「design patterns」を含む例文一覧(323)

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  • design patterns for the use gentlemen
    男向きの模様 - EDR日英対訳辞書
  • DESIGN METHOD FOR WIRING PATTERNS
    配線パターンの設計方法 - 特許庁
  • Applying Design Patterns to XML Schema Files
    XML スキーマファイルへのデザインパターンの適用 - NetBeans
  • a pattern having reticulate patterns as the background design
    地に網状の模様がある更紗模様 - EDR日英対訳辞書
  • cloth which has a design of splashed patterns on a white background
    白地のかすり模様のある織物 - EDR日英対訳辞書
  • (of e.g. fabric design) adorned with patterns
    （織物のデザインなどについて）パターンで飾られる - 日本語WordNet
  • There are patterns such as doshinen-mon design, spiral-mon design, parallel lines-mon design, feather-mon design and triangle-mon design clearly curved convexly on them.
    表面には同心円文や渦巻文、平行線文、羽状文、三角文などの文様が凸状に明瞭に刻まれている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • They have design such as Calico patterns and 'Astro Boy.'
    更紗模様や「鉄腕アトム」の図柄などをあしらっている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • Design patterns to be formed on a sensitive substrate are set.
    感応基板上に形成すべき設計パターンを設定する。 - 特許庁
  • Next, the patterns of the library for the drawing data corresponding to the patterns of the library for the design data and the patterns of the drawing data converted from the design data exclusive of the patterns of the library for the design data are superposed on each other (F12).
    次に、設計データのライブラリーのパターンに対応する描画データのライブラリーのパターンと、設計データのライブラリーのパターンを除く設計データから変換された描画データのパターンとを重ね合わせる（Ｆ１２）。 - 特許庁
  • Applications of the entity patterns are validated at design time.
    エンティティパターンのアプリケーションは、設計時に妥当性が検証される。 - 特許庁
  • On the kaeribana (lotus petal design carved around the lower base kiban) and hamaguriza (a kind of pedestal), hail patterns are provided.
    反花・蛤座には霰の文様が施されている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • Next, the design data is formed by using the patterns of the library for the design data (F6) and the portions exclusive of the patterns of the library for the design data in the design data are converted to the drawing data (F11).
    次に、設計データのライブラリーのパターンを用いて設計データを作成し（Ｆ６）、設計データのうち設計データのライブラリーのパターンを除く部分を描画データに変換する（Ｆ１１）。 - 特許庁
  • A screen design 114 constitutes screen patterns by combining components of components design 113.
    画面設計図１１４は部品設計図１１３の部品を組み合わせて画面パターンを構成している。 - 特許庁
  • Furthermore, design is facilitated by regularly arranging the projecting and recessing patterns inside the pixels.
    さらに画素内で規則的に配置することで、設計が容易となる。 - 特許庁
  • A library for the design data is formed by forming the patterns constituting part of the design data and a library for the drawing data is formed by converting the patterns of the library for the design data to the drawing data.
    設計データの一部となるパターンを作成して設計データのライブラリーを形成し、設計データのライブラリーのパターンを描画データに変換して描画データのライブラリーを作成する。 - 特許庁
  • Next circuit patterns are formed in accordance with the set design rule (SB2) and thereafter, whether the formed circuit patterns satisfy the design rule or not is certified (SB3).
    次に、設定されたデザインルールに基づいて回路パターンを作成した後（ＳＢ２）、作成した回路パターンがデザインルールを満たしているかを検証する（ＳＢ３）。 - 特許庁
  • To enlarge a selecting width of lighting patterns and increase design flexibility.
    照明態様の選択幅を広くし、かつ、意匠的自由度を大きくする。 - 特許庁
  • To provide an image forming apparatus and a control method thereof that cannot establish image processing of disabling a design pattern effect to images with design patterns and warrants the design patterns by prioritizing the design pattern effect even when the image processing is established.
    地紋が付加された画像に対しては地紋効果がなくなる画像処理を設定できない、設定された場合でも地紋効果を優先させることで、地紋パターンを保障する画像形成装置及びその制御方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a decorative panel that can be provided with patterns of high design property without impairing the continuity of the patterns.
    柄の連続性が損なわれないようにして意匠性の高い柄を具現することができる化粧パネルを提供する。 - 特許庁
  • The reach point display device is provided with a reach point display panel 17 where reach point design patterns a, b, c, d... corresponding to design patterns displayed on rotation surfaces when rotation reels 10, 11 and 12 are stopped are arrayed and which contains a light emitting element for light-emit-displaying the respective reach point design patterns.
