「development processing」を含む例文一覧(1644)
＜前へ 1 2 .... 7 8 9 10 11 12 13 14 15 .... 32 33 次へ＞- To provide an image processing device and an image processing method for improving development efficiency in product development and improving maintainability relating to an image after product release by facilitating replacement of parameter setting data.
パラメータ設定データの入替えを容易にし、製品開発時の開発効率向上および、製品発売後の画像に関わるメンテナンス性を向上させる画像処理装置および画像処理方法を提供する。 - 特許庁 - In the case that typeset data for one page are collectively stored in a server 1 from a typesetting terminal 4, the processing device for newspapers' page development 7 applies development processing to typeset data for one page and creates the image data for output.
組版端末装置４から一紙面分の組版データを一括してサーバ１に記憶した場合には、紙面展開装置７は一紙面分の組版データに展開処理を施して出力用画像データを作成する。 - 特許庁 - To provide a development processing device in which toner spent and coat peeling of carrier, as well as hysteresis are suppressed, by optimizing carrier shape, etc., with respect to a development processing device using a two-component developer.
２成分現像剤を用いた現像装置にて、キャリア形状等を最適化することにより、履歴現象の発生を抑制すると共にトナースペント及びキャリアのコート剥がれを抑制した現像装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a development processing solution for a lithographic printing plate which allows development in an acidic to neutral region and overcomes the problems of developability and dispersion stability of photosensitive layer components removed by development (development scum), and a plate-making method of a lithographic printing plate.
酸性から中性領域で現像可能であり、そして、その際に問題となる現像性、更に現像によって除去した感光層成分（現像カス）の分散安定性の問題を克服した平版印刷版用現像処理液及び平版印刷版の製版方法を提供する - 特許庁 - To provide a developer replenishing method of an automatic development device for a photosensitive lithographic printing plate that can minimize variation in developer sensitivity with change of development processing conditions although a development part of the automatic development device has simple and inexpensive constitution as to a conductivity reference replenishment system.
電導度基準補充方式において、自動現像装置の現像部を簡易で安価な構成としながら、現像処理条件の変化に対する現像液感度の変動を最小限に抑えることができる、感光性平版印刷版用自動現像装置の現像補充方法を提供する。 - 特許庁 - The navigation apparatus includes a means for starting the navigation processing, after processing using a large amount of RAM is performed by development in the RAM in boot processing.
本発明のナビゲーション装置は、ブート処理において、ＲＡＭを大量に使用する処理をＲＡＭに展開して実施した後に、ナビゲーション処理を開始する手段を備えることを特徴とする。 - 特許庁 - Then the color processing device 12 evaluates the color processing conditions generated by the plurality of development parameters and selects one of the generated color processing conditions based upon a result of the evaluation.
そして、色処理装置12は、複数の現像パラメータごとに生成された色処理条件を評価し、その評価の結果に基づき、生成された色処理条件の一つを選択する。 - 特許庁 - To provide a processing method for a silver halide color photographic sensitive material excellent in development stability, white background stability, and uneven processing resistance in continuous processing.
本発明の目的は、連続処理における現像安定性、白地安定性及び処理ムラ耐性に優れたハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a processing liquid which prevents generation of deposits of rollers and slime in a processing step after development processing without degrading ink acceptability by lapse of time and a plate making method for the same.
経時によってインキ受理性を低下させることなく、かつ現像処理後の処理工程でローラーの付着物やスライムの発生を防止する処理液とその製版方法を提供する。 - 特許庁 - Thus, the unevenness of the processing is prevented even in the development processing by the developer for which isoascorbic acid is used as the developing agent of which the unevenness of the processing remarkably appears due to the automatic developing machine.
このため、自動現像機起因の処理むらが顕著に現れる前記イソアスコルビン酸を現像主薬とする現像液での現像処理においても、処理むらを防止することができる。 - 特許庁 - In the application development processing system 1, a wafer carried from a processing station 2 is processed in a processing station 3, and then the wafer is carried from the station 3 to a photolithography machine 4.
