「density pattern method」を含む例文一覧(284)
1 2 3 4 5 6 次へ＞- METHOD AND DEVICE FOR ELIMINATING DIFFERENCE BETWEEN HIGH-DENSITY PATTERN AND LOW-DENSITY PATTERN
高密度パターンと低密度パターンとの変差を解消する方法と装置 - 特許庁 - PRINTING METHOD, METHOD FOR READING DENSITY OF PRINTING PATTERN, PRINTER, AND APPARATUS FOR READING DENSITY OF PRINTING PATTERN
印刷方法、印刷パターンの濃度読み取り方法、印刷装置、及び、印刷パターンの濃度読み取り装置 - 特許庁 - To provide a pattern forming method for forming a hole pattern in high density.
ホールパターンを高密度に形成するパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING RECORDING DENSITY DETECTING PATTERN AND RECORDER
記録濃度検出パターン形成方法および記録装置 - 特許庁 - SETTING METHOD OF CORRECTION VALUE, AND TEST PATTERN FOR DENSITY CORRECTION
補正値の設定方法、及び濃度補正用のテストパターン - 特許庁 - PATTERN RECOGNITION DEVICE AND METHOD USING PROBABILITY DENSITY FUNCTION
確率密度関数を用いたパターン認識装置および方法 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD FOR PATTERN DATA DENSITY INSPECTION AND RECORDING MEDIUM STORED WITH PATTERN DATA DENSITY INSPECTING PROGRAM
パターンデータ密度検査装置及び密度検査方法並びにパターンデータ密度検査プログラムが記憶された記録媒体 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD HAVING HIGH-DENSITY COPPER PATTERN
高密度銅パターンを有したプリント配線板の製造方法 - 特許庁 - To provide a method of forming a pattern which can form a fine and high-density pattern with a high precision.
微細な高密度パターンを高精度に形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - MIST LIKE VARIABLE DENSITY PATTERN SHEET MATERIAL AND METHOD AND APPARATUS FOR CONTINUOUSLY PRODUCING THE SAME
霞状濃淡模様シート材、その連続製造方法、装置 - 特許庁 - METHOD FOR JUDGMENT OF PRESENCE OR ABSENCE OF READING OF DENSITY OF FOREIGN OBJECT AND METHOD FOR CALCULATION OF REPRESENTATIVE VALUE OF DENSITY OF TEST PATTERN
異物濃度の読み取り有無の判定方法、及び、テストパターンの濃度の代表値を算出する方法 - 特許庁 - FORMING METHOD OF HIGH DENSITY RECORDING MEDIUM, PATTERN FORMING METHOD, AND ITS RECORDING MEDIUM
高密度記録媒体の形成方法、パターン形成方法及びその記録媒体 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR MEASURING PATTERN DENSITY, FILM- THICKNESS MEASURING METHOD, AND PROCESS CONTROL METHOD
パターン密度計測方法及び計測装置及び膜厚計測方法及びプロセス制御方法 - 特許庁 - BONE TRABECULAR INDEX SETTING METHOD AND BONE DENSITY MEASURING METHOD USING BONE TRABECULAR PATTERN
骨小柱パターンを利用した骨小柱指標設定方法および骨密度測定方法 - 特許庁 - HIGH DENSITY CARBON NANOTUBE FILM OR MANUFACTURING METHOD FOR BIOCHIP USING PATTERN
高密度カーボンナノチューブフィルムまたはパータンを用いたバイオチップの製造方法 - 特許庁 - To enable formation of a desired pattern regardless of a density of the pattern when a double patterning method is used.
ダブルパターニング法を用いる場合にパターンの疎密に拘わらず、所望のパターンを形成できるようにする。 - 特許庁 - In a determination method of the density of the line pattern formed relative to each stripe, when the density of an adjacent stripe is higher than the density of the pertinent stripe, the line pattern having the lowest density is formed, and on the other hand, when the density of the adjacent stripe is lower than the density of the pertinent stripe, the line pattern having the highest density is formed.
各々のストライプに対し形成するラインパターンの濃度の決定法は、該当するストライプの濃度に対し、隣接するストライプの濃度が高い場合には最低濃度のラインパターンを形成し、逆に、該当するストライプの濃度に対し、隣接するストライプの濃度が低い場合には最高濃度のラインパターンを形成する。 - 特許庁 - In the method, image density control is carried out by using the control patch consisting of a dither pattern.
