「defect classification」を含む例文一覧(99)
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ウェーハ欠陥分類 - 特許庁 - CLASSIFICATION METHOD OF DEFECT
欠陥の分類方法 - 特許庁 - PATTERN DEFECT CLASSIFICATION DEVICE
パタ—ン欠陥分類装置 - 特許庁 - DEFECT CLASSIFICATION EQUIPMENT, DEFECT CLASSIFICATION METHOD, AND PROGRAM
欠陥分類装置、欠陥分類方法およびプログラム - 特許庁 - DEFECT CLASSIFICATION SYSTEM, IMAGE FORMING APPARATUS AND DEFECT CLASSIFICATION PROGRAM
欠陥分類システム、画像形成装置および欠陥分類プログラム - 特許庁 - DEFECT CLASSIFICATION DICTIONARY TEACHING APPARATUS
欠陥分類辞書教示装置 - 特許庁 - DEFECT CLASSIFICATION SYSTEM, DEFECT CLASSIFICATION DEVICE, AND IMAGE PICKUP DEVICE
欠陥分類システム及び欠陥分類装置及び画像撮像装置 - 特許庁 - DEFECT CLASSIFICATION DEVICE, DEFECT CLASSIFICATION METHOD, AND ITS COMPUTER PROGRAM
欠陥分類装置、欠陥分類方法およびそのコンピュータ・プログラム - 特許庁 - DEFECT CLASSIFICATION METHOD AND DEVICE THEREOF
欠陥分類方法及びその装置 - 特許庁 - DEFECT CLASSIFICATION METHOD AND APPARATUS THEREFOR
欠陥分類方法及びその装置 - 特許庁 - DEFECT CLASSIFICATION METHOD AND ITS DEVICE
欠陥分類方法及びその装置 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR DEFECT CLASSIFICATION
欠陥分類方法およびその装置 - 特許庁 - IMAGE DEFECT INSPECTION DEVICE, DEFECT CLASSIFICATION DEVICE, AND IMAGE DEFECT INSPECTION METHOD
画像欠陥検査装置、欠陥分類装置及び画像欠陥検査方法 - 特許庁 - DEFECT IMAGE PROCESSING DEVICE, DEFECT IMAGE PROCESSING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEFECT CLASSIFICATION DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEFECT CLASSIFICATION METHOD
欠陥画像処理装置、欠陥画像処理方法、半導体欠陥分類装置および半導体欠陥分類方法 - 特許庁 - IMAGE DEFECT INSPECTION DEVICE, IMAGE DEFECT INSPECTION SYSTEM, DEFECT CLASSIFICATION DEVICE, AND IMAGE DEFECT INSPECTION METHOD
画像欠陥検査装置、画像欠陥検査システム、欠陥分類装置及び画像欠陥検査方法 - 特許庁 - DEFECT CLASSIFICATION METHOD, ITS DEVICE, AND DEFECT INSPECTION DEVICE
欠陥分類方法及びその装置並びに欠陥検査装置 - 特許庁 - EQUIPMENT AND METHOD FOR DEFECT CLASSIFICATION
欠陥分類装置及び欠陥分類方法 - 特許庁 - SYSTEM AND METHOD FOR DEFECT CLASSIFICATION
不良分類システムおよび不良分類方法 - 特許庁 - DEFECT CLASSIFICATION METHOD AND DEVICE OF MASK
マスクの欠陥分類方法および分類装置 - 特許庁 - To improved the determination precision of defect classification.
欠陥分類の判定精度を向上すること。 - 特許庁 - To provide a defect classification device for easily predicting a defect occurrence rate, based on defect inspection results.
欠陥検査結果から不良発生率を容易に予測することが可能な欠陥分類装置を提供すること。 - 特許庁 - The defect classification means includes: a first classification means (50) of identifying an image of the defect having a specific shape; and a second classification means (51) of identifying the image of a punctate low-brightness defect and an image of a light-dark brightness defect.
欠陥分類手段は、特有の形状を有する欠陥像を識別する第１の分類手段（５０）と、点状の低輝度欠陥像や明暗輝度の欠陥像を識別する第２の分類手段（５１）とを有する。 - 特許庁 - The defect classification means (36) includes first classification means (50) for identifying a defect image having a specific shape and second classification means (51) for identifying a punctate low-brightness defect image and a light-dark brightness defect image.
