「composition pattern」を含む例文一覧(4879)
＜前へ 1 2 .... 57 58 59 60 61 62 63 64 65 .... 97 98 次へ＞- A method for producing a color filter is also provided which includes a step of forming a pattern by applying the colored curable composition on a support, exposing it through a mask and performing development.
および該着色硬化性組成物を支持体上に塗布後マスクを通して露光し、現像してパターンを形成する工程を含むカラーフィルタの製造法。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive resin composition having high sensitivity to i-line and a high rate of a residual film and capable of giving a pattern with no scum after development.
ｉ線に対して高感度、高残膜率で、更に現像後にスカムの発生がないパターンが得ることができるポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an anti-static film forming composition used for an upper layer of an electron beam resist, a resist pattern using it, and a method of manufacturing a semiconductor device.
電子線レジストの上層に用いられる帯電防止膜形成組成物とそれを用いたレジストパターン及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR REMOVING PHOTOCURED PRODUCT
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法及び光硬化物の除去方法 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition which has excellent resolution performance, a low LWR (Line Width Roughness), excellent pattern collapse resistance and excellent defectiveness.
解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、パターン倒れ耐性に優れ、且つ、欠陥性にも優れる感放射線性樹脂組成物の提供。 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING ORGANIC INSULATING FILM AND METHOD FOR FORMING PATTERN OF ORGANIC INSULATING FILM USING THE SAME AND ORGANIC THIN FILM TRANSISTOR AND DISPLAY DEVICE USING THE SAME
有機絶縁膜組成物およびこれを用いた有機絶縁膜のパターン形成方法および有機薄膜トランジスタおよびこれを含む表示素子 - 特許庁 - To provide a positive photoresist composition ensuring improved edge roughness of a resist pattern in the production of a semiconductor device and excellent in low temperature preservability.
半導体デバイスの製造において、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、更に低温保存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURE OF SUBSTRATE HAVING INTEGRATED CIRCUIT AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY UNIT FORMED ON ONE SUBSTRATE, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
１つの基板上に集積回路と液晶ディスプレイ部分が形成された基板製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition capable of performing formation of a resist pattern by a direct drawing exposure method with satisfactory sensitivity and resolution.
直接描画露光法によるレジストパターンの形成を、十分な感度及び解像度で行うことが可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The radiation-sensitive resin composition is used for forming a photoresist film in a method of forming a resist pattern including a predetermined immersion exposure process.
所定の液浸露光工程を含むレジストパターン形成方法において、フォトレジスト膜を形成するために用いられる感放射線性樹脂組成物である。 - 特許庁 - The digital camera executes photographing, when it discriminates that the photographer approaches the preset composition pattern by directional instructions of the four LEDs.
デジタルカメラが、４つのＬＥＤの方向指示によって、撮影者が予め設定された構図パターンに近づいたと判定したときに撮影を実行する。 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING RESIN, RESIN PRODUCED BY THE METHOD, POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION CONTAINING THE RESIN AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME
樹脂の製造方法、その製造方法によって製造された樹脂、その樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a photoresist composition superior in uniformity and for improving quality of pattern formation such as sensitivity, resolution, adhesion during development and developability.
均一性（ユニフォミティー）に優れ、感度、解像性、現像時の密着性や現像性などパターン形成の品質を向上するフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a negative resist composition for a thick film, which forms a high-resolution pattern having a high aspect ratio, and has high sensitivity and high storage stability.
高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度で高い保存安定性を有する厚膜用ネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - CURABLE RESIN COMPOSITION, PERMANENT RESIST USING THE SAME, PREPREG, METAL-CLAD LAMINATED BOARD, SEALING MATERIAL, PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND PRINTED WIRING BOARD
硬化性樹脂組成物、これを用いた永久レジスト、プリプレグ、金属張積層板、封止材、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition as a material for a resist film with which a resist pattern having a small LWR (line width roughness) and a wide DOF (depth of focus) can be formed.
