「developing solvent」を含む例文一覧(243)
＜前へ 1 2 3 4 5 次へ＞- The positive type photoresist composition contains a resin containing specified repeating structural units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified mixed solvent.
特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定混合溶剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁 - The positive photoresist composition contains a resin containing repeating units with a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and an organic solvent which dissolves the above components.
特定の構造の繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物および上記成分を溶解する有機溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁 - To provide a conductive composition capable of having both transparency and conductivity even after patterning by developing, a transparent conductive film excellent in solvent resistance, water resistance, alkali resistance or the like, using the composition, a display element using the transparent conductive film, and an accumulated type solar cell.
現像によるパターニング後でも透明性及び導電性が両立可能な導電性組成物、並びに該組成物を用いた耐溶剤性、耐水性、耐アルカリ性等に優れた透明導電膜、該透明導電膜を用いた表示素子、及び集積型太陽電池の提供。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive composition having a low dielectric constant, high transparency, high solvent resistance, high water resistance, high acid resistance, high alkali resistance, high heat resistance, excellent adhesion to a base, and the like, the composition which is useful for forming a patterned organic film obtained by developing with an alkali aqueous solution.
低誘電率であり、さらに高透明性、高耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、高耐熱性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた有機膜の形成に有用なポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition having no development residue, while keeping a high residual film ratio, capable of forming a pattern film having excellent low dielectric characteristics without spoiling film properties such as a light transmittance or solvent resistance even after high-temperature baking, in a developing process for forming the pattern film.
パターン膜を形成する現像工程において、高い残膜率を維持したまま、現像残渣がなく、高温ベーキング後においても光透過率、耐溶剤性等の塗膜物性を損なうことなく、低誘電特性に優れたパターン膜を形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - This colored fine particle dispersion comprising a coloring material and a resin is characterized in that the Rf value of the coloring material portion is 0 to 0.2, when the colored fine particle dispersion is subjected to a thin layer chromatography using water as a developing solvent.
色材と樹脂を含有する着色微粒子分散体において、着色微粒子分散体について展開溶媒を水とする薄層クロマトグラフィーを行ったとき、色材部分のＲｆ値が０以上、０．２以下であることを特徴とする着色微粒子分散体。 - 特許庁 - The radiation sensitive resist composition contains (A) a resin containing Si atoms and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a photo-acid generating agent, (C) a solvent and (D) a compound having a nitrogen-containing basic group and an acidic group in one molecule.
（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する、シリコン原子を含有する樹脂、(Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）溶剤、及び（Ｄ）分子内に含窒素塩基性基及び酸性基を有する化合物を含有することを特徴とする感放射線性レジスト組成物。 - 特許庁 - The positive type photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active rays or radiation, a resin having a specified structure and a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid and a specified mixed solvent.
活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定構造の酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び特定の混合溶剤を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁 - The positive photoresist composition contains a resin-containing specified silicon-containing repeating units and having solubility with respect to an alkali developing solution increased by the action of an acid, an acid generating agent which generates acid, when it is irradiated with active light or radiation and a specified mixed solvent.
特定のシリコン含有繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の混合溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁 - To provide a positive type photosensitive resin composition useful for forming a patterned resin film which has high transparency, a low dielectric constant, high solvent resistance, high water resistance, high acid resistance, high alkali resistance, high heat resistance, and excellent adhesiveness with a substrate and which is obtained by developing with an alkali aqueous solution.
高透明性、低誘電率性、高耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、高耐熱性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた樹脂膜の形成に有用なポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a thermal developing device by which the damage of a contact part for power supply and an adverse effect for a heat-developable material and the other device part are prevented by suppressing the generation of spark even though organic solvent is stuck to the contact part at the time of supplying power to a rotary drum.
回転ドラムに電力を供給する際に電力供給のための接触部分に有機溶媒が付着していてもスパークの発生を抑えられ接触部分の損傷及び熱現像材料や他の装置部分への悪影響を未然に抑制できる熱現像装置を提供する。 - 特許庁 - A resist removing step in which a resist coating material is removed with a solvent is carried out between an exposure step and an alkali developing step, the resist coating material is separated from waste liquor containing the dissolved resist coating material produced in the resist removing step and the separated resist coating material is refined and reutilized in a coating step.