欠陥分類手段は、特有の形状を有する欠陥像を識別する第１の分類手段（５０）と、点状の低輝度欠陥像や明暗輝度の欠陥像を識別する第２の分類手段（５１）とを有する。 - 特許庁 - Then, the detection device determines a point defect and a line defect from the defect pixel candidates in each classification after movement.
そして、検出装置は、移動後の前記種別ごとの欠陥画素候補から、点欠陥又は線欠陥を決定する。 - 特許庁 - FLAW TYPE CLASSIFICATION BOUNDARY SETTING METHOD IN SURFACE DEFECT DETECTION, AND DEFECT DETECTION METHOD
表面欠陥検出における疵種分類境界設定方法、及び欠陥検出方法 - 特許庁 - The defect identification and defect classification of each area are done using the selected parameter.
そして、選択されたパラメータを用いて、各領域の欠陥識別と欠陥分類とを実施する。 - 特許庁 - DEFECT INSPECTION METHOD AND ITS SYSTEM, AND DEFECTIVE AREA DETECTION METHOD FOR AUTOMATIC DEFECT CLASSIFICATION
欠陥検査方法とその装置、及び欠陥の自動分類のための欠陥位置検出方法 - 特許庁 - To provide a defect classifying/inspecting device having high classification accuracy.
高い分類精度を有する欠陥分類検査装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a defect classification system capable of reducing misclassification in defect sorts even when information necessary for defect sort judgment is increased and capable of achieving more accurate classification.
欠陥種類判定に必要な情報が多くなったとしても欠陥種類の誤分類を低減し、より精度の高い分類が可能な欠陥分類システムを提供する。 - 特許庁 - A defect classification apparatus includes a feature amount extraction unit, a defect classification unit and a classification condition setting unit, the classification condition setting unit has a function for correspondingly teaching a feature amount of a defect and a class of accuracy and a function for designating the priority order of classification, and conditional setting is performed so as to improve an accuracy rate for the classification of high priority.
特徴量抽出部、欠陥分類部、分類条件設定部を含み、分類条件設定部は、欠陥の特徴量と正解のクラスを対応づけて教示する機能と分類の優先順位を指定する機能を有し、優先順位の高い分類の正解率が高くなるよう条件設定を行う。 - 特許庁 - To execute classification with good accuracy by ameliorating the classification defect by clogging, or the like, of materials having tacky adhesiveness.
粘着性のある材料の目詰り等による分級不良を改善し、分級を精度よく行う。 - 特許庁 - An image of the detected defect is supplied to a defect classification means (36), and the defect is classified based on the shape or the brightness distribution of the image of the defect.
検出された欠陥の画像は、欠陥分類手段（３６）に供給され、欠陥画像の形状及び輝度分布に基づいて欠陥が分類される。 - 特許庁 - A defect improper to classification is extracted after classification, and a classification parameter is adjusted, to thereby enable to change the degree for determining that the classification is improper.
また，分類後に分類に不適当な欠陥を抽出して分類パラメータを調整することにより，分類を不適当だと判定する程度を変更することを可能とする。 - 特許庁 - To provide a defect classification equipment for eliminating the need of any threshold at the time of extracting any defect, and for performing classification with high robustness to a threshold.
欠陥抽出時の閾値が不要な、または閾値に対してロバスト性の高い分類を行うことが可能な欠陥分類装置を提供する。 - 特許庁 - This condition is maintained, when an automatic defect classification is performed after the circuit pattern inspection.
この状態は回路パターン検査後の自動欠陥分類時に維持される。 - 特許庁 - This condition is maintained at automatic defect classification time, after circuit pattern inspection.
この状態は回路パターン検査後の自動欠陥分類時に維持される。 - 特許庁 - The area threshold is changed on the basis of these classification results (S4), and defect candidate detection (S5) and classification (S6) are further carried out.
この分類結果から面積しきい値を変更し（Ｓ４）、さらに欠陥候補検出（Ｓ５）及び分類（Ｓ６）を行う。 - 特許庁 - The detection device detects from an obtianed imaged image, defect pixel candidates in each classification, by using each different detection condition in each classification of a point defect or a line defect detected from the imaged image.
また、検出装置は、取得した撮像画像から、該撮像画像から検出する点欠陥又は線欠陥の種別ごとに異なる検出条件を用いて種別ごとに欠陥画素候補を検出する。 - 特許庁 - To provide a defect detector which can detect the defect of a carrier, using an optimum defect detection method, according to the classification of the tape carrier.