塗布現像処理システム１では、処理ステーション２から搬入されたウェハが処理ステーション３で処理され、その後ウェハは処理ステーション３から露光装置４に搬出される。 - 特許庁 - To provide both maintenance of a machine state by adjustment processing and reduction of a downtime a user feels, by performing in parallel development processing and adjustment processing of PDL data or the like.
ＰＤＬデータなどの展開処理と調整処理とを並行して実行することで、調整処理による機体状態の維持と、ユーザが体感するダウンタイムの軽減とを両立させる。 - 特許庁 - This device 7 for preparation and replenishment of the replenishing liquid for photographic processing is connected to the processing tank 40 for development processing of photographic sensitive materials across a replenishing flow passage 71 having a replenishing pump.
写真感光材料を現像処理する処理槽40と補充ポンプを有する補充流路71を介して接続されている写真処理用補充液の調製補充装置7。 - 特許庁 - To provide a photographic processing apparatus in which a conveyance path for photosensitive material can easily be maintained and so on even when a drying processing section is arranged above a development processing section.
現像処理部の上部に乾燥処理部が配置されていても、感光材料の搬送経路におけるメンテナンス等を容易に行うことが可能な写真処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for processing a photosensitive planographic printing plate which has high sensitivity and also has small variation between sensitivity obtained through processing with a liquid developer at the start of development and sensitivity obtained through processing with a liquid developer after running processing.
高感度で、現像開始時の現像液で処理して得られる感度とランニング処理した後の現像液で処理して得られる感度の変化が少ない感光性平版印刷版の処理方法の提供。 - 特許庁 - This memory controller is constituted so that whether a band development error is generated or not is discriminated while variably setting a coefficient value to be multiplied when development processing time of each band is calculated based on free capacity of a cache 103 of a CPU 102 or page structure of outputted data, and the band development processing is switched based on a discrimination result of the band development error.
各バンドの展開処理時間算定時に乗ずるべき係数値をＣＰＵ１０２のキャッシュ１０３の空き容量または出力データのページ構成に基づいて可変設定しながらバンド展開エラーが発生するかどうかを判別し、該判別結果に基づいてバンド展開処理を切替え制御する構成を特徴とする。 - 特許庁 - The substrate processing equipment 300 comprises an indexer block 9, an antireflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a resist cover film processing block 13, a resist cover film removing block 14, and a first interface block 15.
基板処理装置３００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４および第１のインターフェースブロック１５を備える。 - 特許庁 - The substrate processing apparatus 500 includes: an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a resist cover film processing block 13, a resist cover film removal block 14 and an interface block 15.
基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を含む。 - 特許庁 - To provide an image forming method which makes it possible to obtain approximately the same finish quality as the finish quality of a reference development processing and is capable of preventing the fluctuation of a processing liquid composition while allowing the rapid development processing meeting the characteristics of a film.
フィルムの特性に応じた迅速現像処理が可能でありながら基準現像処理と略同じ仕上がり品質が得られるとともに、処理液組成の変動を防止可能な画像形成方法及びこれに用いる現像処理装置を提供する。 - 特許庁 - The developing device performs development processing of the photosensitive material exposed based on image information while conveying the material and outputs the same and can be switched by an operation mode switching function to an ordinary mode 51 of performing the ordinary development processing and a fast mode 52 of performing the development processing faster than the ordinary mode by making the conveyance speed of the photosensitive material faster and making the processing time shorter.
この現像装置は、画像情報に基づいて露光された感光材料を搬送しながら現像処理し出力し、動作モード切替機能により、通常の現像処理を行う通常モード５１と、感光材料の搬送速度を速くし処理時間を短くすることで通常モードよりも速く現像処理を行う迅速モード５２と、に切替可能である。 - 特許庁 - To provide a RAW data processing method, program and device that can reduce a processing load from development to image output without degrading image quality.
画質を劣化させることなく現像から画像出力までの処理量を低減できるＲＡＷデータ処理方法、プログラム及び装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a development processor which can heat a photosensitive medium coated with a processing solution only for a proper processing time while maintaining its size.
大型化することなく、処理液が塗布された感光媒体を適正な処理時間だけ加熱することができる現像処理装置を提供する。 - 特許庁 - To improve the parallel processing efficiency and the development efficiency of parallel software by improving a process assignment method in parallel processing of a heterogeneous multiprocessor.
