「defect process」を含む例文一覧(840)
＜前へ 1 2 .... 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 次へ＞- To provide a hemming method by a flat hem process of a high strength Al alloy plate not causing a defect to an edge bend part of a flat hem and having a good shape precision and a dimensional precision of the edge bend part of the formed flat hem.
フラットヘムの縁曲部に前記不良が生じることがなく、また、形成されるフラットヘムの縁曲部の形状精度や寸法精度が良い、高強度なAl合金板のフラットヘム工程によるヘミング加工方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide an evaluation method for a silicon single-crystal wafer allowing the prediction of a breakdown voltage defect caused by the wafer quality after the completion of device manufacturing process by obtaining in advance in the stage of the wafer the evaluation result of a GOI characteristic which is close to the GOI characteristic obtained after the completion of the device manufacturing process (device product).
本発明は、デバイス製造工程終了後（デバイス製品）のＧＯＩ特性の評価結果と近いＧＯＩ特性の評価結果を、ウェーハ段階で事前に得ることができ、デバイス製造工程終了後のウェーハ品質に起因する耐圧不良を予測することが可能となるシリコン単結晶ウェーハの評価方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a maintenance method for heat-exchange plates of a plate-type heat exchanger, capable of reducing maintenance cost by having a flaw inspection process for pinpointing the damaged part of the defect, especially when a penetration detect generated by damage due to an inspection process using a leak tester is found.
プレート式熱交換器の熱交換板のメンテナンス方法において、特に、リークテスターを用いた検査工程により損傷により生じた貫通欠陥部が発見された場合に、損傷箇所を特定するための探傷検査工程を行うことにより、メンテナンスコストを低減しうるプレート式熱交換器の熱交換板のメンテナンス方法を提供すること。 - 特許庁 - In the system, image data obtained by photographing the bad place of a substrate determined to be defective by visual examination is stored in a memory medium as a work unit and the image stored in the memory medium is successively displayed on a monitor screen in a process separate from a visual examination process to perform only the input work of the defect classification data.
目視検査で不良と判断された基板の不良箇所を撮影した画像データを、記憶媒体に作業単位に保存しておき、目視検査工程とは別工程で、記憶媒体に保存された画像を順にモニター画面に表示することにより不良区分の入力作業だけを行うことを特徴とする不良分類システム。 - 特許庁 - On the active matrix type organic electroluminescent element, an organic electroluminescent diode and an array element are formed on different substrates separately, whereby, even if a defect is generated at either of an array element manufacturing process or an organic electroluminescent diode manufacturing process, the defective substrate is removed, and two non-defective substrates are stuck to each other.
本発明による有機電界発光素子は、有機電界発光ダイオードとアレイ素子を各々異なる基板に構成することによって、アレイ素子の製造段階と有機電界発光ダイオードの製造段階のいずれかの工程で不良が発生したとしても、不良が発生した基板を除去して、良品の２枚の基板が合着される。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a highly precise elastic roller having a small surface defect by measuring an electric resistance of the roller during a molding process and controlling a molding device by the measured value to possess small irregularity and a uniform resistance value in the elastic roller used for an image forming apparatus using an electrophotographic process.
本発明は電子写真プロセスを利用した画像形成装置に用いる弾性ローラにおいて、成形工程時にローラの電気抵抗を測定し、その測定値で成形装置を制御することによってばらつきが少なく均一な抵抗値をもち、さらに表面欠陥の少ない高精度な弾性ローラを製造する方法を提供することにある。 - 特許庁 - According to an actual test result, a process speed reduction determination part 3 determines process speed reduction of a worker, a tester replacement determination part 4 determines if a worker with reduced defect discovery rate exists or not and if a change of worker assignment is required or not, and those determinations are reported when the change of worker assignment is required.
実際の試験の結果に基づいて、処理速度低下判断部３が作業者の処理速度低下を判断し、テスター交代判断部４が、不具合の発見率が低下した作業者の存在および作業者の割当てを変更する必要性の有無を判定し、作業者の割当て変更の必要性がある場合に、そのことが報知される。 - 特許庁 - Besides, since the inter-layer insulating film 6 is formed between the respective terminals as well, even when etching is performed for the etching time for the ITO formed on the inter-layer insulating film 6, no ITO is left between the terminals, the ITO can be patterned through one time of resist pattern forming process and etching process, and the occurrence of a leak defect between terminals can be prevented.