ＬＷＲが小さく、かつ、ＤＯＦの広いレジストパターンを形成可能なレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive paste composition which is inexpensive and capable of forming a thinnly-filmed and high-definition pattern having a low resistance value on a glass substrate.
安価で、かつ薄膜で、抵抗値が低く、高精細なパターンをガラス基板上に形成可能な感光性ペースト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a resist composition for liquid immersion exposure, which has excellent immersion medium resistance and lithography characteristics at the same time, and to provide a method for forming a resist pattern.
優れた液浸媒体耐性およびリソグラフィー特性を両立できる液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a salt forming a pattern of excellent resolution, shape and line-edge roughness, and a resist composition or the like containing the salt.
優れた解像度、形状及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができる塩及び該塩を含むレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a salt forming a pattern of excellent CD uniformity and an excellent focus margin, and a resist composition or the like comprising the salt.
優れたＣＤ均一性及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる塩及び該塩を含むレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a salt for an acid generator of a resist composition which can form a pattern having an outstanding line edge roughness (LER) and a focus margin (DOF).
優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）及びフォーカスマージン（ＤＯＦ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。 - 特許庁 - The oxime derivative has high sensitivity and very high preservation stability, and can be utilized as a photosensitive composition capable of highly precisely and efficiently forming a pattern.
高感度であるとともに、保存安定性が極めて高く、パターンを高精細に効率よく形成できる感光性組成物として利用することができる。 - 特許庁 - To provide a pigment-dispersed radiation-sensitive resin composition which exhibits high durability, particularly high moisture resistance after photocuring, and a colored pattern forming method.
光硬化後の耐久性、特に耐湿性が高い顔料分散型感放射線樹脂組成物および着色パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AS WELL AS ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及び、パターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR REMOVING PHOTOSET OBJECT
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法並びに光硬化物の除去方法 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition capable of forming a black matrix pattern having good linearity, less liable to peel and ensuring less residue.
良好な直線性を有し、剥がれにくく、残渣が少ないブラックマトリクスパターンを形成することができる感光性組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The method for manufacturing the inorganic material membrane structure is performed by providing the photosensitive composition on a substrate, exposing and developing to form a pattern and firing.
該感光性組成物を基板上に設け、露光、現像処理してパターンを形成し、その後、焼成する無機材料膜構造物の製造方法。 - 特許庁 - To provide a chemical amplification type positive type photoresist composition having high sensitivity and high resolving power and ensuring reduced development defects and improved rectangularity of a pattern.
高感度で高解像力を有し、現像欠陥およびパターンの矩形性が改善された化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a compound for preparing a chemically amplified positive photoresist composition to give patterns having high resolution and good pattern profile.
優れた解像度及び形状を有するパターンを形成することができる化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を得るための化合物を提供すること。 - 特許庁 - A layer (1) comprising the radiation sensitive resin composition is formed on a substrate (2), exposed and developed to form a pattern and a transparent film (5) is obtained.
この感放射線性樹脂組成物からなる層（１）を基板（２）の上に形成し、該層（１）を露光したのち現像してパターンを形成して、透明膜（５）を得る。 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING RESIST RESIN, RESIST RESIN MANUFACTURED BY THE MANUFACTURING METHOD, RESIST COMPOSITION CONTAINING THE RESIN AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME
レジスト用樹脂の製造方法、該製造方法によって製造されたレジスト用樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a phenol novolak resin forming excellent fine overcrowded or isolated pattern, and excellent in sensitivity, resolution and focal depth-width property, and a positive-type photoresist composition.
微細な密集、孤立パターンを良好に形成し、感度、解像性、焦点深度幅特性に優れるフェノールノボラック樹脂、ポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁 - FORMING METHOD OF POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR LCD MANUFACTURE WITH INTEGRATED CIRCUIT AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY PART FORMED ON ONE SUBSTRATE, AND RESIST PATTERN
１つの基板上に集積回路と液晶ディスプレイ部分が形成されたＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - To provide a negative resist composition capable of forming a resist film of which surface hydrophobicity is high and having good lithography characteristics, and a resist pattern forming method.
膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成でき、かつ、リソグラフィー特性も良好なネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide a resist composition for electron beams or X-rays having high sensitivity and high resolution and giving an excellent square pattern profile.
高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができる電子線又はＸ線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - By utilizing a cured layer of the composition for fine pattern formation formed by the method, other patterns being made finer can be formed.
この方法により形成された、微細パターン形成用組成物の硬化層を利用することで、別の微細化されたパターンを形成させることもできる。 - 特許庁 - To reduce necessary exposure at the time of forming a resist pattern even as a desired resolution is produced for a resist layer having a prescribed composition.
所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。 - 特許庁 - To provide a photosensitive adhesive composition having pattern forming properties and sufficient adhesiveness after exposure and little causing exudation from an adhesive layer edge part.
パターン形成性及び露光後の十分な接着性を有し、かつ、接着剤層端部からの染み出しが少ない感光性接着組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a chemical amplification type resist composition giving a resist pattern having excellent transparency to radiation, dry etching properties, sensitivity, resolution, flatness, heat resistance, etc.
放射線に対する透明性、ドライエッチング性、感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れるレジストパターンを与える化学増幅型レジスト組成物の提供。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive positive resin composition excellent in line roughness, etching resistance, sensitivity and resolution to stably form a high-precision fine pattern.
ラインラフネス、エッチング耐性、感度、及び解像度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - PHOTORESIST MONOMER AND ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COPOLYMER AND ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
フォトレジスト単量体とその製造方法、フォトレジスト共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ン形成方法、及び、半導体素子 - 特許庁 - PHOTORESIST MONOMER AND ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COPOLYMER AND ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COMPOSITION, FORMATION OF PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT
フォトレジスト単量体とその製造方法、フォトレジスト共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、および、半導体素子 - 特許庁 - PHOTORESIST MONOMER, ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COPOLYMER, ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COMPOSITION, FORMATION OF PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT
フォトレジスト単量体とその製造方法、フォトレジスト共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ン形成方法、および、半導体素子。 - 特許庁 - PHOTORESIST MONOMER AND ITS PREPARING METHOD, PHOTORESIST COMPOLYMER AND ITS PREPARING METHOD, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT
フォトレジスト用単量体とその製造方法、フォトレジスト用共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁 - ADHESIVE COMPOSITION, FILM ADHESIVE, ADHESIVE SHEET, ADHESIVE PATTERN, SEMICONDUCTOR WAFER WITH ADHESIVE LAYER, SEMICONDUCTOR DEVICE AND PROCESS FOR MAKING SEMICONDUCTOR DEVICE
接着剤組成物、フィルム状接着剤、接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ、半導体装置、及び、半導体装置の製造方法 - 特許庁 - PHOTORESISTER MONOMER, ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COPOLYMER AND ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COMPOSITION, PRODUCTION OF PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT
フォトレジスト単量体とその製造方法、フォトレジスト共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ンの製造方法、及び半導体素子 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition for interlayer insulation films capable of using a general-purpose developer and ensuring less film thickness reduction of a formed pattern.
汎用の現像液を使用可能であり、かつ、形成されたパターンの膜減りが少ない層間絶縁膜用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition with which excellent sensitivity is obtainable and, at the same time, heat resistance in a pattern after development is improved.
良好な感度が得られるとともに、現像後のパターンにおける耐熱性を向上させることができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition which achieves reduction in development defects and combines the reduction with lines with roughness (LWR), and to provide a pattern forming method.
現像欠陥が低減され、かつ良好なラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）との両立を可能にしたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition for an etching resist capable of forming a rectangular profile or a profile close to a rectangle even after a formed pattern is baked.
形成したパターンをベークした後であっても矩形又は矩形に近いプロファイルが形成可能なエッチングレジスト用感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
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