A positive resist, as has been referred to, is a composition of a relatively high molecular weight, such as a polymer, which depolymerizes upon exposure to UV light. ポジティブレジストは、上述のように、比較的に高分子量の組成物(例えば、重合体)であり、これは、UV光に暴露すると、解重合する。 - 特許庁
The top coat composition comprises a silicon-containing polymer prepared by hydrolysis or condensation of at least one silica source; a solvent; optionally a catalyst; and optionally water, wherein the silicon-containing polymer depolymerizes upon exposure to an aqueous base-containing solution. 少なくとも1つのシリカ源の加水分解及び縮合によって調製されるシリコン含有重合体、溶媒、任意に触媒、そして任意に水を含むトップコート組成物において、シリコン含有重合体が含塩基水溶液に曝露されることにより解重合するように、構成する。 - 特許庁