また、各端子間にも層間絶縁膜６が形成されているため、層間絶縁膜６上に形成されたＩＴＯに対するエッチング時間でエッチングを行っても端子間にＩＴＯが残ることなく、一回のレジストパターン形成工程及びエッチング工程でＩＴＯのパターン形成を行うことができ、端子間のリーク不良の発生を防止できる。 - 特許庁 - To provide an end face treating method which is capable of averting the trouble, such as transfer defect, which occurs during manufacture without sticking of a photoreceptor drum to a pallet when the photoreceptor drum after end face treatment is placed on the pallet and is moved to an ensuing drying process step.
端面処理後の感光体ドラムをパレットに載せて次の乾燥工程などへの移動するとき、感光体ドラムがパレットに張り付くことなく、製造中に生ずる移送不良などの不具合を回避することができる端面処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an electron beam equipment capable of obtaining an image for inspection with little distortion and enabling a surface observation and a defect detection as well as a device manufacturing method for inspecting a device on the way of a process with a good throughput with the use of the electron beam equipment.
歪みの少ない検査画像が得られ、信頼性の高い表面観察および欠陥検出を可能にする電子ビーム装置、および、該電子ビーム装置を用いてスループット良くプロセス途中のデバイスを検査するデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To make detectable defects in a fine pattern on a transparent layer insulating film and on the same layer with high sensitivity while detecting the defects of a lower layer pattern and the same pattern in the defocused state to detect only the defect of a process to be originally inspected.
透明な層間絶縁膜上の微細パターンおよび同一層の欠陥を感度良く検出する一方、下層のパターンおよび同一層の欠陥をデフォーカスした状態で検出し、本来検査したい工程の欠陥のみを検出可能とすること。 - 特許庁 - To provide a laminating structure of a 3-group nitride semiconductor capable of realizing a flat surface, a controlled film thickness and the reduction of crystal defect by a one time crystal growing process with excellent reproducibility, and provide a manufacturing method thereof and a 3-group nitride semiconductor device.
一回の結晶成長工程で、表面が平坦で、膜厚が制御され、再現性良く結晶欠陥の低減を実現できる３族窒化物半導体の積層構造、その製造方法、及び３族窒化物半導体装置を提供することにある。 - 特許庁 - To improve the yield in a manufacturing process step by gently sloping the pattern sectional shape of the pattern formation performed by using selective etching by dry etching and abating a shorting defect in manufacturing a liquid crystal display device of an active matrix type.
アクティブマトリックス方式の液晶表示装置の製造に際し、ドライエッチングによる選択エッチングを用いて行なったパタン形成のパタン断面形状をなだらかにし、ショート不良を低減することにより製造工程における歩留まりを向上すること。 - 特許庁 - To provide an ink delivery print capable of easily and satisfactorily restoring a pin hole defect caused in a barrier wall and reducing a manufacturing cost when inexpensively manufacturing the print with a convenient process by using an ink delivery method, and to provide a method of restoring the ink delivery print.
インキ吐出方式を利用して簡易なプロセスで安価に印刷物を製造するに際し、隔壁に発生したピンホール欠陥を、容易、且つ、良好に修復し、製造コスト削減が可能なインキ吐出印刷物を提供し、またその修正方法を提供する。 - 特許庁 - In the process of cutting out a part of the surface from the wiring board material for the core, a part having defects is cut out of the wiring board material, and a defect-free wiring board material part is fit into the space created by the cutting-out, aligned, and fixed therein.
コア部分とすべき配線板素材においてその面内一部を切り出す工程により、不良が発生している部分を配線板素材から切り出し、このあと、切り出された空間に新たな不良のない配線板素材を嵌め込み、位置合わせ・固定する。 - 特許庁 - To form a transparent conductive film capable of carrying out electroless plating treatment in a short time, and reducing a defect caused by an adhesion failure of an electroless plated layer continuously by a simple process and inexpensively even in the case of a lengthy transparent conductive film.
短時間で無電解めっき処理を行うことができ、無電解めっき層の付着不良による欠陥を低減することができ、しかも、長尺の透明導電膜であっても、連続的に簡単な工程で、且つ、安価に透明導電膜を作製できるようにする。 - 特許庁 - To form a deposited film with uniform thickness and quality and few defect on a substrate with a large area at a high processing speed in a process for fabricating a semiconductor device wherein the deposited film is formed on the substrate by plasmanizing a raw material gas by high-frequency power.
