
  • The ratio of the maximum roughness Rt to the average roughness Ra, and Rt/Ra is ≤10.
    平均粗さＲａと最大粗さＲｔの比Ｒｔ／Ｒａが１０以下である配線接続器具用金属材。 - 特許庁
  • Roughness of at least one of the sides of the film is 0. 02-1 μm in center line average roughness (Ra).
    また、前記ポリエステルフィルムは少なくとも片面の粗さが、中心線平均粗さ（Ｒａ）で０．０２〜１μｍである。 - 特許庁
  • Further, the arithmetic average roughness Ra of the plating surface is controlled to 0.7 to 1.5 μm, and the number of peaks per length of 25.4 mm in the average line direction of a roughness curve: PPI (peaks per inch) is controlled to ≥150.
    さらに、めっき表面の算術平均粗さRa:0.7〜1.5 μｍ、粗さ曲線の平均線方向の長さ25.4mm当たりの山の数：PPI が150 以上とする。 - 特許庁
  • Arithmetic average roughness in the upper surface of the layer 12B_n is 2nm or less.
    この層１２Ｂ_ｎの上面の算術平均粗さは２ｎｍ以下である。 - 特許庁
  • The average value is set as roughness indicating the degree of irregularity of the bottom quality.
    そして、この平均値が底質の凸凹の度合いを示すラフネスとされる。 - 特許庁
  • The center line average roughness (Ra) of the material is 2 μm or below.
    また、該感熱記録材料の中心線平均粗さ（Ra）を２μm以下とする。 - 特許庁
  • Average tilt angle θa on the surface is 0.2° to 1.5° and the arithmetic average roughness Ra is 0.05 to 0.4.
    表面における平均傾斜角θaが０．２°〜１．５°であり、かつ、算術平均粗さＲａが０．０５〜０．４である。 - 特許庁
  • The surface roughness of the bearing part 6 is 1.40-1.90 μm in a ten point average roughness Rz and 0.19-0.28 μm in a center line average roughness Ra.
    上記ベアリング部６の表面粗さは、十点平均粗さＲｚであれば、１．４０μｍ以上１．９０μｍ以下であり、中心線平均粗さＲａであれば、０．１９μｍ以上０．２８μｍ以下である。 - 特許庁
  • The metallic material for a wiring connection fixture has an average roughness Ra of ≤0.3 μm and a maximum roughness Rt of ≤2.0 μm.
    平均粗さＲａが０．３μm以下で、かつ、最大粗さＲｔが２．０μm以下である配線接続器具用金属材。 - 特許庁
  • The coating layer has a surface roughness, expressed as an arithmetic average roughness height (Ra), of 1/20-1/65 against the thickness of the fired product.
    コート層を、算術平均粗さ（Ｒａ）で、被焼成体の厚さに対し、１／２０〜１／６５の表面粗さとする。 - 特許庁
  • The wiring body has the plated composition layer, and the arithmetic average roughness Ra of the surface roughness thereof is in the range of 0.1-0.5 μm.
    本発明の配線体は、メッキ組成層を有し、表面粗さの算術平均粗さRaが0.1〜0.5μmの範囲内にある。 - 特許庁
  • The surface roughness of the twenty third area is 0.05-2.0 μm when seen by center line average roughness Ra, and 0.1-5.0 μm when seen in ten-point average height Rz.
    第２３領域の表面粗さは、中心線平均粗さＲａでみたとき、０．０５〜２．０μｍであり、１０点平均高さＲｚでみたとき、０．１〜５．０μｍである。 - 特許庁
  • The water-soluble protective film has arithmetic average roughness Ra of 0.05-30 μm.
    前記水溶性保護膜の算術平均粗さＲａは、０．０５〜３０μｍである。 - 特許庁
  • (2) A ten point average roughness Rz is 0.4-1.6 μm by the barrel polishing.
    （イ）前記バレル研磨により１０点平均粗さＲｚが０．４〜１．６μｍである。 - 特許庁
  • Further, average surface roughness Ra of the placing surface 2a is 0.001 μm or less.
    さらに、載置面２ａの平均表面粗さＲａは０．００１μｍ以下とする。 - 特許庁
  • Wherein, the Ra and the Sm are a mathematical average roughness Ra (μm) and an average interval Sm (mm) between the projection and the recession, regulated in JIS B0601, respectively.
    但し、RaおよびSmはそれぞれJISB0601に定める算術平均粗さ Ra(μm)および凹凸の平均間隔Sm(mm)である。 - 特許庁
  • The face roughness of the inside face 31b is made 1.6 μm at most in the average roughness of the central line and the maximum height is made 6.3 μm at most.
    また、内側面３１ｂの面粗さを中心線平均粗さで１．６μｍ以下、最大高さで６．３μｍ以下とした。 - 特許庁
  • The guide roller has characteristically an average surface roughness of ≤0.2 μm and/or the maximum surface roughness of ≥0.8 μm.
