「cleaning solution」を含む例文一覧(1327)

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  • CORROSION PREVENTIVE FOR METAL AND CLEANING SOLUTION
    金属の腐食防止剤及び洗浄液 - 特許庁
  • SUBSTRATE CLEANING METHOD AND SOLUTION
    基板洗浄方法および基板洗浄液 - 特許庁
  • METHOD FOR FORMING FILM FROM SOLUTION AND CLEANING APPARATUS
    溶液製膜方法及び洗浄装置 - 特許庁
  • CLEANING SOLUTION FOR SUBSTRATE FOR SEMICONDUCTOR DEVICE
    半導体デバイス用基板用の洗浄液 - 特許庁
  • The washer pump 2 pressure-feeds cleaning solution to a washer nozzle to spray the cleaning solution on a windshield of the vehicle, and the washer pump 3 pressure-feeds the cleaning solution to the washer nozzle to spray the cleaning solution on the rear glass of the vehicle.
    ウォッシャポンプ２は洗浄液を車両のフロントガラスに吹き付けるウォッシャノズルに圧送し、ウォッシャポンプ３は洗浄液を車両のリヤガラスに吹き付けるウォッシャノズルに圧送する。 - 特許庁
  • DETERGENT COMPOSITION FOR DRY CLEANING, CLEANING SOLUTION FOR DRY CLEANING AND METHOD FOR DRY CLEANING USING IT
    ドライクリーニング用洗浄剤組成物、ドライクリーニング用洗浄液およびそれを用いたドライクリーニング方法 - 特許庁
  • CLEANING WATER SOLUTION FOR ALUMINUM BASED METAL AND CLEANING METHOD THEREOF
    アルミニウム系金属の洗浄水溶液およびその洗浄方法 - 特許庁
  • COMPOUND, CLEANING SOLUTION, SYSTEM AND METHOD FOR CLEANING SUBSTRATE
    基板を洗浄するための化合物，洗浄溶液，システムおよび方法 - 特許庁
  • COMPOSITION OF SEMICONDUCTOR CLEANING SOLUTION INCLUDING HYDRAZINE AND CLEANING METHOD
    ヒドラジンを含む半導体用洗浄液組成物及び洗浄方法 - 特許庁
  • The cleaning solution for cleaning the bath heater comprises an aqueous solution containing 2-aminoethanol and diethylenetriamine.
    ２−アミノエタノールとジエチレントリアミンとを含む水溶液からなる風呂釜洗浄用洗浄液である。 - 特許庁
  • The cleaning solution supply line 102 supplies a cleaning solution 321 to the first passage chamber 111.
    洗浄液供給ライン１０２は洗浄液３２１を第１通過室１１１に供給する。 - 特許庁
  • The coating head includes a coating solution chamber 5 delivering a coating solution stably to a coating port 4, a cleaning solution injection passage 6 for injecting the cleaning solution into the coating solution chamber 5 and a cleaning solution discharge passage 8 discharging the cleaning solution out of the coating solution chamber 5.
    塗工溶液を安定して塗工口４に送るための塗工溶液チャンバー５と、洗浄溶液を塗工溶液チャンバー５へ注入するための洗浄溶液注入流路６と、洗浄溶液を塗工溶液チャンバー５の外へ排出するための洗浄溶液排出流路８と、を備える。 - 特許庁
  • To reduce the amount of a cleaning solution used and filling with the cleaning solution in a short time in cleaning filter cake.
    濾過ケーキを洗浄する際に、洗浄液の使用量を減らすと共に洗浄液の充填を短時間で行う。 - 特許庁
  • To provide a cleaning solution of a semiconductor wafer which is superior in cleaning effects.
