「diffracted intensity」を含む例文一覧(104)
＜前へ 1 2 3 次へ＞- When substantially collimated light is incident from a second direction, a second image is reproduced in such a manner as to maximize the diffracted light intensity in the predetermined direction.
第２の方向から略平行光が入射されたときに、該あらかじめ定められた方向に対する回折光強度が最大となるように第２の画像が再生される。 - 特許庁 - The light is spectrally diffracted by the spectral means 51 of the processor 50 and detected by a detection means 52 to calculate the spectral intensity of a characteristic spectrum by an analyzing means 53.
処理装置５０の分光手段５１で光が分光され、検出手段５２で検出されて、解析手段５３で特性スペクトルの分光強度が求められる。 - 特許庁 - To detect a tracking error by optimizing a diffracted light intensity ratio to improve laser use efficiency in an optical pickup using optical beams of three different wavelengths.
異なる３波長の光ビームを用いる光ピックアップにおいて、回折光強度比を適正にし、レーザの利用効率を高めて精度よくトラッキングエラー検出を行う。 - 特許庁 - When substantially collimated light is incident from a first direction, a first image is reproduced in such a manner as to maximize the diffracted light intensity in a predetermined direction.
第１の方向から略平行光が入射されたときに、あらかじめ定められた方向に対する回折光強度が最大となるように第１の画像が再生される。 - 特許庁 - When the optical beam with a first wavelength λ1 (λ1<450 nm) enters, almost of all light intensity of incoming optical beam is divided into α order diffracted light (α is an integer number, |α|≥1), and β order diffracted light (β is an integer number, |β|≥1 and α≠β).
第１波長λ１（λ１＜４５０ｎｍ）の光束が入射したときに、入射光束の光量の殆どをα次回折光（αは整数であり、｜α｜≧１を満たす）とβ次回折光（βは整数であり、｜β｜≧１、及び、α≠βを満たす）とに振り分ける。 - 特許庁 - By forming recesses and projections for constituting a diffraction grating having a two-dimensional shape in either the body of the mark for forming an alignment pattern or the periphery of the mark, diffracted light from the diffraction grating and non-diffracted light are used to enhance light intensity contrast.
アライメントパターンを形成するマーク本体部と、マーク周辺部のいずれかに、二次元的な形状を有する回折格子を構成する凹凸を設けることにより、回折格子からの回折光と、非回折光とを利用して、光強度コントラストを大きくすることができる。 - 特許庁 - Out of the diffracted light occurring when the illumination light irradiating the standard grating 1 is reflected by the grating plane 11, diffracted light having relatively high intensity such as of zero-order and ±one-order enters the imaging system 3 as a collimated beam and is focused onto a predetermined position in the imaging system 3.
基準格子１に照明光が照射された際に格子面１１で反射されて生じる回折光のうち、０次や±１次等の比較的強度の大きい回折光が平行光束として結像系３内に入射し、結像系３内の所定の位置に集光する。 - 特許庁 - In a method of forming a grating, light for exposure is transmitted through a phase mask satisfying an expression (1) to obtain diffracted light, and an optical waveguide component which has photosensitivity is arranged in an area diffracted light beams interfere with each other to form a periodic light intensity distribution, and then exposed.
式（１）を満たす位相マスクに露光用の光を透過させて回折光とし、該回折光が互いに干渉し合い周期的な光強度分布となる領域に、光感受性をもった光導波路部品を配して、該光導波路部品を露光しグレーティングを形成する構成とする。 - 特許庁 - In an assistance beam detector 176, intensity of the first, the second assistant beams A1, A2 diffracted by optical information is detected, and a tilt state of the storage medium D is read.
補助光検出器１７６において、光情報により回折される第１、第２補助光Ａ１、Ａ２の光強度を検出して格納媒体Ｄのチルト状態を読み取る。 - 特許庁 - A measured rocking curve is obtained by measuring the intensity of diffracted X-rays by making X rays impinge on the surface of the thin film by an incident angle α with respect to the surface, and performing those measurements changing the incident angle α.
薄膜の表面に対して入射角αでＸ線を入射して回折Ｘ線の強度を測定し，入射角αを変化させて測定ロッキングカーブを得る。 - 特許庁 - Parallel light is modulated by a spatial modulating element 17 having a regular array and converged by a lens to generate diffracted light of high order with high intensity.
平行光を規則正しい配列を有する空間変調素子１７により変調させ、レンズによって集光することによって、高い強度を持つ高次の回折光を発生させる。 - 特許庁 - To accurately perform tracking error detection by designing large a diffracted light intensity ratio of a 0th-light and 1st-light of a wavelength by which 3 beam division is performed and improving the use efficiency of a laser.