    該ガイドローラーは、平均表面粗さが０．２μｍ以下及び／又は最大表面粗さが０．８μｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁
  • The surface roughness (center line average roughness Ra) is 0.01-0.50 μm on the tape face 1a on the side unevenly distributed with the inorganic filler 2.
    無機フィラー２が偏在している側のテープ面１ａの表面粗度（中心線平均粗さＲａ）は0.01〜0.50μｍである。 - 特許庁
  • The fine unevenness preferably has an arithmetical average roughness Ra of 0.5 to 15 μm, an average distance Sm of 0.5 to 10 μm, and an average inclination θa of ≥45° and <90°.
    前記微細な凹凸は、その算術平均粗さRaが 0.5〜15μｍ、平均間隔Smが 0.5〜10μｍ、平均傾斜θa が45°以上、90°未満とすることが好ましい。 - 特許庁
  • Temper rolling after the plating can be performed by using a roll having a surface roughness that the arithmetic average roughness: Ra is ≥0.7 μm, and the number of peaks per length of 25.4 mm in the average line direction of a roughness curve: (PPI) is ≥150.
    めっき後の調質圧延を、算術平均粗さ：Raが0.7 μｍ以上、粗さ曲線の平均線方向の長さ25.4mm当たりの山の数：PPI が150 以上の表面粗さを有するロールを用いて行ってもよい。 - 特許庁
  • (2) In the material (1), the outermost surface on the image recording layer side and/or its opposite side has 0.05-0.5 μm center line average roughness Ra, 1-7 μm ten-point average roughness Rz and 2-10 μm maximum roughness Rt.
    上記 において、画像記録層側及び／又はその反対側の最表面の、中心線平均粗さＲａが０．０５〜０．５μｍ、十点平均粗さＲｚが１〜７μｍ、最大粗さＲｔが２〜１０μｍである。 - 特許庁
  • The sprayed deposit 3 has the following surface roughness: the average spacing S between local peaks is 50-150 μm; and the maximum valley depth of roughness Rv and the maximum peak height of roughness Rp are 20-70 μm, respectively.
    溶射膜３は、局部山頂の平均間隔Ｓが50〜150μmの範囲、最大谷深さＲvおよび最大山高さＲpがそれぞれ20〜70μmの範囲の表面粗さを有する。 - 特許庁
  • Expressing the roughness of the negative collector by a center average roughness Ra, the difference of the roughness between both sides thereof is preferably not more than 0.1 μm.
    上記負極集電体の表面粗さを中心線平均粗さＲａで表したときに、その両面の表面粗さの差が０．１μｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁
  • Further, the high pressure water is sprayed to impart a surface roughness of 1.8 to 3.5 μm by a center line average roughness Ra, and after that, the skinpass rolling is performed by using work rolls having a surface roughness of 0.3 to 6.0 μm by a center line average roughness Ra.
    また前記で高圧水を吹き付けて、めっき鋼板表面に中心線平均粗さＲａで１．８〜３．５μｍの表面粗さを付与し、しかる後に表面粗さが中心線平均粗さＲａで０．３〜６．０μｍのワークロールを用いて調質圧延する。 - 特許庁
  • Average surface roughness of the surface of the abrasive pad is in the range of 0.5μm to 10μm.
    研磨パッドの表面の平均表面粗さは、０．５μｍ〜１０μｍの範囲にある。 - 特許庁
  • The arithmetic average roughness of the metal oxide film is set being ≤10 nm.
    また、金属酸化物膜の表面の算術平均粗さＲａを１０ｎｍ以下とする。 - 特許庁
  • The opposition member has ten-point average roughness Rz ranging from 3 to 20 μm.
    該対向部材は１０点平均粗さＲｚが３〜２０μｍの範囲にあるものとする。 - 特許庁
  • As for the grinding marks imparted to the roll, the mark of ≥1 μm by ten point average roughness is employed.
    ロールに付与する研削痕は十点平均粗さで１μｍ以上のものを用いる。 - 特許庁
  • The centerline surface average roughness Ra of the surface of the layer 20 is 4 nm or smaller.
    また、上層２０の表面の中心線平均粗さＲａが４ｎｍ以下である。 - 特許庁
  • Preferably, the metallic surface has an average roughness SRa not larger than 0.4 μm in the center.
    金属表面の中心面平均粗さＳＲａが０．４μｍ以下であると好ましい。 - 特許庁
  • A 10-point average roughness Rz on the face of the paper feeding roller 1 is 20 μm or more.
    給紙ローラ１の表側の１０点平均粗さＲｚは、２０μｍ以上である。 - 特許庁
  • The ten point average roughness Rz of the first cover layer 19a falls into the range of 1.8 to 2.0 μm.
    １次被覆層１９ａの十点平均粗さＲｚが１．８〜２．０μｍとなる。 - 特許庁
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 18 19 次へ＞

例文データの著作権について

  • 特許庁
    Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.