ヘテロジニアス・マルチプロセッサの並列処理における処理割り当て方法の改善による並列処理効率の向上と、並列ソフトウェアの開発効率の向上。 - 特許庁 - To provide a substrate-processing method which enables conducting of smooth perform processing, for forming an organic film pattern into another pattern in second development.
２回目の現像処理により有機膜パターンを新たなパターン形状に加工する処理をスムーズに行うことを可能とする基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - ADDITIVE COMPOSITION FOR COLOR DEVELOPMENT PROCESSING LIQUID FOR SILVER HALIDE COLOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL AND METHOD FOR PROCESSING SILVER HALIDE COLOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL USING THE SAME
ハロゲン化銀カラー写真感光材料の発色現像処理液用添加剤組成物とそれを用いたハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法 - 特許庁 - Then, extension processing such as near-synonym development is operated by using a query extension dictionary (S45), and the document vector generation processing of the retrieval query is operated (S46).
そして、クエリ拡張辞書を使用し類義語展開等の拡張処理を行った後（Ｓ４５）、検索クエリの文書ベクトル生成処理を行う（Ｓ４６）。 - 特許庁 - ADDITIVE COMPOSITION FOR COLOR DEVELOPMENT PROCESSING LIQUID OF SILVER HALIDE COLOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL AND METHOD FOR PROCESSING SILVER HALIDE COLOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL USING THE SAME
ハロゲン化銀カラー写真感光材料の発色現像処理液用添加剤組成物及びそれを用いたハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法 - 特許庁 - After a cassette C1 is placed on a cassette placing plate 31, a controller 11 instructs an application and development processing apparatus 10 to start processing a wafer in the cassette C1.
カセット載置板３１にカセットＣ１が載置された後、制御装置１１から塗布現像処理装置１０に、カセットＣ１内のウェハの処理の開始を指示する。 - 特許庁 - To provide a heat developable photosensitive material which ensures a small sensitivity change independently of processing time and processing temperature and also ensures improved unevenness in development and improved linearity.
処理時間及び処理温度による感度変動が小さく、更に、現像ムラやリニアリティが改良された熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁 - To reduce the deterioration of the working efficiency of an operator as much as possible in the case of serially processing the development processing of a photographic film and the reading of an image.
写真フィルムの現像処理と画像の読取りとを一連に処理する場合において、操作者の作業効率の低下を可及的に低減する。 - 特許庁 - When applying development processing to a photographic image, demosaicing processing is applied to the photographic image (S102), and a display image is generated from the photographic image to which the demosaicing process has been applied (S103).
撮影画像を現像処理する際に、撮影画像をデモザイキング処理し(S102)、デモザイキング処理した撮影画像から表示画像を生成する(S103)。 - 特許庁 - To provide a hologram image processing method in which increase of grain size in processing steps such as development is suppressed so that high diffraction efficiency is achieved with high sensitivity.
現像など処理工程における粒子サイズの増加を抑え、高感度で、高回折効率が得られるホログラム画像処理方法を提供する。 - 特許庁 - Same solution comprising surfactant is discharged onto the resist film from the liquid discharge nozzle 30 as rinse liquid after a development processing and a rinse processing is performed.
現像処理後に液体吐出ノズル３０からリンス液として界面活性剤を含む同じ溶液をレジスト膜上へ吐出してリンス処理する。 - 特許庁 - The printing data generating part carries out development processing which includes specific processing according to setting contents of the specific item to the original image data of the second type.
印刷データ生成部は、第２種の原画像データに対して特定項目の設定内容に応じた特定処理を含む現像処理を実行する。 - 特許庁 - Then, the controller 11 instructs the application and development processing apparatus 10 about a cassette C2 on the cassette placing plate 31 to which the wafer W is to be transferred when the processing is ended.
その後、制御装置１１から塗布現像処理装置１０に、ウェハＷが処理終了時に搬送されるカセット載置板３１のカセットＣ２を指示する。 - 特許庁 - Also, the solder resist penetrating the inside of each through hole after the coating of the solder resist is so sublimated and so removed by a laser as to subject the solder resist to its exposure processing and its development processing.