高周波電力によって原料ガスをプラズマ化し、基体上に堆積膜を形成する、半導体装置の製造方法において、高速な処理速度で大面積の基体上に、膜厚、膜質共に均一で欠陥の少ない堆積膜を形成する。 - 特許庁 - Heat treatment is performed at about 300-500°C for about 5-60 minutes in a hydrogen atmosphere diluted by hydrogen or nitrogen as first heat treatment, and a defect produced by the MOS transistor, an insulation film formation process or the like is restored.
その後、第１の熱処理として水素、又は窒素等で希釈された水素雰囲気中にて、３００乃至５００℃程度の温度で、５乃至６０分間程度の熱処理し、ＭＯＳトランジスタ及び絶縁膜形成工程等によって生じる欠陥を回復する。 - 特許庁 - To propose a screen printing device and a screen printing method which are capable of preventing a recess-shaped defect on a formed film from occurring on the occasion of using a screen printing process under a reduced pressure, a manufacturing method of a light-emitting device using the method, and an electronic apparatus.
減圧下においてスクリーン印刷法を用いる際に、形成された膜上への凹状欠陥の発生を防止することができるスクリーン印刷装置、スクリーン印刷方法、及びこの方法を用いた発光装置の製造方法、電子機器を提案する。 - 特許庁 - To provide a processing method and a processing apparatus for a planographic printing plate, by which a planographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer and using a high definition screen for image exposure can be developed for a long period of time without causing an image defect such as process irregularity.
画像露光において高精細スクリーンを用いる光重合性感光層を有する平版印刷版を長期間にわたって処理むら等の画像欠陥を生ずることなく現像処理できる、平版印刷版の処理方法及び処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a visual inspection device and a visual inspection method, capable of confirming the propriety of a production process of forming a pattern appearing on the surface of a semiconductor wafer or the like, at the same time as with the visual inspection of a defect appearing on a wafer surface.
半導体ウエハなどの表面に現れるパターンを形成した製造プロセスが適切であるか否かを、このウエハ表面に現れる欠陥の外観検査と同時に確認することが可能な外観検査装置及び外観検査方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a waterless lithographic printing plate with which the edge form in a print is made sharp and the provides print having no defect such as waves, whiskers or thickening, in the process of forming a fine pattern such as a back plate for a plasma display panel and electronic parts.
プラズマディスプレイパネル用の背面版や電子部品等の微細なパターンを形成する際において、印刷物のエッジ形状がシャープに形成でき、しかも、印刷物にうねりや、ヒゲや、太り等の欠陥が生じない水なし平版印刷版を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a phase shift mask which makes the discovery of the defect produced in a phase shift layer possible in an early stage of a manufacturing process, a phase shift mask manufactured by this method for manufacturing the phase shift mask and a device manufactured by the phase shift mask.
製造プロセスの早い段階で位相シフト層に生じた欠陥の発見を可能とする、位相シフトマスクの製造方法、その位相シフトマスクの製造方法により製造された位相シフトマスク、および、その位相シフトマスクにより製造された装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a production process for chlorine dioxide aqueous solution that eliminates the defect that troublesome concentration adjustment of the hypochlorite solution with an expensive measuring device in order to suppress the chlorine content low, the manufacturing equipment therefor, an easier method for producing chlorine dioxide including a small amount of chlorine, the maintenance-free manufacturing equipment for chlorine dioxide.
塩素含有量を低く抑えるために高価な測定装置を用いて次亜塩素酸塩溶液の煩わしい濃度調整濃度をしなければならない欠点を除いた二酸化塩素水の製造方法およびその製造装置を提供する. - 特許庁 - To rapidly detect printing defects such as doubled image and thin spot and also a printing defect due to the abnormal balance of ink and water and an unstable factor in a platemaking process during the quality inspection and control of printed matter and thus prevent wasteful printing from being carried out.
印刷物の品質を検査あるいは管理する際に、ダブリやスラーといった印刷不良、インキ・水バランス異常による印刷不良、さらに版作成工程の不安定要因に起因する印刷不良を速やかに検知し、無駄な印刷を防ぐことを目的とする。 - 特許庁 - To provide a method of delivering a semiconductor manufacturing composite solution, a manufacturing method, a pipe line and a manufacturing apparatus, thoroughly restraining the mixing-in of a foreign matter that can cause a defect in a manufacturing process, and remarkably reducing a content of the foreign matter.
