「binary glass」を含む例文一覧(7)
- The glass powder not containing PbO is preferably a binary glass of Bi_2O_3-B_2O_3.
ＰｂＯを含有しないガラス粉末はＢｉ_2Ｏ_3−Ｂ_2Ｏ_3の２元系ガラスであることが好ましい。 - 特許庁 - The glass powder containing PbO is preferably a binary glass of either PbO-SiO_2 or PbO-B_2O_3.
ＰｂＯを含有するガラス粉末はＰｂＯ−ＳｉＯ_2又はＰｂＯ−Ｂ_2Ｏ_3のいずれかの２元系ガラスであることが好ましい。 - 特許庁 - This dual photomask 10 is equipped with a reticle glass plate 12 where a phase shift mask(PSM) chrome area 14 and a binary (BIN) chrome area 16 are adjacently arranged.
デュアルフォトマスクは、レティクルガラス板上に位相シフトマスク（ＰＳＭ）クロム領域及びバイナリ（ＢＩＮ）クロム領域が隣接して配置されたレティクルガラス板を備える。 - 特許庁 - Part of the halftone defect 2 in the binary mask to which the FIB-CVD light shielding film 8 is made less attachable by implantation of gallium of focused ion beams 1 is shaved up to a glass substrate by gas assisted etching.
まず集束イオンビーム1のガリウムの注入によってFIB-CVD遮光膜8がつきにくくなったバイナリマスクのハーフトーン欠陥2の一部分をガス支援エッチングでガラス基板まで削り込む。 - 特許庁 - An inorganic carrier substance such as vanadium oxide or a titanium-silicon binary system double oxide and vanadium oxide are incorporated into a corrugated honeycomb structure body constituted by an inorganic fiber such as a glass fiber.
ガラス繊維などの無機繊維で構成してなるコルゲート状ハニカム構造体に酸化バナジウム、あるいはチタン−ケイ素二元系複合酸化物などの無機系担体物質と酸化バナジウムとを含有せしめる。 - 特許庁 - For etching a glass of Levenson mask, etching Cr in a black defect of a binary mask or etching MoSi in a black defect of a phase shift mask, only the defect region 7 is selectively scanned with the tilted electron beam 4 while blowing xenon fluoride from a gas gun 8 to correct the defect.
レベンソンマスクのガラスのエッチングや、バイナリマスクの黒欠陥のＣｒのエッチングや、位相シフトマスクの黒欠陥のＭｏＳｉのエッチングには、フッ化キセノンをガス銃８から流しながら前記の傾斜させた電子ビーム４で欠陥領域７のみ選択的に走査して欠陥の修正を行う。 - 特許庁 - The method for manufacturing binary porous silica is carried out by adding an aqueous solution of alkali metal silicate such as water glass to an aqueous solution comprising an alkyl sulfate such as sodium dodecylsulfate and an acid such as nitric acid to prepare a mixture solution having ≤1 pH, gelling the mixture solution, washing the gel with water, aging in a basic aqueous solution such as ammonia water, drying, and firing.
水ガラス等の珪酸アルカリ金属塩の水溶液を、ドデシル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸塩と硝酸等の酸からなる水溶液に添加してｐＨ１以下の混合溶液を調製し、該混合溶液をゲル化させた後に水洗し、次いで、アンモニア水等の塩基性水溶液中で熟成し、乾燥、焼成する二元細孔シリカの製造方法である。 - 特許庁
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