「beam deflection method」を含む例文一覧(81)
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梁のたわみ制御方法 - 特許庁 - ELECTROSTATIC BEAM DEFLECTION SCANNING DEVICE AND BEAM DEFLECTION SCANNING METHOD
静電式ビーム偏向走査装置及びビーム偏向走査方法 - 特許庁 - DEFLECTION METHOD FOR ELECTRON BEAM IRRADIATION DEVICE
電子線照射装置の偏向方法 - 特許庁 - CHARGED PARTICLE BEAM DEFLECTION DEVICE, CHARGED PARTICLE BEAM DEFLECTION METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
荷電粒子線偏向装置、荷電粒子線の偏向方法および荷電粒子線装置 - 特許庁 - ELECTRON BEAM APPARATUS, METHOD FOR MEASURING DISTORTION IN DEFLECTION POSITION OF ELECTRON BEAM, METHOD FOR CORRECTING DEFLECTION POSITION OF ELECTRON BEAM
電子線装置、電子ビームの偏向位置歪み測定方法、電子ビームの偏向位置補正方法 - 特許庁 - SEPTUM ELECTROMAGNET FOR BEAM DEFLECTION AND SEPARATION, ELECTROMAGNET FOR BEAM DEFLECTION AND SEPARATION, BEAM DEFLECTING METHOD
ビーム偏向分離用セプタム電磁石、ビーム偏向分離用電磁石、及びビーム偏向方法 - 特許庁 - BEAM DEFLECTION SCANNING METHOD, BEAM DEFLECTION SCANNING DEVICE AS WELL AS ION IMPLANTATION METHOD, AND ION IMPLANTER
ビーム偏向走査方法及びビーム偏向走査装置並びにイオン注入方法及びイオン注入装置 - 特許庁 - DEFLECTION AUTOMATIC MONITORING METHOD OF BRIDGE BEAM IN SERVICE
供用中橋梁のたわみ自動モニタリング方法 - 特許庁 - ELECTRON BEAM EXPOSURE DEVICE AND DEFLECTION AMOUNT CORRECTING METHOD
電子ビーム露光装置及び偏向量補正方法 - 特許庁 - ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, ELECTRON BEAM DEFLECTION CORRECTING METHOD, AND STANDARD SUBSTRATE
電子ビーム露光装置、電子ビーム偏向校正方法、及び基準基板 - 特許庁 - DEFLECTION AMPLIFIER EVALUATION METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY METHOD
偏向アンプの評価方法および荷電粒子ビーム描画方法 - 特許庁 - METHOD FOR CONTROLLING DEFLECTION OF LASER BEAM AND OPTICAL SHAPING APPARATUS
光ビームの偏向制御方法及び光造形装置 - 特許庁 - METHOD FOR CONTROLLING DEFLECTION OF LASER BEAM IN OPTICAL SHAPING SYSTEM
光造形システムにおけるレーザビームの偏向制御方法 - 特許庁 - ION IMPLANTATION APPARATUS AND DEFLECTION ANGLE CORRECTING METHOD OF ION BEAM
イオン注入装置およびイオンビームの偏差角補正方法 - 特許庁 - ELECTRON BEAM EXPOSURE DEVICE, AND ITS DEFLECTION EFFICIENCY ADJUSTING METHOD
電子ビーム露光装置及びその偏向効率調整方法 - 特許庁 - ELECTROSTATIC DEFLECTION CONTROL CIRCUIT OF ELECTRON BEAM MEASURING DEVICE AND METHOD OF CONTROLLING ELECTROSTATIC DEFLECTION
電子線計測装置の静電偏向制御回路および静電偏向制御方法 - 特許庁 - DEFLECTION AMPLIFIER ESTIMATING METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING DEVICE
偏向アンプの評価方法および荷電粒子ビーム描画装置 - 特許庁 - METHOD OF MEASURING INCIDENT ANGLE OF CHARGED PARTICLE BEAM AND DEFLECTION CONTROLLING METHOD
荷電粒子線の入射角度測定方法および偏向制御方法 - 特許庁 - BEAM DEFLECTION PLATE, SWITCHING SYSTEM HAVING THE BEAM DEFLECTION PLATE, AND METHOD OF SELECTIVELY COUPLING TERMINAL WITH RESPECT TO LIGHT SIGNAL
ビーム偏向板、ビーム偏向板を備えるスイッチング・システム、および光信号について選択的に端子を結合する方法 - 特許庁 - ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS, DEFLECTION AMPLIFIER, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY PROGRAM
電子ビーム描画装置、偏向アンプ、電子ビーム描画方法、半導体装置の製造方法、及び電子ビーム描画プログラム - 特許庁 - TOROIDAL DEFLECTION SYSTEM, ITS MANUFACTURING METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM
トロイダル偏向器、その製造方法、及び荷電粒子線露光装置 - 特許庁 - METHOD FOR CORRECTING DEFLECTION OF ROOF SLAB AND STRING BEAM USED THEREFOR