製造過程においてディフェクト要因となり得る異物の混入を十分に抑制することができ、異物含有量が極力低減された半導体製造用組成物溶液の送液方法、製造方法、配管、及び製造装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an apparatus for processing an image which can correct a defect accurately by interpolating process reflecting them even if a complicated boundary or a pattern exists in the defective part and which can accelerate a processing speed by suppressing an amount of calculations.
欠陥部内に複雑な境界や模様が存在する場合であってもそれらを反映した補間処理によって正確に欠陥を修正することが可能であるとともに、演算量を抑えて処理速度を高めることが可能な画像処理装置を提供する。 - 特許庁 - The threshold voltage of the element is prevented from varying since an impurity activating process for the source/drain area can be omitted, and no determination defect of the substrate is generated since the impurities are diffused in a solid state, so that a leak current flowing through a joint can be reduced.
ソース／ドレーン領域の不純物活性化工程が省略できるので素子のスレショルド電圧変動を防止でき、固体状態で不純物を拡散させるために基板の決定欠陥が発生せず、よって接合を通じた漏れ電流を減らせる。 - 特許庁 - In such method of fabricating semiconductor device, the gap between the gates 120 is embedded without any void defect, and reliability of semiconductor device can be improved by conducting the sputter etching process when the inter-layer insulation film 130 is formed on the gate pattern.
このように、半導体装置の製造方法において、ゲートパターン上に層間絶縁膜１３０を形成する時にスパッタエッチング工程を行えば、ゲート１２０間のギャップがボイド欠陥無しに埋め込まれ、半導体装置の信頼性を高めることができる。 - 特許庁 - In a sizing process, deformation processing is applied to a steel pipe electro-resistance-welded having a circular section in a direction wherein a fine defect in the weld is enlarged by sizing rolls for the deformation processing, and ultrasonic flaw inspection of the weld is performed in this state.
サイジング工程の中で、電縫溶接された断面が円形の鋼管を、変形加工用のサイジングロールにより溶接部の微少な欠陥が拡大する方向に変形加工を施し、この状態で溶接部の超音波探傷検査を行うようにした。 - 特許庁 - In the manufacturing method, manufacturing processes can be decreased, by detecting whether the circuit pattern is proper, and an open-circuit or short-circuit defect in an optical inspecting process and the yield of following processes can be improved.
また、本発明の検査方法は、測定された幅が画素の大きさより大きな不良が検出されないと、回路パターン又は空間成分の明るさレベルを垂直方向により細かく分析して、オープン、ショート又は残留銅箔に応じる不良を検出する。 - 特許庁 - To provide an optical member inspection device having the capability of reasonably grouping a plurality of extracted elements having the same defect factors and separated at a binarization process after binarizing image data obtained by photographing an optical member as an inspection object.
検査対象光学部材を撮像して得られた画像データを２値化した後で、同一の不良要因に起因しているが二値化の過程で分離されてしまった複数の抽出要素を合理的にグループ化することができる光学部材検査装置を、提供する。 - 特許庁 - To provide a method for a laser beam machining not causing a machining defect at the time of transition from a penetrating hole (piercing hole) to a cutting process in a cutting with a laser beam, a control is easily performed and the cutting time at the time of transition to a regular cutting is decreased.
レーザビームによる切断加工において、貫通穴（ピアシング穴）から切断加工に移行する際の加工不良が発生せず、また、制御が簡単でかつ本切断移行時の加工時間を短縮できるレーザ加工方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a homeotropic-alignment-mode liquid crystal display device and its manufacture which have a wide field angle and a fast response speed and can have none of an alignment defect and deterioration of an alignment layer due to a rubbing process, etc., and high yielding.
広い視野角と高速な応答速度とを有し、しかもラビング処理等による配向欠陥や配向膜の劣化を招くことがなく、高い歩留まりを得ることができるホメオトロピック配向モードの液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a process for the production of a glass substrate for a flat panel display, causing little deformation of the substrate after division even in the case of a large-sized glass and giving a display free from the problem of the generation of displaying defect caused by the deviation of the pattern from desired design.
本発明の目的は、大板ガラスであっても、分割切断後の変形が少なく、パターンが所期の設計からずれてディスプレイの表示不良が発生するということがないフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法を提供することである。 - 特許庁 - In the manufacture of the defective mask for inspecting a defect in a pattern transfer mask used in a semiconductor lithography process, the mask pattern 4 that is the same as a pattern transfer mask to be inspected is formed on a mask substrate that becomes the base of the defective mask.