    洗浄効果の優れた半導体ウェーハの洗浄液を提供する。 - 特許庁
  • ULTRASONIC CLEANING METHOD AND CLEANING DEVICE USING GAS SUPERSATURATION SOLUTION
    ガス過飽和溶液を用いた超音波洗浄方法及び洗浄装置 - 特許庁
  • METHOD FOR PREPARING SOLUTION FOR ETCHING OR CLEANING
    エッチング用又は洗浄用の溶液の製造法 - 特許庁
  • CHEMICAL SOLUTION BOTTLE FOR ENDOSCOPE CLEANING AND DISINFECTING APPARATUS
    内視鏡洗浄消毒装置用薬液ボトル - 特許庁
  • SOLUTION FOR CLEANING OPTICAL FACE OF URINE-ANALYZING EQUIPMENT
    尿分析装置の光学面の洗浄溶液 - 特許庁
  • The device has a cleaning solution cleaning part A for performing wet cleaning by using an alkali cleaning solution, an optical cleaning part B for performing optical cleaning, a reverse part C for reversing the front and rear, and a transfer part D for transferring the photomask between the respective cleaning solution cleaning part, the optical cleaning part B, and the reverse part C.
    アルカリ洗浄液を用いてウエット洗浄を行う洗浄液洗浄部Ａ、光洗浄を行う光洗浄部Ｂ、表裏反転する反転部Ｃ、上記洗浄液洗浄部、光洗浄部、反転部の各々の間でフォトマスクを搬送する搬送部Ｄを具備する。 - 特許庁
  • To enhance the cleaning performance when cleaning the inside of a cartridge filter and an exhaust chamber with a cleaning solution.
    カートリッジフィルタ及び排気室の内部を洗浄液で洗浄する際の洗浄性を高める。 - 特許庁
  • METHOD OF MEASURING DETERGENT CONCENTRATION IN CLEANING SOLUTION
    洗浄溶液中の洗剤濃度の測定方法 - 特許庁
  • To remove a cleaning solution quickly from a rope and to prevent the leakage of the used cleaning solution surely.
    洗浄液を速やかにロープから除去するとともに、使用済み洗浄液の漏れを確実に防止する。 - 特許庁
  • DEVICE AND METHOD FOR CLEANING COPPER ELECTROLYTIC SOLUTION
    銅電解液の浄液装置及び浄液方法 - 特許庁
  • To provide a cleaning solution for a semiconductor device and a method for cleaning the semiconductor device using the solution.
    半導体素子の洗浄溶液およびこれを利用した半導体素子の洗浄方法を提供する。 - 特許庁
  • CLEANING SOLUTION FOR ELECTRONICS AND METHOD OF PATTERNING
    エレクトロニクス用洗浄液及びパターン形成方法 - 特許庁
  • The soil cleaning agent comprises a phosphoric acid aqueous solution or a sulfuric acid aqueous solution.
    リン酸水溶液又は硫酸水溶液からなる土壌洗浄剤。 - 特許庁
  • METHOD OF CLEANING SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING COMPONENT, AND CLEANING SOLUTION COMPOSITION
    半導体製造装置用部品の洗浄方法及び洗浄液組成物 - 特許庁
  • METHOD FOR CLEANING PIPING OF HIGH-PRESSURE HOMOGENIZER AND CLEANING SOLUTION THEREFOR
    高圧式ホモジナイザーの配管の洗浄方法、及びそのための洗浄液 - 特許庁
  • The cleaning equipment is provided with a first shower nozzle 36A which is provided above the level of the cleaning solution in the cleaning portion and jets the cleaning solution, and a second shower nozzle 40A provided below the level of the cleaning solution in the cleaning portion.
    洗浄装置は、洗浄部の洗浄液の液面より上方に設けられ、洗浄液を噴出する第１のシャワーノズル３６と、洗浄部の洗浄液の液面下に設けられた第２のシャワーノズルとを備えている。 - 特許庁
  • To provide a cleaning apparatus for controlling the amount of a cleaning solution during cleaning, and to provide a cleaning method.
    洗浄中での洗浄液の量を制御する洗浄システム及び洗浄方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
  • CLEANING METHOD AND DETERGENT SOLUTION USED THEREFOR
    清掃方法およびそれに用いる洗浄剤溶液 - 特許庁
  • The pH of the cleaning solution ranges from 4.5 to 6.5.
    清浄液のｐＨ範囲は４．５ないし６．５である。 - 特許庁
  • MINERAL SOLUTION AND SEWAGE CLEANING PROCESS USING THE SAME
    ミネラル溶液及びこれを用いた汚水浄化方法 - 特許庁
  • SOLUTION AND METHOD FOR CLEANING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
    半導体基板の洗浄液及びその洗浄方法 - 特許庁
  • Don't we need a special cleaning solution to get this off?