    回転リール１０，１１，１２の停止時に回転面に表示される絵柄パターンに対応したリーチ目絵柄パターンa,b,c,d・・・が配列され、夫々のリーチ目絵柄パターンを発光表示させる発光素子を含むリーチ目表示パネル１７を設ける。 - 特許庁
  • To provide a design panel which enables two irregular patterns to be transferred with one design panel by eliminating the directivity of upper and lower portions of the design panel.
    デザインパネルの上下についての方向性をなくすことで１枚のデザインパネルで２種類の凹凸模様を転写可能とするデザインパネルを提供すること - 特許庁
  • To provide a screen design method and device for reducing generation of moire patterns.
    モアレパターンの発生を低減するためのスクリーン設計方法及び装置を提供すること。 - 特許庁
  • The arrangement design of the thin film patterns is carried out on the basis of the stamp region of each layer.
    複数の薄膜パターン配置設計を各層のスタンプ領域に基づいて行う。 - 特許庁
  • Using the NetBeans UML tool adds another great dimension to the Class Diagram, namely design patterns.
    NetBeans UML ツールを利用すると、クラス図に別の優れた一面、すなわちデザインパターンを追加できます。 - NetBeans
  • The NetBeans UML feature provides the Gang of Four (GoF) and Enterprise Java Beans (EJB) design patterns ready for use.
    NetBeans の UML 機能には、すぐに使用できる Gang of Four (GoF) および Enterprise Java Beans (EJB) デザインパターンが用意されています。 - NetBeans
  • To provide a method and a system to design hierarchically printed circuit patterns, which processes design data hierarchically with an object of using generalized common patterns, optimizes three dimension layouts and virtual terminals, and also realizes a short time design process for the printed circuit patterns.
    プリント基板パターン設計において、パターンの共通共用化を目的として、階層設計処理を行い、３次元配置および仮想端子の最適化により、設計期間短縮を実現する階層プリント基板パターン設計方法および装置を提供する。 - 特許庁
  • To support software development by systematically applying analysis patterns and design patterns and properly and efficiency reusing the patterns at the time of developing object-oriented software.
    オブジェクト指向ソフトウェアの開発にあたり、分析パターン、設計パターンなどを体系的に適用して、パターンを適切、かつ効率的に再利用可能とし、ソフトウェア開発を支援する。 - 特許庁
  • To provide a method for verifying a design pattern by which design patterns are verified while predicting an inoperable state of a circuit due to displacement in alignment and to provide a method for correcting a design pattern by which the above design patterns are subjected to necessary correction in accordance with the results of the verification.
    合わせずれによって回路が動作できないことがあることを予測して設計パターンを検証する設計パターンの検証方法と、その検証の結果に応じて、設計パターンに必要な補正を施す設計パターンの補正方法を提供する。 - 特許庁
  • Wachigai refers to a design that consists of many intersecting circles, and in yusoku-monyo (traditional design motifs, used either in single units or repeated to create patterns, based on designs from Heian courtly decoration) has a similar pattern called shippo.
    輪違という文様は、幾つもの輪を交差させたものをいい、有職文様では、同様のものを七宝ともいう。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • In accordance with the results of the verification, the first and second design patterns are corrected (ST7).
    さらに検証結果に応じて第１設計パターンおよび第２設計パターンを補正する（ＳＴ７）。 - 特許庁
  • The patterns are formed on the design surfaces 21 and 31 of the protruded corner column 2 and the outer wall plates 3.
    出隅柱２及び外壁板３の意匠面２１，３１には柄模様が形成されている。 - 特許庁
  • An auxiliary plate B is superposed on the horizontally held hair and the hair dyeing agents are applied to the design parts, by which the design patterns may be made in a short time.
    水平に保たれた髪の上に捕助板Ｂを重ね合わせ、デザイン部に染毛剤を塗布する事で、短時間にデザイン模様ができる。 - 特許庁
  • A business object similar to the request of the user 10 is extracted by comparing design patterns of the business objects by a design pattern analyzing part 103.
    デザインパターン分析部１０３は、ビジネスオブジェクトのデザインパターンを比較することにより、ユーザ１０の要求に類似したビジネスオブジェクトを抽出する。 - 特許庁
  • In addition to pattern design information 5 designed by a designer of a semiconductor integrated circuit, design intention information 6 where the importances of patterns are ranked according to the design intention is stored.