露光工程とアルカリ現像工程との間に、溶媒を用いてレジスト塗料を剥離するレジスト剥離工程を行い、前記レジスト剥離工程で生じる前記レジスト塗料が溶解している廃液中から、レジスト塗料を分離、精製して、塗布工程において再利用する。 - 特許庁 - To provide a liquid type image forming device, a liquid type developing device and program recording medium where deficiency in image density, back ground soiling and deterioration in sharpness of an image due to utilization of a solvent for developer provided with a viscosity characteristic of a type dependant on shearing force can be decreased.
せん断力依存型の粘度特性を有する現像用溶液を用いることに起因する画像濃度不足、地汚れ、及び、画像シャープネス性の低下を軽減することができる液式画像形成装置、液式現像装置及びプログラム記録媒体を提供することである。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition having excellent sensitivity and developing solution resistance, from which an interlayer insulating film excellent in solvent resistance, heat resistance and transparency can be formed, and to provide an interlayer insulating film formed of the radiation-sensitive resin composition and a method for forming the interlayer insulating film.
耐溶媒性、耐熱性及び透明性に優れた層間絶縁膜を形成可能であり、かつ感度及び耐現像液性に優れた感放射線性樹脂組成物、この感放射線性樹脂組成物から形成される層間絶縁膜並びに層間絶縁膜の形成方法を提供する。 - 特許庁 - The protective film forming composition for liquid immersion exposure comprises: a resin (a) which is insoluble to water and is soluble to alkali developing liquid; and an ester type solvent (b) of which a hydrogen bonding component of SP value δh [(cal/cm^3)^1/2] falls into the range of 0<δh<8.5.
（ａ）水に不溶で、アルカリ現像液に可溶な樹脂及び（ｂ）ＳＰ値の水素結合性成分δｈ［（ｃａｌ／ｃｍ^3）^1/2］が、０＜δｈ＜８．５の範囲にあるエステル系溶媒を含有する液浸露光用保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁 - The ink composition for writing utensils contains an azine dye containing a component having an Rf value of 0.1-1.0 [determined by thin layer chromatography using a silica gel having an average pore diameter of 60Å as a carrier and a benzene-methanol mixture (weight ratio=10:1) as a developing solvent] in an amount accounting for <20% of total dyes.
適用されるアジン系染料が、薄層クロマトグラフィー〔（担体は平均孔径が６０Åのシリカゲル、展開溶媒はベンゼンとメタノール（重量比１０：１）〕を行なった際、０．１〜１．０のＲｆ値に含まれる成分が全染料中の２０％未満である筆記具用インキ組成物。 - 特許庁 - The positive type photoresist composition contains a polymer having repeating units with specified two acetal structures and having solubility in an alkali developing solution increased by decomposition under the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a solvent.
特定の２種のアセタール構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁 - To provide a fibrous composite of aqueous polyurethane microcapsules containing a heat-accumulation material, excellent in endurance to a high temperature and equipped with durability and preferable cleaning property without developing a problem such that a solvent gives a damage to the microcapsules on performing coating.
コーティングを行う場合、溶剤がマイクロカプセルに損傷を与えるという問題が発生することなく、高温に対する耐久性に優れ、持久性と、好ましい洗浄性を備える蓄熱材料を閉じ込めた水性ポリウレタンマイクロカプセルの繊維複合物及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition which exhibits excellent uniformity in film thickness and has high radiation sensitivity even if a slit coating method is adopted as a coating method, and has such a development margin that a favorable pattern shape can be formed even if an optimal developing time has elapsed passed in a developing step, and an interlayer insulating film having various excellent performance such as high heat and solvent resistance, high transmittance and a low dielectric constant.
塗布方法としてスリット塗布法を採用した場合であっても、優れた膜厚均一性を示し、且つ高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成しうる現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物ならびに高耐熱性、高耐溶剤性、高透過率、低誘電率等の諸性能に優れる層間絶縁膜を提供すること。 - 特許庁 - To reduce the amount of the wastes to be discharged and the cost of energy as well in treating the waste liquid containing a combustible organic solvent, such as isopropyl alcohol, used in rinsing, etc., of a resist peeling liquid discharged from a semiconductor manufacturing process step and the waste developing solution of a water system used for development of the resist.