ディザパターンから成る制御用パッチを用いて画像濃度制御を行う。 - 特許庁 - METHOD OF ACQUIRING CORRECTION VALUE OF DENSITY, AND MEDIUM WITH PATTERN FOR CORRECTION PRINTED
濃度の補正値の取得方法、及び補正用パターンが印刷された媒体 - 特許庁 - To provide a method of forming a wiring pattern at high density while mainly using isotropic etching suitable for mass-production but inappropriate for high density of a wiring pattern.
量産に適する等方性エッチングを主に用いて配線パターンを形成する方法では配線パターンの高密度化が困難である。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method independent of the density of a pattern and giving a pattern having good line width accuracy to design value.
パターンの疎密に依存せず、設計値に対する線幅精度の良好なパターンを得ることが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To obtain a method for forming a fine pattern in which controllability of pattern dimensions can be ensured and dependency on the density of pattern can be controlled.
パターンの微細化に際して、パターン寸法の制御性を確保することができ、かつ、パターンの疎密依存性を制御できるようにする。 - 特許庁 - APPARATUS, METHOD AND SYSTEM FOR FABRICATING SERVO PATTERN ON HIGH DENSITY PATTERNED MEDIA
高密度パターン化メディア上でサーボパターンを加工するための装置、方法、およびシステム - 特許庁 - To provide a pattern formation method for forming a high-density/high-definition pattern in a short period, and to provide a circuit substrate.
高密度・高精細なパターンを短時間に形成することができるパターン形成方法及び回路基板を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of forming a conductor pattern that is independent of the density of pattern and can establish the uniformity of film thickness.
パターンの疎密に依存せず基板面内の膜厚均一性がよい導体パターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁 - To enlarge a depth of focus by considering a method for disposing an auxiliary pattern according to the pattern possession density, relating to an exposure mask, a mask pattern correction method and a semiconductor device.
露光用マスク、マスクパターン補正方法、及び、半導体装置に関し、パターンの占有密度等に応じて補助パターン配置方法を考慮し、焦点深度を拡大する。 - 特許庁 - To provide a method for forming a resist pattern capable of forming a sufficiently fined thin-film pattern, the method for forming the thin-film pattern and a manufacturing method for a micro-device having a sufficiently increased density.
本発明は、十分に微細化された薄膜パターンを形成することが可能なレジストパターンの形成方法及び薄膜パターンの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - TONER DENSITY ESTIMATING METHOD AND APPARATUS USING TEST PATTERN AND TONER SUPPLYING METHOD AND APPARATUS USING THEM
テストパターンを用いたトナー濃度推定方法及び装置、並びにそれを用いたトナー供給方法及び装置 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a circuit board, by which a high-density narrow-pitch wiring pattern can be formed.
高密度狭ピッチな配線パタ−ンを形成可能な回路基板の製造法を提供する。 - 特許庁 - To provide a new method capable of forming a micro-pattern of high density by a simple process.
簡易な工程で高密度のマイクロパターンを形成することのできる新規な方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a forming method of a coated pattern capable of forming a coated pattern without using CVD, and a forming method of a high density pattern using the method.
ＣＶＤを使用することなく、被覆されたパターンを形成することが可能な被覆パターン形成方法およびこれを利用してより高密度なパターンを形成するパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device which is equipped with a dummy pattern (actual dummy pattern) that is effectively arranged to an actual pattern such as a wiring and as high in pattern density as required, and to provide a method of arranging the actual dummy pattern.
配線などの実パターンに対し効果的に配置されたダミーパターン（実ダミーパターン）を具備し、所望のパターン密度を有する半導体装置及びそのような実ダミーパターンを配置する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming member which has high-density recessed parts on the surface and can simply be manufactured, and to provide a method of manufacturing the pattern forming member.
表面に高密度の凹部を有し、かつ、簡易に製造が可能なパターン形成体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - TARGET COLOR MIXTURE HALFTONE DENSITY SETTING METHOD AND DEVICE FOR PRINTER, AND PATTERN COLOR TONE CONTROL METHOD AND DEVICE FOR PRINTER
印刷機の目標混色網濃度設定方法及び装置並びに印刷機の絵柄色調制御方法及び装置 - 特許庁 - To provide a self-aligned spacer multiple patterning method which permits the formation of a high-density resist pattern.
高密度レジストパターンの形成を可能にする、自己整合型スペーサー多重パターニング方法を提供する。 - 特許庁 - To provide technology by which a printing result is enhanced when a density pattern method is used.
濃度パターン法を利用する場合の印刷結果を向上させることのできる技術を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for a semiconductor device which can form a precise fine pattern by reducing the influence of uneven density of the pattern.