屋根版のたわみ矯正方法およびそれに用いる張弦梁 - 特許庁 - METHOD OF ADJUSTING DEFLECTION TRACK OF CHARGED PARTICLE BEAM OF EXPOSURE DEVICE
荷電粒子線露光装置における偏向軌道の調整方法 - 特許庁 - METHOD FOR ACQUIRING OFFSET DEFLECTION AMOUNT FOR SHAPED BEAM AND PLOTTING DEVICE
成形ビームのオフセット偏向量取得方法及び描画装置 - 特許庁 - MULTI-BEAM LASER SCANNING UNIT AND LASER-BEAM DEFLECTION COMPENSATING METHOD OF MULTI-BEAM LASER SCANNING UNIT AND PICTURE FORMING DEVICE
マルチビーム光走査装置及びマルチビーム光走査装置のビーム位置補正方法並びに画像形成装置 - 特許庁 - INFORMATION RECORDING METHOD BY BEAM WITH FINE RECIPROCATIVE VIBRATION DEFLECTION ADDED
微小往復振動偏向を加えたビームによる情報記録方法 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING DEFLECTION OF LASER BEAM IN STEREO LITHOGRAPHY SYSTEM
光造形システムにおけるレーザビームの偏向制御方法及びその装置 - 特許庁 - ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE, METHOD FOR CALCULATING ASYNCHRONOUS ROTATION DEFLECTION, AND PATTERN DRAWING METHOD
電子線描画装置、非同期回転振れ量算出方法、及びパターン描画方法 - 特許庁 - METHOD OF DETERMINING MAIN DEFLECTION SETTLING TIME OF CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING, CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD, AND CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING DEVICE
荷電粒子ビーム描画の主偏向セトリング時間の決定方法、荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 - 特許庁 - To provide a septum electromagnet for beam deflection and separation of completely new composition and an electromagnet for beam deflection and separation, and further to provide a beam deflecting method using them.
全く新規な構成のビーム偏向分離用セプタム電磁石及びビーム偏向分離用電磁石を提供するとともに、これらを用いたビーム偏向方法を提供する。 - 特許庁 - OPTICAL PROFILER FOR ULTRA-SMOOTH SURFACE BASED ON RIGHT-ANGLED INCIDENT BEAM DEFLECTION METHOD
直角入射ビーム偏向方法による超平滑面のためのオプティカルプロファイラ - 特許庁 - To provide a laser beam machining method which can suppress deflection of a workpiece.
加工対象物の反りを抑制することができるレーザ加工方法を提供する - 特許庁 - To provide a system and a method for controlling the deflection amplitude and offset of a laser beam deflected by a resonance mirror galvanometer to which only beam deflection timing information is provided.
ビーム偏向タイミング情報のみを与えられて、共振ミラーガルバノメータによって偏向されたレーザ・ビームの偏向振幅とオフセットを制御するシステムと方法。 - 特許庁 - To provide an adjusting method which is capable of setting the point and angle of incidence of a deflection beam on a wafer at designed values and making the deflection beam pass through the center of a contrast aperture.
偏光ビームがコントラストアパーチャの中心を通り、ウエハ面上の入射位置、入射角も設計値に合わせるような調整方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an electron beam exposure apparatus and electron beam exposure method which can correct a deflection strain of sub-deflectors.
副偏向器の偏向歪みを補正しうる電子線露光装置及び電子線露光方法を提供する。 - 特許庁 - MAGNETIC/ELECTROSTATIC HYBRID DEFLECTOR FOR ION IMPLANTATION SYSTEM, AND DEFLECTION METHOD OF ION BEAM
イオン注入システムのための磁気／静電式ハイブリッド偏向器およびイオンビームの偏向方法 - 特許庁 - To provide a controlling method for a liquid crystal beam deflector with high accuracy by which distortion in the wavefront of a transmitting beam in a liquid crystal beam deflector can be decreased and high efficient beam deflection can be achieved at a desired deflection angle.