半導体体リソグラフィ工程にて用いられるパターン転写マスクの欠陥を検査するための欠陥マスクを製造するのにあたり、その欠陥マスクの基となるマスク基板上に、検査対象となるパターン転写マスクと同一のマスクパターン４を形成する。 - 特許庁 - To provide manufacturing technology of a semiconductor device, which can extract a representative defect that reflects an occurrence situation of a detected defect in a process for detecting a plurality of the defects existing in a pattern formed in a semiconductor substrate, extracting the prescribed number of the defects from a plurality of the detected defects and inspecting an appearance on the prescribed number of the extracted defects.
半導体基板に形成されたパターンに存在する複数の欠陥を検出し、検出した複数の欠陥の中から所定数の欠陥を抽出した後、抽出した所定数の欠陥について外観検査を実施する工程において、検出した欠陥の発生状況を反映した代表的な欠陥を抽出することができる半導体装置の製造技術を提供する。 - 特許庁 - To provide an electrophotographic device and a process cartridge which can stably form an image of good quality without generating an image defect even when an electrophotographic device using a pre-exposure means for an electrophotographic photoreceptor applies only a DC voltage to an electrostatic charging member to perform electrostatic charging, and an electrostatic charging member which is applied to such an electrostatic device and a process cartridge.
電子写真感光体への前露光手段を用いた電子写真装置において帯電部材に直流電圧のみを印加して帯電を行った場合でも、画像欠陥を発生させることなく、かつ、良質な画像を安定して形成することのできる電子写真装置、プロセスカートリッジ、およびそのような電子写真装置やプロセスカートリッジに適用される帯電部材を提供する。 - 特許庁 - Productivity is thereby enhanced while saving the cost by skipping the photographic step in a process for producing a semiconductor package being used for driving an LCD, reliability of a product is improved by preventing occurrence of a defect in the process for forming the circuit pattern 110 of metallic material and a circuit pattern having a fine line width is produced more efficiently.
したがって、ＬＣＤ駆動用として使われる半導体パッケージの配線基板を製造する過程で写真工程を省略してコスト節減及び生産性の向上効果が得られ、金属材質の回路パターン１１０を作る過程で発生する欠陥を防止して製品の信頼性を改善し、微細線幅を有する回路パターンをさらに効率的に作られる。 - 特許庁 - A cassette station S1, a process station S3 having an applying station 42 and a developing unit 41, and an inspecting station having a film thickness inspector 31 and a defect inspector 32 are arranged approximately right angles to a cassette 22 array in the cassette station S1, with the inspecting station S2 being disposed between the cassette and the process stations S1, S3.
カセットステーションＳ１と、塗布ユニット４２と現像ユニット４１とを備えた処理ステーションＳ３と、膜厚検査装置３１と欠陥検査装置３２とを備えた検査ステーションＳ２とを、カセットステーションＳ１のカセット２２の配列方向にほぼ直交する方向に、前記検査ステーションＳ２が前記カセットステーションＳ１と処理ステーションＳ３との間に設けられるように配置する。 - 特許庁 - A print platform includes: a plurality of marking engines 20 that process jobs; a marking engine analyzer (analysis component) 14 that determines image quality defects of the marking engine; and a scheduler 18 that creates a plan to process a job with the marking engine based on each image quality defect of the marking engine in order to minimize visibility of the defects in images reproduced by the marking engine.
印刷プラットフォームは、ジョブを処理する複数のマーキングエンジン２０と、マーキングエンジンの画質欠陥を判断するマーキングエンジンアナライザ（分析コンポーネント）１４と、マーキングエンジンにより複製された画像における欠陥の可視性を最小にするように、マーキングエンジンの各々の画質欠陥に基づいて、マーキングエンジンによってジョブを処理する計画を生成するスケジューラ１８と、を含む。 - 特許庁 - (1) This manufacturing method includes processes of: forming polysilicon layers on outer surfaces of a silicon wafer formed with a non-defect region cut out from a silicon single-crystal ingot grown by Czochralski method; applying an RTA process to the wafer with the polysilicon layers formed thereon; and removing the polysilicon layer at least on one-side principal surface of the wafer after the RTA process.