半導体製造工程から排出される、レジスト剥離液のリンス等に使用されたイソプロピルアルコール等の可燃性有機溶媒を含む廃液、及びレジストの現像に用いられた水系の現像廃液の処理にあたり、廃棄物の排出量を低減させるとともに、エネルギーコストも低減させる。 - 特許庁 - In the pattern forming method which includes (a) forming a film using a chemically amplified resist composition, (b) exposing the film, and (c) developing the exposed film using a developer containing an organic solvent, the developer contains an ester and ketone having a carbon number of 7 or more.
本発明に係るパターン形成方法は、（ａ）化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成することと、（ｂ）前記膜を露光することと、（ｃ）有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含んでおり、前記現像液は、エステルと炭素数が７以上のケトンとを含有している。 - 特許庁 - In this image-forming method using a heat developable photosensitive material having a recording layer containing an organic silver salt, a photosensitive silver halide and a reducing agent, heat developing temperature is boiling point or above of an organic solvent used in producing process of the organic silver salt.
支持体上に有機銀塩、感光性ハロゲン化銀、還元剤を含有する記録層を有する熱現像感光材料を用いた画像形成方法において、熱現像温度が該有機銀塩の製造過程で用いられた有機溶媒の沸点以上であることを特徴とする熱現像感光材料を用いた画像形成方法。 - 特許庁 - In the heat developable photosensitive material having at least (a) photosensitive silver halide, (b) an organic silver salt, (c) a reducing agent and (d) a hydrophobic thermoplastic organic binder on a support, a heat solvent which is solid at ordinary temperature and can fuse at the heat developing temperature is contained.
支持体上に、少なくとも（ａ）感光性ハロゲン化銀、（ｂ）有機銀塩、（ｃ）還元剤、および（ｄ）疎水性の熱可塑性有機バインダーを有する熱現像感光材料において、常温では固体状であって熱現像温度において融解しうる熱溶剤を含有することを特徴とする熱現像感光材料。 - 特許庁 - To provide an energy beam curable photosensitive composition excellent in developability, curability, stability and the resistance of the exposed part to a developing solution and capable of forming a cured coating film excellent in adhesion, electric insulating property, resistance to the heat of soldering, solvent, acid and alkali resistances and plating resistance required by a soldering resist.
現像性、硬化性、安定性、露光部の現像液に対する耐性に優れ、しかもソルダーレジストに要求される密着性、電気絶縁性、はんだ耐熱、耐溶剤性、耐酸性、耐アルカリ性、並びに耐メッキ性に優れた硬化塗膜を形成し得るエネルギー線硬化型の感光性組成物を提供する。 - 特許庁 - There is provided an inkjet ink for platemaking masking used in a platemaking process comprising printing the photosensitive layer of a support with a piezoelectric inkjet printer and developing by light exposure, wherein it contains neither water nor a curable resin, it comprises a pigment of 3-8 wt.% and an organic solvent being 2-methyl-1-butanol.
支持体の感光層にピエゾ式インクジェットプリンタにて印刷して露光現像する製版方法に用いる製版マスキング用インクジェットインクであって、水や硬化性樹脂を含まず、顔料と有機溶剤からなり、顔料が３〜８重量％であり、有機溶剤が２−メチル−１−ブタノールであることを特徴とする。 - 特許庁 - The color-developing superlattice structure is prepared by dispersing, in a matrix polymer, core/shell-type microspheres each of which consists of a core and a shell for covering the core and which are prepared by polymerizing a monomer for forming the core and a polystyrene-based macromonomer for forming the shell, by radical polymerization in a nonaqueous solvent system.
発色性超格子構造体は、内核を形成するためのモノマーと外殻を形成するためのポリスチレン系マクロモノマーとを非水溶媒系でラジカル重合法により重合して得られる内核と、その周囲を覆う外殻とからなるコア−シェル型ミクロスフェアが、マトリックスポリマー中に分散されて構成されている。 - 特許庁 - To provide a fluoropolymer expressing properties including low dielectric property and high transparency while maintaining high fluorine content and holding high adhesiveness for attaining its high solubility to an aqueous alkaline solution used as developing solution and an organic solvent, its high adhesiveness to a substrate and high film formability.