テープキャリアの種別などに応じて、最適な欠陥検出手法を用いて、テープキャリアの欠陥を検出可能な欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a defect review device capable of continuing defect review even if one image processing device is failed, concerning a defect review device for executing defect review or defect classification by using a plurality of image processing devices.
複数台の画像処理装置を用いて欠陥レビューないし欠陥分類を実行する欠陥レビュー装置において、１台の画像処理装置が故障しても欠陥レビューを継続可能な欠陥レビュー装置を実現する。 - 特許庁 - Defect data on a defect on a semiconductor wafer 111 is acquired by an inspection unit 110 of the defect inspection device 100 and stored in a storage unit 122, and the obtained defect data are classified into a defect kind by a classification determination unit 123 on the basis of a predetermined classification standard previously stored in the storage unit 122.
半導体ウェハ１１１上の欠陥データを欠陥検査装置１００の検査部１１０で取得して記憶部１２２に格納し、得られた欠陥データを記憶部１２２内に予め格納している所定の分類基準に基づいて分類判定部１２３により欠陥種に分類する。 - 特許庁 - The detection device moves between candidates in each classification, a point-defect candidate smaller than a prescribed threshold or a line-defect candidate smaller than a prescribed threshold between the defect pixel candidates detected in each classification.
そして、検出装置は、種別ごとに検出された欠陥画素候補間で、所定の閾値よりも小さい点欠陥候補や所定の閾値よりも小さい線欠陥候補を、前記種別ごとの候補間で移動する。 - 特許庁 - Then, the determination accuracy of the defect classification aggregate is not affected by the superiority or inferiority of the guessing ability of an operator, for example, in comparison with a method by which the operator guesses a defect and qualitatively or individually acquires and analyzes an aggregate characteristic value at each defect classification aggregate including the guessed defect classification.
よって、例えば、オペレータが欠陥を推測し、推測した欠陥種別を含む欠陥種別集合毎に集合特徴値を定性的又は個別的に取得して解析する方法に比べて、欠陥種別集合の判別精度がオペレータの推測能力の優劣に影響を受けることがない。 - 特許庁 - A plurality of pieces of classification information for a plurality of inspection data about one defect are allowed to be registered, and classification information of a defect which is an object for analysis is allowed to be arbitrarily selected.
ひとつの欠陥に複数の検査データに対する複数の分類情報を登録可能とし、解析対象である欠陥の分類情報を任意に選択可能とした。 - 特許庁 - Discrimination between the VC defect and the surface defect is enabled by paying attention to the difference between displacement of a VC defect generation position to a hole pattern and displacement of a surface defect generation position, to thereby enable classification into each defect.
穴パターンに対するＶＣ欠陥発生位置のずれ量と表面欠陥発生位置のずれ量との違いに着目することで，ＶＣ欠陥と表面欠陥とを弁別することを可能にし、それぞれに分類するようにした。 - 特許庁 - Especially, this OB defect corrector classifies the OB signals for every color filter array, and performs defect correction for every classification thereof.
特に、このＯＢ欠陥補正部は、カラーフィルタアレイの色別にＯＢ信号を区分し、その区分別にＯＢ信号の欠陥補正を行う。 - 特許庁 - The classification support unit forms separated defect parts data for setting or changing the defect detection parameters and forming the knowledge base.
分類支援装置は、上記欠陥検出パラメータの設定や変更、上記知識ベース作成のための分離欠陥部分データを作成する。 - 特許庁 - To provide an amplitude-based approach for detection and classification of hard-disc defect regions.
ハードディスク欠陥領域の検出および分類のための振幅ベースの方法を提供すること。 - 特許庁 - Furthermore, in the scanning charged particle microscope for semiconductor test and semiconductor measurement, by using a pattern size measurement, defect detection, and defect classification or the like by using the image after image restoration, measurement precision improvement and high precision of defect detection and defect classification or the like become possible.
さらに、半導体検査および半導体計測用の走査型荷電粒子顕微鏡において、画像復元後の画像を用いてパターン寸法計測、欠陥検出、欠陥分類等に用いることにより、計測精度向上や欠陥検出、欠陥分類の高精度化を可能とした。 - 特許庁 - To provide an image defect inspection device, and a defect inspection classification and image defect inspection method, capable of detecting a defect under the optimum defect detecting condition, even when a noise level included in an inspection image depends greatly on the inspection image.
検査画像に含まれるノイズレベルの検査画像に対する依存性が大きい場合にも、最適な欠陥検出条件で欠陥を検出可能な画像欠陥検査装置、欠陥検査分類、及び画像欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁
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