「chromium plating」を含む例文一覧(247)
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クロムめっき皮膜 - 特許庁 - CHROMIUM PLATING ELECTRODE
クロムめっき用電極 - 特許庁 - TRIVALENT CHROMIUM PLATING BATH
３価クロムめっき浴 - 特許庁 - HARD CHROMIUM PLATING METHOD
硬質クロムめっき方法 - 特許庁 - CHROMIUM PLATING METHOD AND CHROMIUM PLATING APPARATUS
クロムめっき方法およびクロムめっき装置 - 特許庁 - BARREL APPARATUS FOR CHROMIUM PLATING
クロムめっき用バレル装置 - 特許庁 - CHROMIUM PLATING METHOD FOR STEEL SHEET
鋼板のクロムめっき方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING CHROMIUM PLATING FILM
クロムめっき被膜の形成方法 - 特許庁 - TRIVALENT CHROMIUM-PLATING LIQUID MANAGEMENT DEVICE
３価クロムめっき液管理装置 - 特許庁 - CONCENTRATION MEASURING APPARATUS FOR CHROMIUM PLATING SOLUTION
クロムめっき液の濃度測定装置 - 特許庁 - METHOD FOR SUPPLYING CHROMIUM ION TO TRIVALENT CHROMIUM PLATING BATH
３価クロムめっき浴へのクロムイオン補給方法 - 特許庁 - PRODUCTION METHOD FOR CHROMIUM PLATED PART AND CHROMIUM PLATING DEVICE
クロムめっき物の製造方法およびクロムめっき装置 - 特許庁 - CHROMIUM-PLATED PARTS AND CHROMIUM PLATING METHOD
クロムめっき部品およびクロムめっき方法 - 特許庁 - BLACK CHROMIUM PLATING LIQUID AND BLACK CHROMIUM PLATING METHOD USING THE SAME
黒色クロムめっき液及びそれを用いた黒色クロムめっき方法 - 特許庁 - BARREL PLATING DEVICE FOR ELECTROLYTIC CHROMIUM PLATING
電解クロムめっき用バレルめっき装置 - 特許庁 - TRIVALENT CHROMIUM PLATING METHOD BY BARREL PLATING
バレルめっきによる３価クロムめっき方法 - 特許庁 - A step of dipping a copper substrate in a chromium plating bath to form a chromium layer, and then washing chromium plating liquid deposited on the chromium layer is performed.
銅基板をクロムめっき浴に浸漬してクロム層を形成した後に、クロム層に付着したクロムめっき液を洗浄する工程を行う。 - 特許庁 - In addition, the dowels 2 are subjected to nickel plating, chromium plating, palladium plating or rhodium plating.
更に、ダボ２には、ニッケルメッキ、クロムメッキ、パラジュゥムメッキ又はロジウムメッキを施してある。 - 特許庁 - The hard chromium plating layer is thicker than the soft chromium plating layer.
硬質クロムめっき層の層厚さは、軟質クロムめっき層の層厚さよりも厚い。 - 特許庁 - ELECTROLYTE FOR LOCALLY REPAIRING CHROMIUM PLATING AND CHROMIUM PLATING REPAIRING METHOD USING THE ELECTROLYTE
クロムメッキ局部補修用電解液及びこれを用いたクロムメッキ補修方法 - 特許庁 - To realize long time driving of ternary chromium plating, and to obtain hard plating by ternary chromium.
３価クロムめっきの長時間運転を可能とし、３価クロムによる硬質めっきを得ることにある。 - 特許庁 - The porous chromium plating layer 2 can be obtd. by subjecting a hard chromium plating layer to reverse electrifying treatment.
ポーラスクロムめっき層２は、硬質クロムめっき層に逆電処理を行うことにより得る。 - 特許庁 - METHOD OF PREPARING CHROMIUM PLATING BATH AND METHOD OF FORMING PLATING FILM
クロムめっき浴の製造方法、及びめっき皮膜の形成方法 - 特許庁 - CHROMIUM PLATING HAVING MULTILAYER STRUCTURE AND ITS PRODUCTION
多層構造を持つクロムめっき及びその製造方法 - 特許庁 - BLACK PLATING SYSTEM FREE FROM HEXAVALENT CHROMIUM
黒色六価クロムフリー鍍金処理システム - 特許庁 - CHROMIUM PLATING ANODE AND ITS MANUFACTURE
クロムめっき用陽極及びその製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR PLATING TRIVALENT CHROMIUM ON NEEDLES AND NEEDLES
針類への３価クロムメッキ方法及び針類 - 特許庁 - To make local chromium plating possible by electroplating.