（１）チョクラルスキー法により育成されたシリコン単結晶インゴットから切り出された無欠陥領域からなるシリコンウェーハの外表面にポリシリコン層を形成する工程と、前記ポリシリコン層を形成したウェーハにＲＴＡ処理を施す工程と、ＲＴＡ処理後のウェーハのすくなくとも一方の主面のポリシリコン層を除去する工程とを有する製造方法。 - 特許庁 - To provide an improve pattern matching inspection method and device therefor capable of detecting a wiring defect in a wiring pattern in a printed wiring board, LSI(Large Scale Integrated Circuit), and a photomask duplicate for them, and judging whether they are good or not in a manufacturing process of the printed wiring board.
プリント基板やＬＳＩ（大規模集積回路）、そのためのフォトマスク複製物における配線パターンの配線欠陥を見つけ出して良、不良判断をプリント基板の製造過程において行なえる改良されたパターンマッチング検査方法及び検査装置を提供すること。 - 特許庁 - To quickly and surely extract a defective by monitoring a sheet subjected to a folding process for example and being conveyed to a stacker to thereby detect a defect before being discharged to the stacker, and to quickly and surely carry out an adjustment of a folding timing of a folding machine and a replacement of parts.
スタッカーに排出する前、例えば折り加工を終えてスタッカーに向けて搬送されているシートを監視して不良を検出することによって、不良品の抜き取りはもちろん、折り機の折りタイミングの調整や部品交換などが迅速、且つ、確実に行えるようにすることを目的とする。 - 特許庁 - To provide an electrophotographic photoreceptor having low residual potential, no defect in electrification, small photomemory, high image quality, high sensitivity characteristics and stable potential characteristics in repetitive use and to provide a process cartridge using the photoreceptor and an electrophotographic device.
本発明の目的は、残留電位が低く、帯電欠陥がなく、フォトメモリーが小さく、高画質で高感度特性と繰り返し使用時の安定した電位特性を有する電子写真感光体、該電子写真感光体を用いたプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することにある。 - 特許庁 - To solve the problem that a process for decreasing a leak current caused by an influence of defect in an implantation of a fluorine ion is required for a p-channel MOS transistor which suppresses diffusion of a boron ion to channel regions in a lateral direction by the fluorine ion to prevent an occurrence of a short channel effect.
フッ素イオンによりボロンイオンのチャネル領域への横方向拡散を抑制して短チャネル効果の発生を防止するｐチャネル型ＭＯＳトランジスタには、フッ素イオン注入時の欠陥による影響起因のるリーク電流を減らすプロセスが必要となっている。 - 特許庁 - To provide a process for producing an oxide magnetic body in which remanent magnetic flux density can be enhanced, although it has been difficult hitherto, by improving the defect of dry molding, i.e. so-called "the ratio of remanent magnetization/saturation magnetization" in dry molding having high molding speed as compared with wet molding.
湿式成形に比べて成形速度が速い乾式成形において、乾式成形の欠点であるといわれる「（残留磁化／飽和磁化）の比」を改善して、従来より困難であるとされていた残留磁束密度を向上させることのできる酸化物磁性体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method in which a cast and forged product without a substantially problematic defect even when used in a later forging process is inspected with high inspection accuracy and with satisfactory efficiency, by a method wherein a so-called preform after a casting operation or a finished product as required is inspected.
鋳造後のいわゆるプリフォーム或いは必要により完成部品を検査することにより、その後の鍛造工程で使用しても、実質的に問題となるような欠陥を有しない鋳造鍛造品を検査精度高く、かつ、検査効率よく、検査する方法の提供。 - 特許庁 - Since the spacers 4 have the sticking layers 5, the sticking force of the substrates 1a and 1b increases and the movement of the spacers 4 by the impact and vibration in a liquid crystal injection process can be prevented and the damage of pixel regions by the movement, the occurrence of a cell gap defect, etc., can be prevented.
また、スペーサ４が固着層５を有するので、基板１ａ、１ｂとの固着力が増加し、液晶注入工程において衝撃・振動によるスペーサ４の移動を防止できるとともに、移動による画素領域２の傷つき、セルギャップ不良の発生等を防止できる。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a semiconductor wafer which can manufacture a semiconductor wafer by a simple manufacturing process which wafer has lattice strain sufficient to improve mobility of electrons in spite of comparatively simple lamination structure and is provided with an Si layer having little crystal defect.
比較的単純な積層構造にもかかわらず、電子の移動度を高めるのに十分な格子歪みを有し、かつ、結晶欠陥の少ないＳｉ層を有する半導体ウェーハを簡便な製造プロセスにより製造することのできる半導体ウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁
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