３ビーム分割を行なう波長の０次光／１次光の回折光強度比を大きく設計することによりレーザの利用効率を高めて精度よくトラッキングエラー検出を行う。 - 特許庁 - The X-ray beam 2' is incident on an XZ surface, and an X-axis is moved to determine the position in the surface of the sample 1 on the basis of X-coordinates X1 and X2 that has diffracted X rays 2a suddenly changed in the intensity.
Ｘ線ビーム２’をＸＺ面に入射し、Ｘ軸を移動して回折Ｘ線２ａ強度が急変するＸ座標Ｘ１、Ｘ２を基準として試料１面内の位置を決定する。 - 特許庁 - The positional change of the diffracted X-ray intensity found based on a X-ray topograph provided by the X-ray image magnifying crystal 10 is converted into a shift of a Bragg angle in the sample crystal 6.
そして、このＸ線像拡大用結晶１０より得られるＸ線トポグラフから求められる回折Ｘ線強度の場所的変化を試料結晶６におけるブラッグ角のずれに変換する。 - 特許庁 - When measuring unknown bubbles, the intensity of diffracted/scattered light acquired by irradiating the laser light toward the bubbles is measured, and the volume concentration of the bubbles in the liquid is calculated by using the foregoing relation.
未知の気泡の測定に際しては、その気泡にレーザ光を照射して得られる回折・散乱光の強度を測定し、上記の関係を用いて液体中の気泡の体積濃度を算出する。 - 特許庁 - By providing an ND filter 4 decaying laser beam intensity between the Fourier transform lens 3 and the 0-order diffracted light shielding plate 5, interference between a CCD element 7 face and its protective film is eliminated.
また、フーリエ変換レンズ３と０次回折光遮蔽板５との間に、レーザ光強度を減衰させるＮＤフィルタ４を設けることで、ＣＣＤ素子７面とその保護膜との間での干渉をなくす。 - 特許庁 - The luminous intensity of the diffracted light beams is enhanced and the display of the characters and the figures becomes possible by setting the pit interval to a value between 570 nm and 1,000 nm based on such a curve.
かかる曲線に基づいて、ピット間隔を５７０ｎｍから１０００ｎｍの間の値にすることにより回折光の光度を高くすることができ、文字や図形の明確な表示が可能となる。 - 特許庁 - A time constant τ for attenuation of a DFWM beam diffracted by a pseudo diffraction grating 71b can be adjusted by intensity of the optical pulse beam P_2 emitted from the second light source 75.
又、第２の光源７５から出射される光パルスＰ_２の強度により、擬似的な回折格子７１ｂにより回折されたＤＦＷＭ光の減衰に関する時定数τを調整することができる。 - 特許庁 - To accurately detect a tracking error by making the diffracted light intensity ratio of a wavelength to be subjected to 3-beam division appropriate and increasing laser utilization efficiency in an optical pickup using optical beams of three different wavelengths.
異なる３波長の光ビームを用いる光ピックアップにおいて、３ビーム分割を行う波長の回折光強度比を適正にし、レーザの利用効率を高めて精度よくトラッキングエラー検出を行う。 - 特許庁 - Projection portions 6 and recessed portions 7 therefore function as an optical low-pass filter extracting constant diffracted light intensity from incident light intensity at respective wavelengths, and then the solid-state imaging element cover 41 and imaging device 20 can be obtained which can faithfully reproduce the color tone of the subject in the visible light range.
したがって、凸部６、凹部７は、各波長において入射光強度に対し一定の回折光強度を取り出せる光学ローパスフィルタとして機能し、可視光領域で被写体の色調を忠実に再現できる固体撮像素子カバー４１および撮像装置２０を得ることができる。 - 特許庁 - The characteristic of a sample is measured using a beam intensity monitor including a diffraction grating for diffracting an incident beam into a plurality of beams, for light-guiding a zero-order diffracted light thereof to the sample, and for light-guiding n-th order diffracted light (n is an integer other than zero) to a photo-detector for detecting reference light.
入射される光束を複数の光束に回折し、このうち０次回折光を試料に導光し、ｎ次回折光（ｎは０以外の整数）を参照光検出用の光検出器に導光する回折格子を含むビーム強度モニタを用いて該試料の特性を測定すること。 - 特許庁 - In the laser Raman spectroscopic analysis method, the sample is irradiated with the laser beam, the scattered light emitted from the sample is filtered to the Raman scattered light, the Raman scattered light is spectrally diffracted, the spectrally diffracted Raman scattered light is detected at every wavelength, its intensity is measured, the intensity of the total scattered light emitted from the sample is measured, and a component substance contained in the sample is analyzed quatitatively.