低誘電性、高透明性を有し、かつ現像液として使用されるアルカリ水溶液および有機溶媒への高溶解性、基板への高密着性、高製膜性を達成するため、高いフッ素含有量を維持および密着性を保持しつつ、低誘電性や高透明性などの特性を発現する含フッ素重合体を提供する。 - 特許庁 - The positive type silicon-containing photosensitive composition contains (a) a polysiloxane or polysilsesquioxane having a group decomposable by a carboxylic acid and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of the acid, (b) a compound which generates the carboxylic acid when irradiated with active light or radiation and (d) a solvent.
（ａ）酸により分解しうる基を有し、かつアルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する性質のあるポリシロキサン又はポリシルセスキオキサン、（ｂ）活性光線もしくは放射線の照射によりカルボン酸を発生する化合物、（ｄ）溶媒とを含有することを特徴とするポジ型シリコン含有感光性組成物。 - 特許庁 - To provide an inkjet sheet-like recording material, which is excellent in absorbency, drying properties, color developing properties and adhesion properties of ink under the condition that its surface is printed with an inkjet printer in pigment solvent ink and in the dimensional stability of a printed image, applying properties such as the ease of the pasting to a base or the like.
顔料溶剤インクを用いるインクジェットプリンターにてその表面に印刷した場合に、インクの吸収性と乾燥性と発色性と接着性にすぐれ、しかも、印刷画像の寸法安定性や基体への貼り合わせが容易である等の施行性にもすぐれるインクジェット用シート状記録材を提供する。 - 特許庁 - To provide a (meth)acrylic polymer high in transparency to radiation, excellent in basic properties as a resist such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, pattern form, etc. especially excellent in the solubility to a resist solvent, and suitable for a radiation-sensitive resin compound which reduces the roughness on a pattern sidewall after developing.
放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、レジスト溶剤への溶解性に優れ、現像後のパターン側壁のラフネスを低減する感放射線性樹脂組成物に適した（メタ）アクリル系重合体を提供する。 - 特許庁 - To provide a dye containing curing composition for forming high-resolution pattern images (for instance, pixels) superior light resistance, heat resistance, pattern formation and solvent resistance by suppressing elution to a developing liquid of an exposure part, and to provide a color filter using it and its manufacturing method.
露光部の染料の現像液への溶出が抑制され、耐光性、耐熱性、パターン形成性（現像性）、および耐溶剤性に優れ、解像度の高いパターン像（例えば画素）を形成することができる染料含有硬化性組成物並びにこれを用いたカラーフィルターおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition for a circuit layer-to- layer adhesive developable with an aqueous developing solution using no organic solvent, excellent in various characteristics necessary for the insulating layer of a multilayer wiring board, e.g. adhesion to a substrate and having particularly superior heat resistance and to provide a high reliability printed wiring board using the composition.
有機溶剤を使用しない水系の現像液で現像が可能で、基材への密着性など多層配線板の絶縁層に必要とされる諸特性に優れ、且つ、特に優れた耐熱性を持つ、回路層間接着剤用感光性樹脂組成物、及びそれを用いた信頼性の高いプリント配線板を提供する。 - 特許庁 - To provide a (meth)acrylic polymer high in transparency to radiation, excellent in basic properties as a resist such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, pattern form, etc. especially excellent in the solubility to a resist solvent, and suitable for a radiation-sensitive resin compound which reduces the roughness on a pattern side wall after developing.
放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、レジスト溶剤への溶解性に優れ、現像後のパターン側壁のラフネスを低減する感放射線性樹脂組成物に適した（メタ）アクリル系重合体を提供する。 - 特許庁 - The method for making a planographic printing plate is carried out by exposing a photographic material having a silver halide emulsion layer, developing (without including silver complex salt diffusion transfer development), and then treating the plate with a treating liquid containing a solvent for the silver halide, an organic compound having a mercapto group in the molecule and ≥0.2 mol phosphoric acid compound per 1 liter of the liquid.
