「cathodic process」を含む例文一覧(10)

  • WET PROCESS IN MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT USING ANODIC WATER CONTAINING OXIDATIVE MATERIAL AND/OR CATHODIC WATER CONTAINING REDUCING MATERIAL AND ANODIC WATER AND/OR CATHODIC WATER USED IN THIS PROCESS
    酸化性物質を含むアノード水及び／又は還元性物質を含むカソード水を用いる半導体素子製造の際の湿式方法及びこの方法に使われるアノード水及び／又はカソード水 - 特許庁
  • In the measuring method, cadmium, lead and copper are used in an anodic stripping process, chromium violet or nitronaphthol and cupferron are used as chelating agents in a cathodic stripping process, and iron, aluminum and chromium are measured.
    アノーディック・ストリッピング工程で亜鉛、カドミウム、鉛および銅を、カソーディック・ストリッピング工程でキレート剤としてクロムバイオレットまたはニトロソナフトール、およびクペロンを用いて鉄、アルミニウムおよびクロムを測定する上記測定方法。 - 特許庁
  • At least either the lower layer or the upper layer is formed by a filtered cathodic arc process, and the lower layer contains amorphous carbon and at least either hydrogen or fluorine as a main component.
    下層と上層の少なくともいずれか一方がフィルタードカソディックアーク法によって形成され、下層がアモルファスカーボンおよび、水素とフッ素の少なくともいずれか一方を主成分として含有する。 - 特許庁
  • A second process part 130 also has a multistage structure provided with the two or more stations and a cathodic treatment is carried out by reversing the polarity to be the copper plate 101 as the anode and the electrode 132 as the anode.
    第二工程部１３０も、２ステーション以上備えた多段構成となっているが、ここでは極性を反転させて銅板１０１を陰極、電極１３２を陽極とする陰極処理を行っている。 - 特許庁
  • In the fabricating method for the cold cathode device having a field emission cold cathode comprising a cathodic bus bar formed on a substrate and silicon electrically connected to the cathodic bus bar and a gate electrode arranged away from the electron emission cold cathode, a process is provided of adding an n-type impurity in an electron emitting area of the field emission cold cathode.
    基板に形成された陰極母線及び該陰極母線に電気的に接続されるシリコンからなる電界放出冷陰極を有すると共に、前記電界放出冷陰極から離間して配設されるゲート電極を有する冷陰極装置の作製方法において、前記電界放出冷陰極の電子放出領域にｎ型の不純物を添加する工程を備える。 - 特許庁
  • The method for combined anti-corrosion treatment of automobile parts includes carrying out a consecutive treatment of works by hanging the works in the same rack, the consecutive treatment including two treatments of a zinc-nickel alloy plating process (1) and a cathodic electrodeposition coating process (2).
    自動車部品の耐食処理方法であって、ワークを、亜鉛−ニッケル合金めっき処理工程（１）と、カチオン電着塗装処理工程（２）とのこれら２つの処理工程を、同一のラックに吊掛けを用いて連続処理することを特徴とする自動車部品の複合耐食処理方法から構成されるものである。 - 特許庁
  • To provide an electrolyte treatment method and a zinc electrolytic method in which electrolytic zinc can be obtained in a regular one step without damaging any aluminum plate which is a cathodic electrode by slightly improving an existing zinc electrolytic refining process even when zinc source containing fluorine is used.
    フッ素を含有した亜鉛源を用いても、既存の亜鉛電解製錬プロセスに僅かな改良を加えることで、カソード電極であるアルミニウム板を損傷することなく、通常の１工程での電気亜鉛の採取が可能な溶液処理方法及び亜鉛電解方法を提供する。 - 特許庁
  • The hydrogen separation method carried out by operating a process of preparing a hydrogen pump 1 apparatus provided with an electrolyte substrate 10 using a proton conductive ceramic as a base material, an anode chamber 13 provided in the anodic electrode 11 side of the electrolyte substrate 10 and a cathode chamber 14 provided in the cathodic electrode 12 side of the electrolyte substrate 10.
    本方法は、プロトン導電性セラミックスを基材とする電解質基板１０と、電解質基板１０のアノード電極１１側に設けられたアノード室１３と、電解質基板１０のカソード電極１２側に設けられたカソード室１４とをもつ水素ポンプ１装置を用意する工程を実行する。 - 特許庁
  • To provide a magnetic recording medium for hard disk of high durability and high corrosion-resistance even in an ultrathin film of 5 nm or less by improving the defect of large internal stress of a protective coat formed by a filtered cathodic arc process and poor durability easily exfoliated from a magnetic film, and a magnetic recording device equipped with the magnetic recording medium.
    フィルタードカソーディックアーク法により形成される保護膜の内部応力が大きく磁性膜から剥離しやすく耐久性の悪い欠点を改善し、５ｎｍ以下の極薄膜においても、高耐久性かつ高耐蝕性のハードディスク用磁気記録媒体およびこの磁気記録媒体を備えた磁気記録装置を提供する。 - 特許庁
  • A bipolar photo-electrochemical process is disclosed for electroless deposition (referred to as photo Bi-OCD) of a metallic compound onto the top surface of a semiconducting substrate whereby differential illumination of the front side of the substrate versus the back side of the substrate provides a driving force to separate the cathodic and anodic partial reactions leading to high yield deposition of the metallic compound.
    半導体基板の表面に金属化合物を無電解析出（光Ｂｉ−ＯＣＤとよばれる）させるバイポーラ光電気化学プロセスであって、基板の表側と基板の裏側の異なった照度が、カソード反応とアノード反応とを分離する駆動力を形成し、高歩留まりの金属化合物の析出が得られるプロセスが開示されている。 - 特許庁

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