また、レーザ光を試料に照射し、試料から発する散乱光からラマン散乱光に濾過し、このラマン散乱光を分光し、分光したラマン散乱光を波長毎に検出して、その強度を測定し、また、試料から発する全散乱光の強度を測定し、この全散乱光の強度と前記波長毎の強度を用いて、試料に含まれる成分物質の定量分析を行うレーザラマン分光分析法。 - 特許庁 - In addition, a spectral element exchanger 14 which comprises a plurality of kinds of spectral elements 6 so as to be selected and which spectrally diffracts fluorescent X-rays 13 is provided, and a semiconductor detector 8 which measures the intensity of spectrally diffracted fluorescent X-rays 7 is provided.
また、分光素子6 を複数種類有し選択して蛍光Ｘ線13を分光させる分光素子交換器14と、分光された蛍光Ｘ線7 の強度を測定する半導体検出器8 とを備えている。 - 特許庁 - In the object lens, an orbicular zone in a peripheral region which is the closest of the boundary between an intermediate region and the peripheral region generates third order diffracted light as diffracted light having the strongest light intensity when a first wavelength is incident on the orbicular zone, and accordingly an unnecessary peak as a noise in a SUM signal becomes small, which enables accurate focusing operation.
中間領域と周辺領域の境界に最も近い、周辺領域の輪帯は第１波長が入射したときに、最も光強度が強い回折光として、３次回折光を発生するようになっているので、ＳＵＭ信号においてノイズとしての不要なピークが小さくなるため、フォーカシング動作が正確に行える。 - 特許庁 - The ink composition comprises a colorant composed of a pseudo- one-dimensionally crystallizable color organic pigment having a diffracted wave showing a maximum intensity and its n-th order diffracted wave (wherein n is an integer of ≥2) as the major peaks in the X-ray diffraction spectrum, a water-soluble organic solvent, a surface active agent, and a water-soluble resin.
Ｘ線回折スペクトルにおいて、最大強度を示す回折線とそのｎ次（ｎ：２以上の整数）の回折線を主要ピークとして有する擬１次元結晶性カラー有機顔料からなる着色剤、水溶性有機溶剤、界面活性剤および水溶性樹脂を含有することを特徴とするインク組成物により、上記の課題を解決する。 - 特許庁 - The upper limit value and lower limit value are properly set to make it impossible to count the greater part of fluorescent X rays and the background can be sharply lowered without too lowering the intensity of the original diffracted X rays.
上述の上限値と下限値を適切に設定することで、蛍光Ｘ線の大半をカウントしないようにすることができて、本来の回折Ｘ線の強度をあまり下げずに、バックグラウンドを大幅に下げることができる。 - 特許庁 - An exposure system is equipped with a stage 11 set in a rotatable manner, an X-ray source 13 which irradiates a wafer 12 mounted on the stage 11 with an X-ray, and an X-ray detector 14 which detects the intensity of the diffracted ray of the X-ray beam.
回転可能とされたステージ１１と、そのステージ１１に搭載されたウエハ１２にＸ線を照射するＸ線源１３と、そのＸ線の回折光強度を検出するＸ線検出器１４とを具備するものとする。 - 特許庁 - To provide an apparatus and method for calibrating a change in displacement of reflective parts in a diffractive optical modulator, wherein the intensity of diffracted light is measured to measure the change in displacement, and the measured change in displacement is calibrated.
回折光の光強度を測定して変位の変化を測定し、測定された変位の変化を補正することができる回折型光変調器における反射部の変位変化補正装置及びその方法を提供する。 - 特許庁 - A space frequency filter defined by a table of discrete complex numerals is applied to calculation of D (fx, fy) which is diffracted light, calculation of P (fx, fy) which is lens transmitting light, and calculation of I (x, y) which is light intensity distribution.
回折光であるＤ(ｆｘ，ｆｙ)の算出、レンズ透過光であるＰ(ｆｘ，ｆｙ) の算出、及び光強度分布であるＩ(ｘ，ｙ)の算出に、離散的な複素数のテーブルで定義される空間周波数フィルタを適用する。 - 特許庁 - The particle size measuring apparatus 20 irradiates laser light L1 from a semiconductor laser light source 21 to the material gas P in a flow cell 23, and detects diffracted-scattered light L3 produced by the material gas P as an optical intensity distribution pattern by an optical sensor 25.