パターンの粗密の影響を低減し、精度のよい微細パターンを形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - SETTING METHOD AND DEVICE OF TARGET COMPOUND COLOR SCREEN DENSITY OF PRINTING MACHINE AND CONTROLLING METHOD AND DEVICE OF COLOR TONE OF PATTERN OF PRINTING MACHINE
印刷機の目標混色網濃度設定方法及び装置並びに印刷機の絵柄色調制御方法及び装置 - 特許庁 - There is provided a flare prediction method in a photolithography comprising: a step S14 of obtaining a pattern density distribution of a pattern layout; a step S15 of obtaining a gradient of change in the pattern density distribution; and steps S16 to S19 of performing flare computations in a plurality of division sizes which are based on the gradient of change in the pattern density distribution.
フォトリソグラフィにおけるフレアの予測方法であって、パターンレイアウトのパターン密度分布を求める工程Ｓ１４と、パターン密度分布の変化の傾きを求める工程Ｓ１５と、パターン密度分布の変化の傾きに基づく複数の区画サイズでフレア計算を行う工程Ｓ１６〜Ｓ１９とを備える。 - 特許庁 - To provide a correcting method of a design pattern which performs the correction of proximity effect to a design pattern by converting the area density of the design pattern into figure data so that the area density of the design pattern can be inputted into a general-purpose figure operating tool as a parameter.
設計パターンの面積密度を汎用的な図形演算ツールにパラメータとして入力できるように、設計パターンの面積密度を図形データに変換し、設計パターンに対して近接効果の補正を行う設計パターンの補正方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a technology capable of easily enhancing print results when a density pattern method is utilized.
濃度パターン法を利用する場合の印刷結果を容易に向上させることのできる技術を提供する。 - 特許庁 - To obtain a method for forming a servo tracking pattern on a magnetic disk by magnetic transfer even if a recording density is improved.
記録密度が向上しても磁気転写によりサーボトラッキングパターンを磁気ディスクに形成できる方法を得る。 - 特許庁 - To provide a wiring pattern forming method of capable of narrowing a wiring pattern in wiring width and enhancing it in density and a laminated wiring board.
配線パターンの配線幅を狭くすることができ、高密度化が可能な配線パターン形成方法及び積層配線基板を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a printed wiring board having a metal wiring pattern of a predetermined width particularly preferable upon obtaining a high density metal wiring pattern.
高密度の金属配線パターンを得る場合に特に好ましい、所定の幅の金属配線パターンを備えたプリント配線板の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a ceramic circuit substrate in which in increasing the density of the ceramic circuit substrate, a high density pattern by a thick film intaglio transfer method is formed as an inner packaging conductor.
セラミック回路基板の高密度化において、厚膜凹版転写法による高密度パターンを内装導体としたセラミック回路基板の製造方法を提供する事を目的とする。 - 特許庁 - To provide an image processing technology for establishing the high speed operation of a density pattern method and high picture quality equivalent to that of an error diffusion method(or blue noise mask method).
濃度パターン法の高速化と誤差拡散法（或いはブルーノイズマスク法）並みの高画質を両立させ得る画像処理技術を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern drawing method for accurately correcting the dimension difference of pattern roughness and fineness by development loading, by adjusting an irradiation energy amount using a relational expression of a pattern area density and a dimension variation amount or a reference table in addition to a circuit pattern density distribution inside a photomask surface.
フォトマスク面内の回路パターン密度分布に加え、パターン面積密度と寸法変動量の関係式あるいは基準テーブルを用いて照射エネルギー量を調整することで、現像ローディングによるパターン疎密の寸法差を精度良く補正するパターン描画方法を提供する。 - 特許庁 - To reduce a necessary storage capacity while correcting streaks resulting from the characteristics of every recording element in a density pattern method.
濃度パターン法において、各記録素子の特性に起因するスジムラを補正しつつ、必要な記憶容量を削減する。 - 特許庁 - To provide a method of forming a conductor pattern which is hardly disconnected and has high density on the surface of a ceramic.
セラミック表面に断線が生じ難い導体パターンを高密度で形成する導体形成方法を提供する。 - 特許庁 - Conventionally, a difference of pattern density/position near a pattern to be measured has been an error factor, however, this method improves measurement accuracy since the information of the pattern density/position within a necessary and sufficient area is reflected to the library.
従来，計測対象パターン近傍のパターン密度／配置の違いが断面形状計測の誤差要因となっていたが，この方法によれば，必要十分な領域範囲内でのパターン密度／配置の情報がライブラリに反映されるため，計測精度が向上する。 - 特許庁
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