「base layer」を含む例文一覧(19562)

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  • A collector contact layer 12, a collector layer 13, a base layer 14, an emitter layer 15, and an emitter contact layer 16 are sequentially laminated on a substrate 11 by epitaxial growth.
    基板11の上には、コレクタコンタクト層12、コレクタ層13、ベース層14、エミッタ層15及びエミッタコンタクト層16がエピタキシャル成長により順次積層されている。 - 特許庁
  • Further, the second layer 18, and the first layer 16 and the third layer 20 forming the metallic layer 14 together with the second layer 18 are made of the steel the same as that of the base metal 12.
    なお、この第2層18と、該第2層18とともに金属層14を形成する第1層16及び第3層20とは、母材12と同一の鋼材からなる。 - 特許庁
  • The laminate sheet (6) comprises a base layer made of a paper (2), an outer layer (1) made of a foamed resin layer and an inner layer (3) made of a polyolefin-based resin layer wherein an embossed pattern (5) is given to the laminate sheet.
    紙(2)を基材とし、外層(1)が発泡樹脂層、内層(3)がポリオレフィン系樹脂層から成る積層シート(6)であり、エンボス模様(5)が施されている。 - 特許庁
  • Since a link area Rlink positioned below the mat oxide film 11 in an outer base layer is formed from the inclined SiGe base layer 8 to the Si cap layer 9, the outer base resistance is reduced.
    外部ベース層のうち下敷き酸化膜11の下方に位置するリンク領域Rlinkが傾斜SiGeベース層8からSiキャップ層9に亘って形成されているので、外部ベース抵抗が低減する。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a thick film multilayer wiring board having enhanced connection reliability by eliminating cavities generated in a substrate interface at a connecting portion between a bonding pad layer consisting of a gold-base conductor and a silver-base or silver-platinum-base conductor layer which is superposed on the bonding pad layer for establishing an electrical connection.
    金系導体から成るボンディングパッドと銀系導体或いは銀白金系から成る導体配線との接続部分の下部にあたる基板との界面に、空洞が発生する。 - 特許庁
  • To provide a groove pattern formation method in a base layer which enables two groove patterns to be formed in the base layer in fitting state without generating retreat of a fitting part in the base layer or the like.
    下地層等において突合せ部の後退が生じること無く、下地層に突合せ状態で二つの溝パターンを形成することができる、下地層における溝パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • There are provided a ferromagnetic base layer having vertical coercive force of ≤39.5 kA/m and a laminate base layer including a weak magnetic base layer having saturated magnetization Ms of 50 emu/cc to 150 emu/cc.
    39.5kA/m以下の垂直保磁力を有する強磁性下地層、及び50emu/ccないし150emu/ccの飽和磁化Msを有する弱磁性下地層を含む積層下地層を設ける。 - 特許庁
  • A sheet for fixing a semiconductor wafer which comprises an ultraviolet-ray transmitting sheet as a base material and a pressure-sensitive adhesive layer laminated on the base material, wherein a chipping preventive layer is laminated between the base material and the pressure-sensitive adhesive layer.
    基材としての紫外線透過シートと、基材上に積層された粘着剤層を有する半導体ウエハ固定用シートにおいて、基材と粘着剤層の間にチッピング防止層を積層する。 - 特許庁
  • A connection part of a base electrode 8 to the base region (P impurity layer 4) is positioned between an end on a collector electrode 10 side of the base region (P impurity layer 4) and the emitter region (N+ impurity layer 5).
    ベース電極8とベース領域(P不純物層4)の接続部が、ベース領域(P不純物層4)のコレクタ電極10側の端部とエミッタ領域(N+不純物層5)との間に位置する。 - 特許庁
  • A base layer 13 made of a base material containing transition metal or an alloy of transition metal and a nitrided layer 14 obtained by nitriding a base material under a nitrogen atmosphere are provided, of which, the nitrided layer 14 has a cleavage 15.
    遷移金属又は遷移金属の合金を含む基材からなる基層13と、基材を窒素雰囲気下で窒化して得られた窒化層14とを備え、窒化層14は開裂15を有する。 - 特許庁
  • A base layer 4 is selectively formed on a substrate 1, and an AlGaAs emitter layer 5 with an opening part in a base electrode formation region is selectively formed on the base layer 4.