粒度測定装置２０は、フローセル２３中の材料ガスＰに半導体レーザ光源２１からのレーザ光Ｌ１を照射し、材料ガスＰによって生じた回折・散乱光Ｌ３を光センサ２５によって光強度分布パターンとして検出する。 - 特許庁 - In order to change the characteristics (for example, the phase, the intensity, etc.) of the light that interacts with the diffracted light MEMS device, the position of each of the planar reflectors is adjusted so as to be in a direction perpendicular to the planar reflectors by using the actuator system.
回折光ＭＥＭＳデバイスと相互作用する光の特性（例えば位相、強度等）を変化させるために、このアクチュエータ・システムを使用して、平面反射器の各々の位置が平面反射器に対して直角の方向に調整される。 - 特許庁 - To provide a transmission type volume hologram recording medium to be used in a two-beam hologram recording system, the recording medium having high diffraction efficiency and remarkably reducing the intensity of first-order and subsequent diffracted light, which is a cause of noise.
二光束ホログラム記録方式に用いられる透過型体積ホログラム記録媒体であって、回折効率が高く、一次回折光以降のノイズ原因となる回折光強度を著しく抑制できる体積ホログラム記録媒体を提供する。 - 特許庁 - To perform accurate qualitative analysis by accurately performing the comparison of the measured data of the intensity of diffracted X-rays and standard data even in such a case that a measuring condition of the measured data and the standard data is different, especially, a diffusion slit is different in the X-ray diffraction device.
Ｘ線回折装置において、回折Ｘ線強度の測定データと標準データの測定条件、特に、発散スリットが異なる場合でも、測定データと標準データの比較を正確に行い正確な定性分布を行う。 - 特許庁 - The whole of the region to be measured of the surface of the titanium oxide sample is irradiated with monochromatic incident X-rays and the diffracted X rays from the respective regions of the region to be measured of the surface of the titanium oxide sample are discriminated and detected by a two-dimensional sensitive detector to form an intensity distribution image.
単色の入射Ｘ線で酸化チタン試料表面の被測定領域全体を照らし、各部位からの回折Ｘ線を二次元位置敏感型検出器で区別して検出して強度分布画像を形成する。 - 特許庁 - Light L2 comprising Raman scattered light emitted from the sample 111 and background light emitted from the substrate 110 is spectrally diffracted by a diffraction grating 155, and a spectrum intensity signal is measured by a photodiode 157, and a signal synchronized with 1 kHz is detected from the spectrum intensity signal by a lock-in amplifier 160.
試料１１１から発せられるラマン散乱光および光電場増強基板１１０から発せられるバックグランド光からなる光Ｌ２を回折格子１５５により分光して、フォトダイオード１５７によりスペクトル強度信号を測定し、ロックインアンプ１６０により、このスペクトル強度信号から、１ｋＨｚに同期した信号を検出する。 - 特許庁 - To provide an apparatus for adjusting applied voltage in a display system using a diffractive optical modulator, which can adjust the voltage that will be applied to the diffractive optical modulator, based on the measured intensity of diffracted light emitted from the diffractive optical modulator.
回折型光変調器に印加される電圧を、回折型光変調器が出射する回折光の強度を測定して調整することができる回折型光変調器を利用するディスプレイシステムにおける印加電圧調整装置を提供する。 - 特許庁 - Since the diffracted light caused by the pseudo diffraction grating by the many particles P is detected, the signal intensity can be heightened, and the sensitivity and the S/N ratio can be improved, compared with the case where fluctuation of scattered light caused by the individual particle is detected as in the dynamic scattering method.
多数の粒子Ｐによる擬似的回折格子による回折光を検出するので、動的散乱法のように個々の粒子による散乱光の揺らぎを検出する場合に比して、信号強度が強く、感度およびＳ／Ｎの向上を可能とする。 - 特許庁 - The intensity profile of scattered X rays diffracted from the two-dimensional lattice of the surface of the ferroelectric object is measured and the asymmetry of the intensity profile is compared with the asymmetry (reference asymmetry) (the area ratio of a polarization region of s=1) of a standard sample known in polarization direction and magnitude to evaluate the polarization direction and magnitude of the ferroelectric object.
強誘電体の表面の２次元格子から回折される散乱Ｘ線の強度プロフィルを測定し、強度プロフィルの非対称性を、分極方向及び分極の大きさが知られている標準試料の非対称性（基準非対称）（分極域の面積比ｓ＝１、０）と比較することで、強誘電体の分極方向及び分極の大きさを評価する。 - 特許庁 - When a light is radiated, the displacement between the interface 103a and the light collecting spot is accurately detected by observing a cross-sectional intensity distribution of a diffracted light generated by the step 105, the light is efficiently introduced into the protrusion 103 by correcting the displacement, and the proximity field with sufficient intensity is formed at a distal end opening of the protrusion 103.