波晶光ビーム偏向器の透過光線の波面歪みを低減し、任意の偏向角度に対して高効率のビーム偏向を可能にする液晶光ビーム偏向器の高精度制御方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a deflection amplifier estimating method that can quickly determine the presence or absence of a failure of a deflection amplifier, and a charged beam drawing device having the functions of the same method.
迅速に偏向アンプの故障の有無を判断できる偏向アンプの評価方法と、この機能を備えた荷電粒子ビーム描画装置とを提供する。 - 特許庁 - To compensate laser-beam deflection with a simple method, to simplify a method for controlling laser-beam emission timing etc. and to facilitate assembly work.
簡易な方法でビーム位置を補正できるようにし，レーザビームの出射タイミングなどの制御方法を簡素化し，また組立作業も容易にする。 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF STOCK TUBE RIGID IN DEFLECTION AND WEAK IN TORSION AS CROSS BEAM FOR PIVOT BEAM REAR AXLE OF PASSENGER CAR
乗用車のピボットビームリヤアクスルのためのクロスビームとして撓み剛性を有しねじりに弱い管成形材を製造する方法 - 特許庁 - The deflection method of ion beam includes a step in which one or a plurality of characteristics of beam are identified and a step in which, based on the identification, either of the magnetic deflection module or the electrostatic deflection module are operated selectively.
また、本発明に係るイオンビームの偏向方法は、ビームに関する１つまたは複数の特性を判別するステップと、この判別に基づいて、磁気偏向モジュールと静電偏向モジュールの１つを選択的に動作させるステップを含む。 - 特許庁 - To provide a highly accurate method of controlling electron beam exposure where optical aberration or an electron beam shape dimensional error due to deflection is corrected, and its electron beam exposure apparatus.
偏向による光学収差ぼけや電子ビーム形状寸法誤差を補正した高精度の電子ビーム露光制御方法とその電子ビーム露光装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide an electron beam lithography apparatus which can compensate the drawing position with high accuracy, a deflection amplifier, an electron beam lithography method, a method for manufacturing a semiconductor device, and an electron beam lithography program.
高精度な描画位置補正を行なうことのできる電子ビーム描画装置、偏向アンプ、電子ビーム描画方法、半導体装置の製造方法、及び電子ビーム描画プログラムを提供すること。 - 特許庁 - To provide an ion implanter and its control method wherein reduction of real beam current in the beam deflection part is analyzed, and a dose control method is adopted from the result.
ビーム偏向部における実ビーム電流の減少を解析し、結果からドーズ制御方法を採用したイオン注入装置及びその制御方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an electrostatic deflection control circuit of an electron beam measuring device, as well as an electrostatic deflection control method, in which high precision in measuring an electron beam can be attained and structural simplification of a device is obtained.
電子線計測の高精度化を図ることができるとともに、装置の構成の簡易化に寄与することができる電子線計測装置の静電偏向制御回路および静電偏向制御方法を提供する。 - 特許庁 - To achieve change of a beam pitch performed using a liquid crystal deflection element with an easy driving method and constitution.
液晶偏向素子を用いて行うビームピッチの切り替えを、より単純な駆動方法および構成によって実現する。 - 特許庁 - To provide a hybrid deflector for reducing energy contamination in ion implantation, and to provide a deflection method of ion beam.
イオン注入におけるエネルギーコンタミネーションを低減するハイブリッド偏向器およびイオンビームの偏向方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an ion beam measurement method which measures at least one of angle deflection in the y direction perpendicular to the scanning direction of an ion beam, a divergent angle, and beam size.
イオンビームの走査方向と垂直なｙ方向の角度偏差、発散角およびビームサイズの内の少なくとも一つを簡単な構成によって計測することができるイオンビーム計測方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an electron beam correcting method which precisely corrects deflection distortion of a deflector which corrects an electron beam to be applied on a desired area of a wafer.
ウェハにおける所望の領域に電子ビームを照射させるべく電子ビームを偏向する偏向器の偏向歪みを精度良く補正する電子ビーム補正方法を提供する。 - 特許庁 - NEW OPTICAL MICROSCOPE, METHOD FOR OBSERVING CELL AND/OR LIVING TISSUE BY USING DETECTION OF BEAM DEFLECTION, AND ITS USE
新規光学顕微鏡、および、ビーム偏向の検出を利用した細胞および／あるいは生体組織観察方法、並びに、その利用 - 特許庁
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