「composition pattern」を含む例文一覧(4879)
＜前へ 1 2 .... 23 24 25 26 27 28 29 30 31 .... 97 98 次へ＞- NEGATIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
ネガ型レジスト組成物、レジストパターンの形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND AND QUENCHER CONSISTING OF THE SAME COMPOUND
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および該化合物からなるクエンチャー - 特許庁 - ULTRAVIOLET SENSITIVE POSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD BY USING SAME
ポジ型紫外感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパタ—ン形成方法 - 特許庁 - INORGANIC PARTICLE-CONTAINING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM AND INORGANIC PATTERN FORMING METHOD
無機粒子含有感光性樹脂組成物、感光性フィルムおよび無機パターン形成方法 - 特許庁 - COMPOSITION CONTAINING HEAT RESISTANT RESIN PRECURSOR AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
耐熱性樹脂前駆体を含む組成物とその組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a positive type photosensitive resin composition having high sensitivity and excellent in pattern shape.
高感度かつパターン形状の優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND DEVICE PRODUCTION PROCESS
感光性化合物、感光性組成物、レジストパターンの形成方法及びデバイスの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING CURED PATTERN OF PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER
感光硬化型樹脂組成物の硬化パターンの形成方法、カラーフィルタの製造方法 - 特許庁 - To provide a positive resist composition excellent in lithographic properties and resist pattern forming method.
リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide a resist composition from which a pattern having excellent exposure margin can be obtained.
優れた露光マージンを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION PROCESS AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME
液浸プロセス用化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ORGANIC ANTI-REFLECTIVE COATING COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME
有機反射防止膜組成物及びこれを利用したフォトレジストのパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive composition having excellent exposure latitude and little dependence on the pattern density.
露光ラチチュードに優れ、疎密依存性が小さいポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁 - PHOTO BASE GENERATING AGENT, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE, AND NEGATIVE TYPE PATTERN FORMATION METHOD
光塩基発生剤、感光性樹脂組成物、物品、及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁 - ALKALI-DEVELOPABLE PHOTOSETTING COMPOSITION AND FIRED BODY PATTERN OBTAINED USING THE SAME
アルカリ現像型光硬化性組成物及びそれを用いて得られる焼成物パタ−ン - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURE OF PHASE SHIFT MASK BY USING IT
レジスト組成物、パタン形成方法およびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - GLASS COMPOSITION FOR SILVER PASTE, PHOTOSENSITIVE SILVER PASTE USING THE SAME AND ELECTRODE PATTERN
銀ペースト用ガラス組成物及びそれを用いた感光性銀ペースト及び電極パターン - 特許庁 - FLUORINE-CONTAINING COMPOUND, IMMERSION EXPOSURE POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD
含フッ素化合物、液浸露光用ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD, AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR APPARATUS
感放射線組成物およびパタン形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁 - PHOTOCURABLE COMPOSITION AND PLASMA DISPLAY PANEL WITH BLACK PATTERN FORMED USING THE SAME
光硬化性組成物及びそれを用いて黒色パターンを形成したプラズマディスプレイパネル - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN, SEMICONDUCTOR DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE
ポジ型感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法、半導体装置及び電子デバイス - 特許庁 - POLYIMIDE-BASED PHOTO-CURABLE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND SUBSTRATE PROTECTING FILM
ポリイミド系光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法及び基板保護用皮膜 - 特許庁 - TOP COATING COMPOSITION FOR PREVENTING AMINE CONTAMINATION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE
アミン汚染防止用トップコーティング組成物、フォトレジストパターン形成方法及び半導体素子 - 特許庁 - PHOTORESIST CROSS-LINKING AGENT, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT
フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁 - PHOTORESIST CROSS-LINKING AGENT, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT
フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ン形成方法、及び、半導体素子 - 特許庁 - PHOTORESIST CROSSLINKER, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE
フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ンの形成方法、及び半導体素子 - 特許庁 - FLUORINE CONTAINING SILICONE COMPOUND, SILICONE RESIN, RESIST COMPOSITION USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD
含フッ素ケイ素化合物、シリコーン樹脂、それを用いたレジスト組成物、及びパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOBASE GENERATOR, PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING RELIEF PATTERN AND ARTICLE
光塩基発生剤、感光性ポリイミド樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法並びに物品 - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM AND METHOD FOR PRODUCING THICK FILM RESIST PATTERN
厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE THERMOSETTING RESIN COMPOSITION AND SOLDERING RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME
感光性熱硬化性樹脂組成物及びそれを用いたソルダーレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND POLYMERIC COMPOUND
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに高分子化合物 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING RELIEF PATTERN BY USING THE SAME, AND ELECTRONIC COMPONENT
感光性重合体組成物及びそれを用いたレリ−フパターンの製造法、電子部品。 - 特許庁 - PHOTOCURABLE COMPOSITION AND PLASMA DISPLAY PANEL USING THE SAME TO FORM BLACK PATTERN
光硬化性組成物及びそれを用いて黒色パターンを形成したプラズマディスプレイパネル - 特許庁 - RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND SUBSTRATE WITH RESIST FILM, AND PATTERN FORMING METHOD
感放射線性樹脂組成物及びレジスト被膜付き基板並びにパターン形成方法 - 特許庁 - The pattern-forming material has a layer of the composition on a substrate.
支持体上に、該組成物からなる層を有することを特徴とするパターン形成材料。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive composition having high sensitivity and improved edge roughness of a pattern.
高感度で、パターンのエッジラフネスが改良されたポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM
パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜 - 特許庁 - FORMATION METHOD OF PIXEL PATTERN, COLOR FILTER, DISPLAY ELEMENT AND COLORED RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
画素パターンの形成方法、カラーフィルタ、表示素子及び着色感放射線性組成物 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING LAYER TO BE PLATED, METHOD FOR MANUFACTURING METAL PATTERN MATERIAL, AND NOVEL POLYMER
被めっき層形成用組成物、金属パターン材料の製造方法、および、新規ポリマー - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME
感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁 - VISIBLE LIGHT SENSITIVE POSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING SAME
ポジ型可視光感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパタ—ン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE MADE BY USING THE SAME AND METHOD OF FORMING NEGATIVE-TYPE PATTERN
感光性樹脂組成物、およびこれを用いた物品、及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING LAYER TO BE PLATED, METHOD FOR PRODUCING METAL PATTERN MATERIAL, AND NEW POLYMER
被めっき層形成用組成物、金属パターン材料の作製方法、及び、新規ポリマー - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR PROCESSING BOARD
感光性化合物、感光性組成物、レジストパターンの形成方法及び基板の加工方法 - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED PHOTORESIST COMPOSITION, RESIST LAYER LAMINATE AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
化学増幅型ホトレジスト組成物、レジスト層積層体およびレジストパタ−ン形成方法 - 特許庁 - COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERN AND COLOR FILTER FORMED USING THE SAME
着色感光性樹脂組成物ならびにそれを用いて形成されたパターン及びカラーフィルタ - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THICK FILM RESIST PATTERN
厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法 - 特許庁 - To provide a composition for the formation of a resist protective film and a method for forming a resist pattern.
レジスト保護膜形成組成物およびレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION PROCESS, AND METHOD OF FORMING PATTERN USING SAME
液浸プロセス用化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN, AND METHOD FOR FORMING SAME
感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁
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