    特殊な洗剤じゃなきゃ 落ちないんじゃないの? - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
  • The cleaning chamber 31 communicates with cleaning solution supplying paths 32a, 32b to supply a cleaning solution and the cleaning solution is supplied from the upper and lower portions of the end face of the substrate W accommodated within the cleaning chamber 31.
    洗浄室３１には洗浄液を供給する洗浄液供給路３２ａ，３２ｂが連通しており、洗浄室３１内に収容された基板Ｗの端面の上部と下部から洗浄液を供給する。 - 特許庁
  • The brush 40 performs cleaning of the end face of substrate while being supplied with the cleaning solution.
    ブラシ４０は洗浄液の供給を受けつつ基板端面を洗浄する。 - 特許庁
  • SEMICONDUCTOR SUBSTRATE CLEANING SOLUTION AND SEMICONDUCTOR SUBSTRATE CLEANING METHOD USING SAME
    半導体基板洗浄液及びそれを用いた半導体基板洗浄方法 - 特許庁
  • To control the curtailment of a cleaning time, the reduction of a cleaning solution, and the nonuniformity of cleaning.
    洗浄時間の短縮、洗浄液の低減及び洗浄ムラの抑制を行うことができるようにする。 - 特許庁
  • REGENERATING METHOD AND EQUIPMENT FOR CLEANING SOLUTION FOR DESCALING
    デスケーリング用洗浄液の再生処理方法及び設備 - 特許庁
  • The cleaning solution supply mechanism 18 is provided with a tank 51 for storing the cleaning solution, a heater 55 for heating the cleaning solution in the tank 51, a nozzle 53 for discharging the cleaning solution in the treating chamber S shower-like and a pump 62 sending the cleaning solution in the tank 51 to the nozzle 53.
    洗浄液供給機構１８には、洗浄液を貯留するタンク５１と、タンク５１内の洗浄液を加熱するヒータ５５と、洗浄液を処理室Ｓにおいてシャワー状に吐出するノズル５３と、タンク５１内の洗浄液をノズル５３に送液するポンプ６２とを備えた。 - 特許庁
  • NEAT LIQUID COMPOSITION FOR CHIP CLEANING, AND DETERGENT SOLUTION
    切りくず洗浄用原液組成物および洗浄液 - 特許庁
  • The pH range of the cleaning aqueous solution is 3.5-8.8.
    洗浄水溶液のpH範囲が３.５乃至８.８である。 - 特許庁
  • To provide a cleaning solution and a semiconductor board cleaning method using the same.
    洗浄液及びこれを利用した半導体基板の洗浄方法を提供する。 - 特許庁
  • To inhibit the occurrence of oxidative stains on the cylindrical polycrystalline silicon caused by the cleaning solution remaining on the crystal by reducing the residue of the cleaning solution after cleaning operation.
    洗浄後における洗浄液の付着量を低減して洗浄液が残存することに起因する酸化しみの発生を抑制する。 - 特許庁
  • METHOD FOR CLEANING CRYSTAL SUBSTRATE USING CONDUCTIVE SOLUTION
    導電性溶液を用いた水晶基板のクリーニング方法 - 特許庁
  • SPRAY NOZZLE-CLEANING DEVICE FOR ASPHALT SOLUTION-SPRAYING EQUIPMENT
    アスファルト溶液散布装置における散布ノズル洗浄装置 - 特許庁
  • CULTURE SOLUTION CLEANING APPARATUS AND METHOD FOR WASHING ITS FILTER MEMBRANE
    培養液浄化装置及びそのろ過膜の洗浄方法 - 特許庁
  • METHOD FOR CLEANING COPPER-DISSOLVING SOLUTION AND METHOD FOR PRODUCING COPPER
    銅溶解液の浄液方法及び銅の製造方法 - 特許庁
  • AQUEOUS SOLUTION FOR CLEANING AND REMOVING IMPURITY ON INTEGRATED CIRCUIT SUBSTRATE SURFACE, AND CLEANING PROCEDURE USING THE SAME SOLUTION
    集積回路の基板表面の不純物を除去するための洗浄水溶液及びこれを用いた洗浄方法 - 特許庁
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