「beam reflection」を含む例文一覧(1300)
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レーザビーム反射装置 - 特許庁 - BEAM IRRADIATION APPARATUS AND BEAM REFLECTION APPARATUS
ビーム照射装置およびビーム反射装置 - 特許庁 - REFLECTION TYPE LIGHT BEAM SCANNER
反射型光ビーム走査装置 - 特許庁 - MULTI-BEAM REFLECTION MIRROR ANTENNA DEVICE
マルチビーム反射鏡アンテナ装置 - 特許庁 - LASER BEAM MACHINING APPARATUS AND REFLECTION MIRROR
レーザ加工装置および反射ミラー - 特許庁 - BEAM SEPARATOR AND REFLECTION ELECTRON MICROSCOPE
ビームセパレータ及び反射電子顕微鏡 - 特許庁 - BEAM SEPARATOR AND REFLECTION ELECTRON MICROSCOPE
ビームセパレータおよび反射電子顕微鏡 - 特許庁 - OSCILLATION REFLECTION MIRROR MD LASER BEAM MACHINE
揺動反射ミラー及びレーザー加工機 - 特許庁 - BEAM IRRADIATION/REFLECTION DEVICE
ビーム照射装置およびビーム反射装置 - 特許庁 - LASER BEAM WELDING METHOD OF HIGH-REFLECTION MEMBER
高反射部材のレーザ溶接方法 - 特許庁 - EUV BEAM EXPOSURE REFLECTION TYPE MASK AND EUV BEAM EXPOSURE REFLECTION TYPE MASK BLANK
ＥＵＶ光露光用反射型マスクおよびＥＵＶ光露光用反射型マスクブランク - 特許庁 - INVISIBLE LIGHT BEAM REFLECTION PATTERN PRINTED TRANSPARENT SHEET
非可視光線反射パターン印刷透明シート - 特許庁 - POLARIZATION BEAM SPLITTER AND REFLECTION TYPE LIQUID CRYSTAL PROJECTOR
偏光ビームスプリッタ及び反射型液晶プロジェクタ - 特許庁 - LASER BEAM MACHINING METHOD, LASER BEAM MACHINING DEVICE, STRUCTURAL BODY, AND REFLECTION TYPE OPTICAL ELEMENT
レーザ加工方法、レーザ加工装置、構造体および反射型光学素子 - 特許庁 - Then, the design support device calculates secondary reflection light beam Ref_2, primary reflection light beam Ref_1, and an incident light beam Lin as double reflection light beam data for every view point E and check point.
そして、各視点Ｅおよび各チェック点Ｃごとに、二次反射光線Ｒｅｆ_２、一次反射光線Ｒｅｆ_１、入射光線Ｌｉｎを二重反射光線データとして算出する。 - 特許庁 - HIGH-SPEED LASER SCANNING MODULE HAVING REFLECTION BEAM ROUTE
反射ビーム経路を有する高速レーザー走査モジュール - 特許庁 - The first beam splitter 21 branches a carbon dioxide gas laser beam to emit a first transmission beam and a first reflection beam.
第１のビームスプリッタ２１は炭酸ガスレーザビームを分岐して第１の透過光及び第１の反射光を出射する。 - 特許庁 - The specular reflection component results from reflection of the light beam from the medium.
鏡面反射成分は光ビームが媒体から反射される結果として生じる。 - 特許庁 - REFLECTION MIRROR, LIGHT GUIDE OPTICAL SYSTEM, LASER BEAM MACHINE, AND MANUFACTURING METHOD OF REFLECTION MIRROR
反射ミラー、導光光学系システム、レーザー加工機、および反射ミラーの製造方法 - 特許庁 - CONTROLLER FOR DRIVING SHAFT OF REFLECTION MIRROR IN LASER BEAM MACHINE
レーザ加工機における反射鏡の駆動軸制御装置 - 特許庁 - A deflector 20 includes a plurality of reflection faces, and deflects the beam BK and the beam BY by using respectively different reflection faces.
偏向器２０は、複数の反射面を有し、かつ、ビームＢＫ及びビームＢＹを異なる該反射面を用いて偏向する。 - 特許庁 - When the optical axis of the laser beam is deviated, the laser beam is interfered with the reflection plate 6, and reflected thereby.