ハロゲン化銀乳剤層を有する写真材料を露光し、現像処理（銀錯塩拡散転写現像を含まない）後、ハロゲン化銀溶剤、分子中にメルカプト基を有する有機化合物及び１リットルあたり０．２モル以上のリン酸化合物を含有する処理液で処理する平版印刷版の作成方法。 - 特許庁 - The pattern forming method includes an applying process for applying a mixture containing inorganic powder, a glass frit and a solvent to a substrate, a dry process for drying the applied mixture, a laser irradiation process for drawing a pattern on the coating film which has passed through the dry process by laser irradiation, and a development process for developing the pattern.
無機粉末と、ガラスフリットと、溶剤からなる混合物を基板上に塗布する塗布工程と、塗布された前記混合物を乾燥する乾燥工程と、レーザー照射により前記乾燥工程を経た塗膜にパターンを描画するレーザー照射工程と、前記パターンを現像する現像工程とを含むパターン形成方法。 - 特許庁 - The positive resist composition comprises (A) resin containing a repeating unit derived from isosorbide (meth)acrylate and having a solubility rate in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) an aromatic-group-free sulfonium salt compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a solvent.
（１）（Ａ）イソソルバイド（メタ）アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、芳香族基を有さないスルホニウム塩化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁 - The positive type photoresist composition contains (A) an Si- containing resin having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation, (C) an ammonium salt which is not degraded by irradiation with energy beams for exposure and (D) a solvent.
（Ａ）珪素原子を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）露光用のエネルギー線の照射により分解しないアンモニウム塩、及び（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁 - To provide a color filter formed, using an alkali developable photosensitive resin composition superior in long-term shelf stability, high sensitivity, developing speed and resolution and having a formed pixel part or black matrix superior in heat resistance, adhesion to a substrate, hardness, solvent and alkali resistances in a coating film after being cured by irradiation with light.
長期保存安定性、高感度で現像速度及び解像度に優れるアルカリ現像型感光性樹脂組成物を用いて形成され、さらに、光照射によって硬化した後の塗膜においては、耐熱性、基板との密着性、硬度、耐溶剤性、耐アルカリ性に優れる画素部またはブラックマトリックスが形成されたカラーフィルタ。 - 特許庁 - To provide an alkali-soluble resin excellent in high solvent resistance, high water resistance, high acid resistance, high alkali resistance, high heat resistance, high transparency, adhesion to substrate and the like, and useful for forming a patterned resin films obtained by developing with an alkali aqueous solution, and to provide a positive type photosensitive resin composition containing the resin.
高耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、高耐熱性、高透明性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた樹脂膜の形成に有用なアルカリ可溶性樹脂及びそれを含有するポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The fluorescent color-developing solid adhesive comprises (1) an 8-36C aliphatic carboxylic acid salt as a gel-forming substance, (2) 20-25 mass% of a water-soluble or water-dispersible adhesive component, (3) 0.05-0.3 mass% of water-soluble fluorescent pigment, (4) a glycol-based solvent and (5) water.
（１）ゲル形成物質としての炭素原子８〜３６個を有する脂肪族カルボン酸塩、（２）２０〜２５質量％の水溶性又は水分散性の接着成分、（３）０．０５質量％〜０．３質量％の水溶性蛍光色素、（４）グリコール系溶剤、及び（５）水、を含有することを特徴とする蛍光発色性固形状接着剤。 - 特許庁 - The photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin containing repeating units corresponding to hydroxystyrene and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monomethyl ether propionate and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether and ethoxyethyl propionate.
活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ヒドロキシスチレンに相当する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増加する樹脂、並びにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びエトキシエチルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁 - The heat developable color photosensitive material has at least a photosensitive silver halide, a color developing agent or its precursor, a dye forming coupler forming dye by reacting with the oxidant of the color developing agent, a reducible silver salt, a thermal solvent, and a binder on a base, in which a water insoluble and thermoplastic polymer obtained by polymerizing at least one monomer is contained in the layer having the dye forming coupler.
