A liquid supply system 8 and a control device 9 are connected to the control tank 5, and the concentrations of chemical species derived from carbonic acid gas and of an alkaline component in a used liquid W are controlled to specified control values, based on the measurements by densitometers 51, 52. また、調整槽5には、液供給系8及び制御装置9が接続されており、濃度計51,52による実測値に基づいて使用済液W中の炭酸ガス由来の化学種及びアルカリ成分の濃度が所定の管理値に調整される。 - 特許庁
To reduce equipment cost by suppressing the installing number of densitometers 70 for measuring the concentration of etching liquids to control the concentration in an etching device provided with a plurality of treatment parts 20 performing etching treatment using the etching liquids, and to improve the accuracy of etching treatment by increasing the accuracy of the measurement. エッチング液を用いてエッチング処理を行う複数の処理部20,20,…を備えたエッチング装置において、エッチング液の濃度を濃度計70で測定して濃度管理を行う際に、濃度計70の設置数を抑えて設備コストの低減を図るとともに、測定精度を高めてエッチング処理の精度向上に貢献できるようにする。 - 特許庁