レーザビームの光軸がずれると、レーザビームが反射板６と干渉して反射する。 - 特許庁 - A reflection mirror is arranged at hollow part of the beam section in the path of the laser beam.
レーザビームの経路のうちビーム断面の中空部に反射鏡が配置されている。 - 特許庁 - Also, a total reflection mirror 24 is freely positioned at a reflecting position where a laser beam 2q to be reflected becomes coaxial with a reflection beam 2b that is reflected by a total reflection mirror 34 and made incident to a total reflection mirror 25, and at a retreating position where the total reflection mirror 24 does not interfere with reflection beam 2b.
また、全反射ミラー２４は、反射されるレーザビーム２ｑの光軸が全反射ミラー３４で反射されて全反射ミラー２５に入射する反射ビーム２ｂと同軸になる反射位置と、反射ビーム２ｂに干渉しない待避位置に位置決め自在である。 - 特許庁 - An optical beam Li1 which is made incident on the first tilt flat reflection mirror 11 is reflected on the reflection mirror and made incident to the opposing flat reflection mirror 20, and the optical beam reflected on the opposing flat reflection mirror is made incident on the second tilt flat reflection mirror 12.
第１の傾動平面反射鏡１１に入射した光Ｌｉ１は、そこで反射後、対向平面反射鏡２０に入射し、そこでの反射光が第２の傾動平面反射鏡１２に入射する。 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR MANIPULATING LASER BEAM IN REFLECTION
反射においてレーザビームを操作するための装置および方法 - 特許庁 - To fix a reflection type light valve to a polarization beam splitter.
偏光ビームスプリッタに対して反射型ライトバルブを固着する。 - 特許庁 - A beam reflection in assembling the color picture tube is reduced.
カラー受像管に組み込んだ際のビーム反射を減少できる。 - 特許庁 - To equalize energy intensity of transmission beams transmitting through second, third beam splitters when a laser beam is branched using a first beam splitter, and a reflection beam and a transmission beam are obtained, and these reflection beam and the transmission beam are branched using the second, third beam splitters.
第１のビームスプリッタを用いてレーザビームを分岐して反射光及び透過光を得て、これら反射光及び透過光について再び第２及び第３のビームスプリッタを用いて分岐を行った際、第２及び第３のビームスプリッタを透過した透過光のエネルギー強度を同一にする。 - 特許庁 - The first reflection member includes a beam splitter, and the second reflection member is disposed behind the first reflection member.
第１反射部材はビームスプリッターにより構成され、第２反射部材は第１反射部材よりも後方に配置されている。 - 特許庁 - A linear beam of light from the point-like light source can spread up to a planar beam of light by means of double-reflection using the reflection side surface and main reflection plane, thereby ejecting the effective planar beam of light.
点状光源からの直線光線を反射側面と反射主面の二回の反射で面状光線までに広げることができ、有効な面状光線を射出することができる。 - 特許庁 - The illumination beam path (6) is separately reflected by each reflection filter at the same reflection angle α, and the illumination beam path (6) coaxially extends before and behind the reflection filter system (9).
この反射フィルタで照明ビーム路（６）がそれぞれ同じ反射角αで反射され、反射フィルタシステム（９）の前方と後方とで照明ビーム路（６）は同軸に延在する。 - 特許庁 - Reflection mirrors 15 and 17 are located at the hollow part of the beam cross section of the laser beam for machining.
反射鏡１５，１７が、加工用レーザビームのビーム断面の中空部に配置されている。 - 特許庁 - The polarization of the incidence beam and the reflection beam becomes a right angle by the 1/4 wavelength plate 70.
入射ビームと反射ビームの偏光は、１／４波長プレート７０により直角となる。 - 特許庁 - To both end parts of the scanning region of the laser beam LB, beam detection sensors 23L1, 23L2 and a beam reflection mirror 24 which reflects the laser beam LB onto the beam detection sensors, are provided.