また、ソルダーレジストの塗布後、スルーホール内へ浸入したソルダーレジストをレーザーにより昇華除去し、露光処理、現像処理をするものとした。 - 特許庁 - A substrate processing apparatus 500 comprises an indexer block 9, a processing block 10 for an antireflection film, a processing block 11 for a resist film, a development processing block 12, a processing block 13 for a resist cover film, a resist cover film removal block 14, a cleaning/drying processing block 15, and an interface block 16.
基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁 - In the photolithographic processing unit 1a, a resist application processing apparatus 2 and a development processing apparatus 5 are provided separately from each other, a first exposure processing apparatus 3a is arranged adjacently to a first PEB processing apparatus 4a, and a second exposure apparatus 3b is arranged adjacently to a second PEB processing apparatus 4b.
フォトリソグラフィー処理部１ａでは、レジスト塗布処理装置２と現像処理装置５とが分離して配置され、第１の露光処理装置３ａと第１のＰＥＢ処理装置４ａ、第２の露光処理装置３ｂと第２のＰＥＢ処理装置４ｂは隣接配置されている。 - 特許庁 - The substrate processing apparatus 500 comprises: an indexer block 9; a processing block 10 for an antireflection film; a processing block 11 for a resist film; a development processing block 12; a processing block 13 for a resist cover film; a resist cover film removing block 14; a cleaning/drying processing block 15; and an interface block 16.
基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁 - To provide a processing method for a heat developable photosensitive material with improved image preservability and film adhesion after development.
現像処理後の画像保存性、膜付きが改良された熱現像感光材料の処理方法を提供する。 - 特許庁 - When receiving a print job, an image processing part starts page development of developing print data to image data.
画像処理部は印刷ジョブを受信すると、印刷データをイメージ画像データに展開するページ展開を開始する。 - 特許庁 - Then the developer D is spread over the entire surface of the wafer W to perform the development processing on the wafer W (Fig.4(e)).
そして、ウェハＷ全面に現像液Ｄを拡散させ、ウェハＷの現像処理を行う（図４（ｅ））。 - 特許庁 - APPLICATION DEVELOPMENT SUPPORT SYSTEM, DATA FORMAT GENERATION METHOD USING THE SAME, AND DATA PROCESSING SYSTEM
アプリケーションの開発支援システム及びこの開発支援システムを用いたデータフォーマット生成方法並びにデータ処理システム - 特許庁 - To set an image processing parameter downloaded from an external device to both an imaging apparatus and a development application.
外部装置よりダウンロードした画像処理パラメータを撮像装置と現像アプリケーションの両方に設定可能にする。 - 特許庁 - To provide an airbag processing device for performing inflation and development process of an airbag device, and improving process efficiency with low costs.
エアバッグ装置を膨張展開処理し、処理効率を向上し、コスト安価なエアバッグ処理装置を提供する。 - 特許庁 - Even the special photosensitive material can thus be subjected to development processing in the same manner as with the ordinary photosensitive material.
特殊な感光材料であっても、通常感光材料と同じように現像処理することができる。 - 特許庁 - A schedule development means 1 analyzes the scenario structural document, and develops and holds the processing schedule of factor elements.
スケジュール展開手段１はシナリオ構造化文書を解析し、各要素エレメントの処理スケジュールを展開保持する。 - 特許庁 - GAME PROGRAM, RECORDING MEDIUM WITH GAME PROGRAM RECORDED THEREON, STORY DEVELOPMENT PROCESSING METHOD IN ROLE PLAYING GAME, AND GAME DEVICE
ゲームプログラム、ゲームプログラムを記録した記録媒体、ロールプレイングゲームにおける物語展開処理方法及びゲーム装置 - 特許庁 - PHOTOGRAPHIC SILVER HALIDE EMULSION AND PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL USING THE SAME AND ITS DEVELOPMENT PROCESSING METHOD
写真用ハロゲン化銀乳剤、該乳剤を用いた写真感光材料及び該感光材料の現像処理方法 - 特許庁 - The diluted developer has concentration that is lower than that of a developer used for the development processing of the resist film.
希釈現像液とはレジスト膜の現像処理に使用する現像液よりも濃度の低い現像液である。 - 特許庁
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