    基板1の上にはベース層4が選択的に形成されており、このベース層4の上にベース電極形成領域に開口部を有するAlGaAsエミッタ層5が選択的に形成されている。 - 特許庁
  • The protective film 10 includes a base layer 12, a pressure-sensitive adhesive layer 14 and a removable liner 16.
    保護フィルム10は、基材層12、粘着剤層14および剥離ライナー16を備える。 - 特許庁
  • The conductive carbon layer is located on at least one primary surface of the metal base material layer.
    当該導電性炭素層は、金属基材層の少なくとも一方の主表面に位置する。 - 特許庁
  • The transfer type image protective film comprises an image protective layer 3 laminated on a base film 1 via a non-transfer release layer 2.
    基材フィルム1上に非転写性剥離層2を介して画像保護層3を積層する。 - 特許庁
  • The waterproofing layer 12 is provided on a peripheral side surface of the base layer 11.
    下地層11の周側面にスラリーの浸透を防止し得る防水層12が設けられている。 - 特許庁
  • By interposing the joining layer, the surface layer and the base material can be adhered sufficiently.
    接合層を介在することで、表面層と基材とを十分に密着させることができる。 - 特許庁
  • Furthermore, a functional layer can be formed on a face opposite to the conductive layer of the transparent base-material film.
    また、透明基材フィルムの導電層とは反対の面に機能層を形成することができる。 - 特許庁
  • The removable layer 26 enables the base layer 10 to be peeled from the electronic device 18.
    除去性層26は、電子デバイス18からベース絶縁層10を剥離することが可能である。 - 特許庁
  • To provide a clear coat covering composition for a clear coat layer in a two layer (base coat/clear coat)-covered product.
    ベースコート/クリヤコート2層被覆物のクリヤコート層用のクリヤコート被覆組成物を提供する。 - 特許庁
  • The fiber back material has a laminated structure of a base fiber web layer 20 and an outer surface fiber web layer 21.
    繊維裏材は、ベース繊維ウエブ層20と外面繊維ウエブ層21との積層構造とする。 - 特許庁
  • A sub-collector layer 31, a base layer 33 and emitter layers 34, 35 are formed on a substrate 30.
    基板30上にサブコレクタ層31と、ベース層33と、エミッタ層34、35とを形成する。 - 特許庁
  • The first polysilicon layer 14a is provided on the base diffusion layer 12 and has the second conductivity type.
    第1ポリシリコン層14aは、ベース拡散層12上に設けられ、第2導電型である。 - 特許庁
  • A protective layer 1 is formed by using a polyethylene terephthalate film and a base resin layer 2 is stacked thereon.
    保護層1をポリエチレンテレフタレート膜を用いて形成し、これに基材樹脂層2を積層する。 - 特許庁
  • The refractive index of the prism layer 23 is lower than the refractive index of the base film 21 and the packed layer 24.
    プリズム層23の屈折率は、ベースフィルム21及び充填層24の屈折率よりも低い。 - 特許庁
  • The conductive layer is provided on at least one of the first surface and the second surface of the base layer.
    導電層は、基層の第一面および第二面のうち少なくとも一方に設けられる。 - 特許庁
  • COATING LAYER REMOVING AGENT, REGENERATING METHOD OF BASE MATERIAL AND MANUFACTURING METHOD OF ARTICLE HAVING COATING LAYER
    被覆層除去剤、基材の再生方法及び被覆層を有する物品の製造方法 - 特許庁
  • A ground layer having an orientation plane of (220) may be formed between the base material 1 and the plated layer 2.
    基材1とめっき層2との間に(220)の配向面を持つ下地層を形成してもよい。 - 特許庁
  • Additionally, it is possible to provide a resin layer as required between the base material 1 and the polishing layer 2.
    また、基材1と研磨層2の間には、必要に応じて樹脂層を設けることができる。 - 特許庁
  • The allocation of channels for a channel strip unit is realized by settings to a base layer and a fix layer.
    chストリップ部に対するchの割り当てをベースレイヤとフィックスレイヤへの設定で実現する。 - 特許庁
  • A photonic crystal structure layer 3 is formed at a junction portion between the semiconductor layer and base substrate 2.