電気メッキでクロムの局部的メッキを可能とする。 - 特許庁 - TRIVALENT CHROMIUM PLATING BATH AND METHOD OF PREPARING THE SAME
３価クロムめっき浴及びその製造方法 - 特許庁 - BATCHWISE CHROMIUM PLATING METHOD AND EQUIPMENT
バッチ式クロムめっき方法および装置 - 特許庁 - METHOD OF CHROMIUM PLATING FOR FERROUS BASE METAL
鉄系下地金属へのクロムメッキ方法 - 特許庁 - CORROSION RESISTANT, WEAR RESISTANT CHROMIUM PLATING AND ITS PRODUCTION
耐食性・耐摩耗性クロムめっき及びその製造方法 - 特許庁 - METHOD OF PRODUCING BLACK CHROMIUM PLATING FILM
黒色クロムめっき膜の製造方法 - 特許庁 - EQUIPMENT AND METHOD FOR PARTIAL CHROMIUM PLATING
部分クロムめっき装置とその方法 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR REGENERATING CHROMIUM PLATING SOLUTION
クロムめっき液の再生方法及び装置 - 特許庁 - METHOD FOR MEASURING CONCENTRATION OF CHROMIUM PLATING SOLUTION
クロムめっき液の濃度測定方法 - 特許庁 - METHOD FOR PARTIALLY REPAIRING HARD CHROMIUM PLATING
硬質クロムめっき部分補修方法 - 特許庁 - TRIVALENT CHROMIUM-PLATED PRODUCT COATED WITH CORROSION-RESISTANT FILM, TRIVALENT CHROMIUM-PLATING CORROSION PROTECTIVE METHOD, AND TRIVALENT CHROMIUM PLATING CORROSION PROTECTIVE LIQUID
耐食性皮膜被覆３価クロムめっき品、３価クロムめっき防食方法及び３価クロムめっき防食液 - 特許庁 - In the chromium plating method, the semi-bright nickel plating and the bright nickel plating are successively executed by the barrel plating method, and then, the chromium plating is executed by the barrel plating method using a trivalent chromium plating bath containing trivalent chromium compounds.
バレルめっき法によって半光沢ニッケルめっき及び光沢ニッケルめっきを順次行った後、３価クロム化合物を含む３価クロムめっき浴を用いてバレルめっき法によってクロムめっきを行うことを特徴とするクロムめっき方法。 - 特許庁 - When performing trivalent chromium plating using a plating liquid comprising chromium chloride as the main component, a part of the plating liquid and a chromium hydroxide hydrogel are mixed, the mixed plating liquid is returned to a plating tank through a filter, and, while controlling the concentration of metal chromium ions in the plating liquid, plating is performed.
塩化クロムを主成分として含んで成るめっき液を用いて３価クロムめっきするにあたり、めっき液の一部と水酸化クロム含水ゲルを混合し、この混合めっき液をフィルターを通してめっき槽に戻し、めっき液中の金属クロムイオン濃度を制御しながらめっきする。 - 特許庁 - To provide a new plating method capable of forming chromium plating film having excellent appearance and excellent corrosion resistance when forming the chromium plating film by a barrel plating method using a trivalent chromium plating bath.
３価クロムめっき浴を用いてバレルめっき法によってクロムめっき皮膜を形成する際に、良好な外観を有し、且つ耐食性にも優れたクロムめっき皮膜を形成できる新規なめっき方法を提供する。 - 特許庁 - In the plating step, the chromium plating film 21 is formed on the surface of the base material 3 by chromium plating.
めっき工程においては、基材３の表面にクロムめっきを施して、クロムめっき膜２１を形成する。 - 特許庁 - Films made of copper, nickel, chromium or nickel chromium are desirably formed by plating.
銅、ニッケル、クロム、ニッケル−クロムの被膜はメッキにより形成するのが好ましい。 - 特許庁 - The electrolytic plating layer 212 also serves as a blackened layer, and can be made easily out of nickel, or chromium, or an alloy of nickel and chromium.
電解めっき層は、ニッケル、クロム、又はこれらの合金で容易に形成できる。 - 特許庁 - A method for manufacturing the chromium-plated product comprises a nickel-plating step S32, a rinsing step S33 after nickel plating, a chromium-plating step S34, a rinsing step S35 after chromium plating.
ニッケルめっき工程Ｓ３２、ニッケルめっき水洗工程Ｓ３３、クロムめっき工程Ｓ３４及びクロムめっき水洗工程Ｓ３５を備えたクロムメッキ製品の製造方法である。 - 特許庁 - The outermost circumferential chromium plating layer 3B is thicker than each chromium plating layer 3a or the like composing the laminated plating 3A, and the thickness of the outermost circumferential chromium plating layer 3B is within the range of 1 to 80 μm.
ここで、最外周クロムメッキ層３Ｂは、積層メッキ３Ａを構成する各クロムメッキ層３ａ等と比較して厚さが厚く、かつ、最外周クロムメッキ層３Ｂの厚さは１μｍ乃至８０μｍの範囲内である。 - 特許庁 - The thickness of the hard chromium plating layer is controlled to 2-50 μm and that of the soft chromium plating layer to 1-40 μm.
硬質クロムめっき層の厚さが２〜５０μｍ、軟質クロムめっき層の厚さが０．１〜４０μｍである。 - 特許庁 - The first chromium plating layer formed on the base material is a hard or soft chromium plating layer having 0.1-50 μm thickness.
被めっき母材の表面にめっきされた第１層目のクロムめっき層が、層厚さ０．１〜５０μｍを有する、硬質または軟質クロムめっき層である。 - 特許庁 - This chromium plating film formed on the surface of the base material to be plated is composed of laminated chromium plating layers 1.
被めっき母材表面に生成されるクロムめっき皮膜は、積層された複数のクロムめっき層１によって構成される。 - 特許庁 - To provide a trivalent chromium plating bath capable of being used for the plating of industrial products with chromium, which is excellent in usability.
目的は、使用性が良好で工業製品のクロムめっきにも使用可能な３価クロムめっき浴を提供することである。 - 特許庁
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