The critical dimension and process latitude of the main feature can be improved by constructive light field interference, or degraded by destructive light field interference. 隣接するフィーチャによって生成される電界の位相に応じて、主フィーチャの臨界寸法およびプロセスラチチュードを、強め合う光電界干渉によって改善するか、または弱め合う光電界干渉によって劣化させることができる。 - 特許庁