    半導体層と基礎基板2との接合部にフォトニック結晶構造層3が形成されている。 - 特許庁
  • Covering layers 6a, 6b are formed on the base insulating layer 2 so as to cover the conductor layer 3.
    導体層3を覆うように、ベース絶縁層2上に被覆層6a,6bが形成される。 - 特許庁
  • A channel layer is formed onto the base layer and embedded collector region to make up a storage-type channel.
    ベース層及び埋込コレクタ領域上にチャネル層を形成し、蓄積型チャネルを構成する。 - 特許庁
  • A shield material 1 has a conductive layer 3 of metal or the like with a resin film as its base material layer 2.
    シールド材1は、樹脂フィルムを基材層2として、金属などの導電層3を有する。 - 特許庁
  • A low resistance p-type emitter layer 2 is formed on the rear of a high resistance n-type base layer 1.
    高抵抗のn型ベース層1の裏面に低抵抗のp型エミッタ層2が形成される。 - 特許庁
  • An anchor coat layer 3 is preferably provided between the base material 2 and the image receiving layer 4.
    基材2と受像層4との間には、アンカーコート層3が設けられていることが好ましい。 - 特許庁
  • The conductive carbon layer is positioned on at least one main surface of the metal base material layer.
    当該導電性炭素層は、金属基材層の少なくとも一方の主表面に位置する。 - 特許庁
  • A foaming temperature Tb of the base layer 32 is higher than a foaming temperature Tc of the cap layer 34.
    ベース層32の発泡温度Tbは、キャップ層34の発泡温度Tcよりも高い。 - 特許庁
  • A platinum group based metal plating layer 20 is provided on the surface of a base material 15, as a machining layer.
    母材15の上に、切削加工層として白金属系の金属メッキ層20を設ける。 - 特許庁
  • Bottom face 25 of the buried conductive layer 23 is located below the bottom face 27 of the base layer 15.
    埋込導電層23の底面25がベース層15の底面27より下に位置している。 - 特許庁
  • The belt 10 for wet paper transportation comprises a base body 30, a wet paper side layer 11 and a machine side layer 12.
    湿紙搬送用ベルト10は、基体30、湿紙側層11、及び機械側層12からなる。 - 特許庁
  • The image recording sheet has a glossy layer between the paper base material and the image receiving layer if desired.
    画像記録シートは、所望により、紙基材と画像受容層との間に、光沢層を有する。 - 特許庁
  • The pile-type improvement bodies 1 reach a base layer S11 over the unliquefied layer S12.
    杭式改良体1は、非液状化層S12を超えて基盤層S11に到達している。 - 特許庁
  • Then, the bottom surface of the p^+ contact layer 7 is located lower than the that of a p base layer 5.
    そして、p^+コンタクト層7の下面の位置を、pベース層5の下面の位置よりも低くする。 - 特許庁
  • The water swelling layer 14 is fixed through an intermediate bonding layer 19 onto the base material 12.
    水膨潤層14は中間接着層19により基材12上に固定されている。 - 特許庁
  • An adhesive layer 26 covering the liquid crystal layer 24 is provided on the rear face of the base material 22.
    基材22の裏面側には、液晶層24を覆うように接着剤層26が設けられる。 - 特許庁
  • The conductive polymer layer 6 is provided so as to cover the spring base material 2 and the conductor layer 5.
    導電性高分子層6は、ばね基材2や導体層5を覆うように設けられる。 - 特許庁
  • A laminated base plate, wherein a second layer 12 is formed on the surface of a first layer 11, is prepared.
    第1の層11の表面上に第2の層12が形成された積層基板を準備する。 - 特許庁
  • The magneto-optical recording medium 10 includes the reproduction layer 3 and the recording layer 5 formed on a base 1.
    光磁気記録媒体10は、基板1上に再生層3及び記録層5を備える。 - 特許庁
  • A gold-plated layer 26 is formed on a surface of a base plated layer 25 in a terminal contact part 13.
    端子接触部13においては下地メッキ層25の表面に金メッキ層26を形成した。 - 特許庁
  • In order to form the laminate, first the first outside layer is connected to a first side of the base layer.
    ラミネートを形成するために、第1外側層がベース層の第1側に先ず結合される。 - 特許庁
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