    半導体集積回路の設計者が設計したパターン設計情報５に加え、パターンの重要度をその設計意図に応じて順位付けした設計意図情報６を記憶する。 - 特許庁
  • To provide a practicable method for setting a design margin of mask patterns which determines the cross relations of the design margin, dimensional errors and superposition errors while studying an actual semiconductor process, a method for setting pattern accuracy and a method for setting the design margin of wafer patterns.
    実際の半導体プロセスを検討しながら、設計マージン、寸法誤差、重ね合わせ誤差の相互関係を求める実用的なマスクパターンの設計マージン設定方法、パターン精度設定方法およびウェハパターンの設計マージン設定方法の提供。 - 特許庁
  • The design 4 is drawn by combining a plurality of sets of first blocks 6 with a plurality of slender design patterns 5 being oriented in the vertical direction, and second blocks 8 with a plurality of slender design patterns 7 being oriented in the horizontal direction.
    絵柄４は、縦方向に細長形状の複数の柄パターン５を配向してなる第１ブロック６と、横方向に細長形状の複数の柄パターン７を配向してなる第２ブロック８とを複数個ずつ組み合わせて描画されている。 - 特許庁
  • To provide a light reflector having a variety of colors and patterns, suitably developing the colors and patterns and having excellent design flexibility.
    色彩及び模様の多様性を備えるとともに色彩及び模様を好適に表出させることが可能な、意匠性に優れた光反射体を提供する。 - 特許庁
  • Further, whether the patterns after the synthesis satisfy the prescribed mask pattern design rule or not is checked and if the rule is not satisfied, the patterns are properly corrected.
    さらに、前記グループ化後、および合成後のパターンが所定のマスクパターン設計ルールを満たしているか否かをチェックし、満たしていない場合は適宜修正する。 - 特許庁
  • Each diffraction map is generated with respect to each of a plurality of target patterns from the first larger set of the target patterns, from a design layout.
    それぞれの回折マップが、設計レイアウトから、ターゲットパターンの最初のより大きな集合からの複数のターゲットパターンのそれぞれについて生成される。 - 特許庁
  • To provide a method of correcting mask patterns of a photomask to be used in a photolithography process step in manufacturing a conductor integrated circuit, etc., having fine circuit patterns in such a manner that transfer patterns approximate to desired design patterns can be obtained by improving the dimensional uniformity of the transfer patterns.
    微細な回路パターンを有する導体集積回路等を製造する際のフォトリソグラフィ工程において使用するフォトマスクについて、転写パターンの寸法均一性を向上させて所望の設計パターンに近い転写パターンが得られるようにマスクパターンを補正する方法を提供する。 - 特許庁
  • The respective different design patterns are formed on the recessed part 2 and the flat surface part 3 by the ink jet coating.
    凹部２と平面部３とにそれぞれ異なる意匠模様がインクジェット塗装にて形成されている。 - 特許庁
  • To provide a roof improved in design by enhancing variation of color tone, patterns, and the like.
    色調や模様等のバリエーションを高めて、意匠性を向上させることができる屋根を提供すること。 - 特許庁
  • To allow the simple change of design patterns on the outside surface of a cartridge case of a disk cartridge.
    ディスクカートリッジにおいて、カートリッジケースの外表面のデザイン模様が簡単に変更できるようにする。 - 特許庁
  • To provide a roof for improving design by increasing variation like color tones or patterns.
    色調や模様等のバリエーションを高めて、意匠性を向上させることができる屋根を提供すること。 - 特許庁
  • This is a design method for a dummy pattern, which is inserted in wiring patterns 11-13, and 15-17 on a reticule.
    本発明は、レチクル上の配線パターン11〜13,15〜17に挿入するダミーパターンを設計する方法である。 - 特許庁
  • Ukiyoe is, in terms of expressiveness, characterized by clear-cut design, daring patterns, shadowless expression, etc.
    はっきりした図柄と大胆な構図、影の表現を持たないこと等が表現上の特徴である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • Tsunayoshi TOKUGAWA and Yoshimune TOKUGAWA used a leaf that was similar in design to the nuphar leaf patterns used for the Aizu-aoi.
    また、徳川綱吉、徳川吉宗は、会津葵のように、河骨の葉の図案に似た葉を用いている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • A design pattern image is created by using the dot patterns, and is superposed on an image of a printing object.
    それらのドットパターンを用いて地紋画像を生成し、それを印刷対象の画像に重畳する。 - 特許庁
  • Each of the plurality of corrected reference design patterns is subjected to the processes of calculating an error between the post exposure pattern and the corrected reference design pattern.
    そして、露光後パターンと、補正後標準設計パターンとの誤差を算出する処理を、複数の補正後標準設計パターンそれぞれ毎に行う。 - 特許庁
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