支持体上に少なくとも、感光性ハロゲン化銀、発色現像主薬またはそのプレカーサー、該発色現像主薬の酸化体と反応して色素を生成する色素形成カプラー、還元可能な銀塩、熱溶剤、およびバインダーを有する熱現像カラー感光材料において、少なくとも一種の単量体を重合して得られる水不溶性且つ熱可塑性重合体が色素形成カプラーを有する層に含有することを特徴とする熱現像カラー感光材料。 - 特許庁 - To provide a lid material capable of being bonded to a glass container by short-time heat sealing, developing adhesive capacity excellent in heat resistance, water resistance, solvent resistance or the like incapable of being realized by a conventional polyester resin even in short-time heating, having excellent blocking resistance without lowering adhesive capacity and capable of being stored in a taken-up roll shape.
ガラス容器に短時間のヒートシールにより接着可能であって、短時間の加熱でも従来のポリエステル樹脂では実現できない耐熱性、耐水性、耐溶剤性等に優れた接着性能を具現し、さらには接着性能を低下することなく、優れた耐ブロッキング性を備えており、巻き取ってロール状にして貯蔵可能な蓋材を提供する。 - 特許庁 - The composition contains: (A) a fluorine atom-containing resin which has a fluorine atom and which decomposes by the effect of an acid to increase the solubility to an alkali developing solution; (B) a compound which generates an acid by irradiation with active rays or radiation; (C) an ammonium salt which does not decompose by irradiation with active rays or radiation; and (D) a solvent.
（Ａ）フッ素原子を有し、且つ酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大するフッ素原子含有樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により分解しないアンモニウム塩及び（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁 - The recording material using an electrochromic (EC) material, is characterized in that an liquid EC material solution obtained by dissolving the EC material and a support electrolyte or the like in a nonqueous organic solvent is used as a color developing layer to impregnate air holes of a white solid-state high polymer porous film with them.
記録材料としてエレクトロクロミック（ＥＣ）材料を用いた記録用材料に於いて、ＥＣ材料及び支持電解質等を非水系有機溶媒に溶解した液状のＥＣ材料溶液を、白色固体高分子多孔質膜の空孔中に含浸させ発色層として用いることを特徴とする記録表示材料を提供する。 - 特許庁 - The positive type photoresist composition contains (A) an acid generating compound represented by a specified structure, (B) an acid decomposable resin containing at least specified silicon-containing repeating units or repeating units with a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid and (C) a specified solvent.
（Ａ）特定の構造で表される酸を発生する化合物、（Ｂ）特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の構造の繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性樹脂、（Ｃ）特定の溶剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁 - The positive type radiation sensitive resin composition contains at least (a) a resin having a group which is decomposed by the action of an acid and increases solubility in an alkali developing solution, (b) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation, (c) an organic carboxylic acid compound, (d) a basic compound and (e) a solvent.
（ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂、（ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（ｃ）有機カルボン酸化合物、（ｄ）塩基性化合物、及び（ｅ）溶剤を少なくとも含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁 - The positive photosensitive composition comprises (A) a specified acid generator which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation, (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution, (C) a basic compound of formula (I) and (D) an organic solvent.
（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）下記一般式（Ｉ）で表される塩基性化合物、及び（Ｄ）有機溶剤を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁 - In an intermittent coating by which the coating object is coated intermittently with the coating liquid, the coating object such as a sheetlike base material can be coated with the coating liquid while preventing coating defects from developing by blowing a humid air to the vicinity of a coating liquid nozzle to prevent a solvent of the coating liquid from vaporizing and an agglomerated matter from being produced.
塗布液を被塗布物に間欠的に塗布する間欠塗布において、塗布が行われない非塗布時間中に、塗布液吐出口付近に加湿エアを吹き付けて塗布液の溶媒の蒸発を抑制し、凝集物の生成を防止することにより、塗布欠陥の発生を抑制しつつシート状基材等の被塗布物に塗布液を塗布することができる。 - 特許庁 - To provide a polymer developing excellent adhesiveness to various kinds of polyolefin-based materials including a polypropylene-based material even at low-temperature baking temperature of e.g. ≤80°C and excellent in physical properties such as resistance to solvents, water resistance and adhesiveness, and a solvent system containing the polymer or a water-based resin composition.
本発明の目的は、上記した問題を解決し、例えば８０℃以下の低温焼付け温度においても、ポリプロピレン系素材を含む各種ポリオレフィン系に対して優れた付着性を発現し、かつ、耐溶剤性、耐水性、接着性等の物性に優れる重合体、及びこれを含む溶剤系、または水系の樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁
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