レーザビームＬＢの走査範囲の両端部に、ビーム検知センサ２３Ｌ１、２３Ｌ２と、ビーム検知センサにレーザビームＬＢを反射するビーム反射ミラー２４を備えている。 - 特許庁 - POLARIZED BEAM SPLITTER AND REFLECTION TYPE LIQUID CRYSTAL PROJECTOR USING THE SAME
偏光ビームスプリッタ及びそれを用いた反射型液晶プロジェクタ - 特許庁 - The reflection body changes the direction of the beam to a mark to be read.
反射体は、読取るべき印に向けて、ビームの方向を変える。 - 特許庁 - Thus, the laser beam is totally reflected on the total reflection surface 271b.
これにより、全反射面２７１ｂでレーザ光が全反射する。 - 特許庁 - Thus, the laser beam is totally reflected on the total reflection surface 271a.
これにより、全反射面２７１ａでレーザ光が全反射する。 - 特許庁 - an instrument that determines the height of a cloud formation by beam reflection, called ceilometer
雲高測定機という,ビーム反射光で雲高を測る計器 - EDR日英対訳辞書 - A design support device is provided with the calculation function of double reflection light beam data showing a light beam path on which double reflection is generated.
設計支援装置は、二重反射を生じさせる光線経路を示す二重反射光線データの算出機能を備えている。 - 特許庁 - To provide a new anti-reflection optical element suitable as an anti-reflection optical element in laser beam machining.
レーザ加工における反射防止光学素子として適した新規な反射防止光学素子を実現する。 - 特許庁 - When the valid reflection width rate of a reflection face 902a in a rotary polygonal mirror is low with respect to an incident beam B1, the reflection face 902a reflects the part of the beam where the light intensity distribution of the incident beam B1 is high and obtains an emitting beam B2 (when the reflection face 902a exists in a position SS).
入射ビームＢ_1 に対し、回転多面鏡の反射面９０２ａの有効反射幅率が低い時には、上記反射面９０２ａは入射ビームＢ_1 の光強度分布の高い部分を反射して出射ビームＢ_2 を得る（反射面９０２ａが位置Ｓ_s に有る場合）。 - 特許庁 - To provide a beam separator and a reflection electron microscope that can direct either the primary beam and the secondary beam straight, and bend the other beam by 90°.
一次ビームと二次ビームの一方のビームを直進させ、他方のビームを９０°曲げることができるビームセパレータおよび反射電子顕微鏡を実現する。 - 特許庁 - MEASURING APPARATUS FOR REFLECTION INTENSITY USING SPLIT BEAM, AND AZIMUTH MEASURING APPARATUS
スプリットビームを用いた反射強度測定装置および方位測定装置 - 特許庁 - To provide a charged particle beam device equipped with a reflection electron detector.
反射電子検出器を備えた荷電粒子ビーム装置を提供する。 - 特許庁 - The reflective surface of a reflection mirror 16 is arranged in a hollow part of a beam cross section of the laser beam for processing.
反射鏡１６の反射面が、加工用レーザビームのビーム断面の中空部に配置されている。 - 特許庁 - When the valid reflection width rate of the reflection face 902a in the rotary polygonal mirror is high, the reflection face 902a reflects the part of the beam where the light intensity distribution of the incident beam B1 is low and obtains the emitting beam B2 (when the reflection face 902a exists in a position SE).
逆に、回転多面鏡の反射面９０２ａの有効反射幅率が高い時には、上記反射面９０２ａは入射ビームＢ_1 の光強度分布の低い部分を反射して出射ビームＢ_2 を得る（反射面９０２ａが位置Ｓ_E に有る場合）。 - 特許庁 - To protect optical parts from being damaged by reflection beam by securely detecting reflection beam attributed to such a laser processing defect as cutting failure even if laser beam processing is performed by pulse output.
パルス出力のレーザ加工であっても、切断不良などのレーザ加工不良による反射光を確実に検出し、光学部品を反射光による損傷から保護する。 - 特許庁 - The excimer beam is reflected on the reflection surface 23R of the reflection mirror 23 to go along the electron beam passage to be radiated to an excimer beam radiation range 31 including an electron beam scan range 30 on the sample 3.
エキシマ光は反射ミラー２３の反射面２３Ｒで反射され、電子ビーム通路に沿って進み、試料３上の電子ビーム走査領域３０を含むエキシマ光照射領域３１に照射されるようにする。 - 特許庁
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