「beamlets」を含む例文一覧(16)
- The multi-beam laser apparatus easily produces a plurality of beamlets and adjusts paths of the beamlets obtained by a prism to enhance quality and uniformity in machining.
これにより、容易に複数のビームを得ると共に、得られた複数のビームの経路をプリズムを用いて調整することで加工品質と均一性を向上させることができる。 - 特許庁 - A pattern defining means 20 is made up of a blanking means that defines a multitude of beamlets included in the respective particle beams to configure the form of the projection on the target 41 in a desired pattern, by permitting the beamlets to pass through exclusively a plurality of apertures that serve to define the forms of the beamlets transmitted therethrough, and further switches off the passage of selected beamlets from the respective paths.
パターン規定手段２０が、それぞれの粒子ビーム内にある多数のビームレットを規定し、アパーチャを透過するビームレットの形状を規定する複数のアパーチャのみの通過を許容することによってターゲット４１上に投射される形状を所望のパターンとし、さらにそれぞれの経路から選択されたビームレットの通過をスイッチオフさせるブランキング手段からなる。 - 特許庁 - To provide a multi-beam source generating a set of particle beamlets having low emittance and a uniform current distribution.
低エミッタンスおよび均質な電流分布を持つ１組の粒子ビームレットを生成するマルチビーム源を提供する。 - 特許庁 - The multi-beam laser apparatus includes: a laser beam source generating a beam; an incident lens 51 disposed on a path of the beam; a beam splitter splitting the beam incident on the incident lens 51 into a plurality of beamlets; and a beam path adjustor disposed on each of paths of the split beamlets to change the respective paths of the split beamlets.
ビームを出射するレーザー光源と、上記ビームの経路上に配置された入射側レンズと、上記入射側レンズを経たビームを複数のビームに分割するビーム分割部と、上記複数の分割されたビームの経路上に配置され上記複数の分割されたビームの夫々の経路を変更するビーム経路調整部を含む多重ビームレーザー装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a laser process system for performing processing to a workpiece using multiple independently deflectable laser beamlets.
複数の独立偏向可能なレーザービームレットを用いて加工品に対して加工を行うためのレーザー加工システムを提供する。 - 特許庁 - An aperture array means (202) includes at least two sets of apertures (221, 222) to determine respective beamlets (b1-b5).
開口アレイ手段（２０２）は、それぞれのビームレット（ｂ１−ｂ５）を定めるための少なくとも２つのセットの開口（２２１、２２２）を含む。 - 特許庁 - The particle optical device further includes particle optical elements in order to operate the charged particle beam and/or the plurality of the beamlets.
前記粒子光学装置は、前記荷電粒子ビーム及び／又は前記複数の小ビームを操作するための粒子光学素子をさらに備える。 - 特許庁 - To provide an electron beam lithographic method containing a plurality of beamlets which improves dose the accuracy, in an adjacent stripe boundary region where exposure is done in an overlapping manner.
重なり露光される隣接したストライプの境界領域で照射量精度を向上する、複数ビームレットを含む電子ビームリソグラフィ方法を提供する。 - 特許庁 - The porous plate has a plurality of openings formed in a first prescribed array pattern, a plurality of charged particle beamlets are formed from a charged particle beam in the downstream, and by the plurality of the beamlets, a plurality of beamlet spots arranged in a second prescribed array pattern are formed on an image plane of the particle optical device.
前記多孔プレートは、所定の第１のアレイパターン状に形成された複数の開孔を有し、下流側で前記荷電粒子ビームから複数の荷電粒子小ビームが形成され、前記複数の小ビームにより、第２のアレイパターン状に配置された複数のビームスポットが前記粒子光学装置の像平面に形成される。 - 特許庁 - This invention relates to a dual function optical element capable of both diffracting laser light into beamlets and converging the beamlets (acting as a virtual lens for the laser light), thereby eliminating the need for a plurality of physical lenses to transfer the diffracted laser beams to a focusing lens.
本発明は、レーザ光をビームレットに回折することと、（レーザ光に関して仮想のレンズとして働いて）ビームレットを収束させることとの両方が可能であり、それによって回折されたレーザビームをフォーカスレンズに転送するための複数の物理的なレンズの必要をなくす二重の機能を有する光学素子に関連する。 - 特許庁 - This multi-beam source 101 for generating a plurality of beamlets 112 of energetic electrically charged particles comprises: an illumination system 102 generating an illuminating beam of charged particles; and a beam-forming system 103 being arranged behind the illumination system as seen in the direction of the beam, and adapted to form a plurality of telecentric or homocentric beamlets 112 out of the illuminating beam.
エネルギ荷電粒子の複数のビームレット（１１２）を発生するためのマルチビーム源（１０１）は、荷電粒子の照明ビームを発生する照明システム（１０２）と、ビームの方向に見て照明システムの後に配置され、かつ照明ビームから複数のテレセントリックまたは均質なビームレット（１１２）を形成するように適応されたビーム形成システム（１０３）とを含む。 - 特許庁 - A multi-beam pattern definition device 300 for use in a particle-beam processing or inspection apparatus is configured to irradiate a beam of electrically charged particles, allow passage of the beam through a plurality of apertures, and then form beamlets which are imaged onto a target.
粒子ビーム処理または検査装置用のマルチビームパターン定義装置３００は、荷電粒子ビームを発生し、複数のアパーチャを通過させた後に、ターゲット上に結像されるビームレットを形成する。 - 特許庁 - The electrical zone device comprises a composite electrode 110 being composed of a plurality of substantially planar partial electrodes adapted to have different electrostatic potentials applied thereto and thus influence the beamlets.
前記電気ゾーン装置は、異なる静電電位を印加されかつしたがってビームレットに影響を及ぼすように適応された複数の略平面状部分電極から構成される、複合電極（１１０）を含む。 - 特許庁 - An opening array means (201) has a plurality of openings (210), although configured, to allow a subset of beamlets corresponding to one of the sets of apertures to pass through, but it does not have an opening (to allow the beam to pass through), at a position corresponding to the other sets of apertures.
孔アレイ手段（２０１）は、開口のセットの１つに対応するビームレットの部分集合の通過のために構成される複数の孔（２１０）を有するが、他のセットの開口に対応する場所で孔（ビームを透過する）を欠いている。 - 特許庁 - The exposure device has: an aperture array with multiple apertures of a same shape which define shapes and relative arrangement of beamls passing through the apertures; and a blanking means for switching off the travel of beamlets that have passed through the apertures to be defined and selected by them.
アパーチャを透過するビームの形状および相対的配置を画定する同一の形状の複数のアパーチャを有するアパーチャアレイと、アパーチャを透過し、それらによって画定された選択されたビームレットの通過をスイッチオフするためのブランキング手段とを備える。 - 特許庁 - The device comprises at least one deflection means having a plurality of apertures surrounding beamlets, each aperture being equipped with at least two deflection electrodes which can apply different electrostatic potentials, so that the beamlet paths passing through respective apertures based on desired paths passing through the device (102) are corrected.
デバイスがビームレットを取り巻く複数の開口部を有する少なくとも一つの偏向手段からなり、各開口部が異なる静電電位を印加可能である少なくとも二つの偏向電極を備え、デバイス（１０２）を通る所望のパスに基づくそれぞれの開口部を通過するビームレットのパスが修正される。 - 特許庁
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