光を照射した時に段差部１０５による回折光の断面強度分布を観測することにより、境界面１０３ａと集光スポットとの位置ずれを高精度に検出し、その位置ずれを補正することにより突起部１０３に効率的に光を導入せしめ、突起部１０３の先端開口部に十分な強度の近接場を形成する。 - 特許庁 - A measurement beam is projected on a scale (diffraction grating) provided on an upper surface of the moving body, and interference light (intensity I) generated by a plurality of diffracted beams generated through the scale is received to measure position information (a phase ϕ associated with displacement ΔY) of a stage relating to a period direction of the diffraction grating.
移動体の上面に設けられたスケール（回折格子）に計測ビームを投射し、そのスケールにて発生する複数の回折ビームから生成される干渉光（強度Ｉ）を受光して、回折格子の周期方向に関するステージの位置情報（変位ΔＹに係わる位相φ）を計測する。 - 特許庁 - Thus, variation in diffracted X-ray intensity due to difference of the sample holder is prevented in blank measuring without sample, so that the blank measurement is required only for one sample holder (filter and base plate), and the number of measurements can be significantly reduced.
これにより、試料無しの場合のブランク測定の際に試料ホルダの相違による回折Ｘ線強度のばらつきがなくなるので、１つの試料ホルダ（フィルタ及び基底板）についてのみブランク測定を行えばよくなり、測定回数を大幅に減らすことが可能である。 - 特許庁 - The space intensity distribution of the diffracted and scattered light obtained by irradiating the dust collecting electrode 4 with laser beam is measured, whereby the particle size distribution of the floating particulate matter P can be measured with high resolution in a wide particle size range on the basis of laser diffraction and scattering method.
また、その集塵電極４に対してレーザ光を照射して得られる回折・散乱光の空間強度分布を測定することにより、レーザ回折・散乱法に基づいて浮遊粒子状物質Ｐの粒度分布を広い粒径範囲で高分解能のもとに測定することを可能とする。 - 特許庁 - This reflective exposure method comprises for the reflective mask the steps of selecting a specified pattern, e.g., a pattern having a minimum dimension, computing the electromagnetic field near the mask with respect to the pattern, and obtaining the propagation direction having a maximum intensity in the distribution of diffracted light acquired from the computed electromagnetic field near the mask.
反射型露光方法は、反射型マスクにおいて、特定のパターン、例えば、最も寸法の小さいパターンを選択するステップと、該パターンについてマスク近傍の電磁界を計算するステップと、計算されたマスク近傍の電磁界から求まる回折光の分布から最も強度が強い伝播方向を求めるステップを含む。 - 特許庁 - To measure the thickness of a thin film by an X-ray diffraction method by performing the parameter fitting of a theoretical rocking curve of diffracted X-ray intensity considering orientation to a measured rocking curve, even when film thickness measurement by an X-ray reflectivity method can not be performed because of a reason as existence of a contiguous layer having an approximate density or the like.
密度が近い隣接層が存在するなどの理由でＸ線反射率法による膜厚測定ができない場合でも，配向性を考慮した回折Ｘ線強度の理論ロッキングカーブを測定ロッキングカーブにパラメータフィッティングすることで，Ｘ線回折法によって薄膜の膜厚を測定可能にする。 - 特許庁 - The imaging device comprises an X-ray source 110, a diffraction grating 130 for diffracting X-rays emitted from the X-ray source 110, a shielding grating 150 for shielding a part of the X-rays diffracted by the diffraction grating 130 and a detector 170 for detecting intensity distribution of the X-rays having passed through the shielding grating 150.
撮像装置はＸ線源１１０とＸ線源１１０から出射したＸ線を回折する回折格子１３０と回折格子１３０によって回折されたＸ線の一部を遮る遮蔽格子１５０と遮蔽格子１５０を経たＸ線の強度分布を検出する検出器１７０とを有する。 - 特許庁 - A positional change in intensity of a diffracted X-ray from the sample crystal 6 is detected via an X-ray image magnifying crystal 10 fixed within a diffraction angle range, using an optical system of an X-ray topograhpy arranged with the X-ray image magnifying crystal 10 in a rear stage of the sample crystal 6 of which the strain is measured.
ひずみを測定すべき試料結晶６の後段にＸ線像拡大用結晶１０を配置したＸ線トポグラフィの光学系を用いて、試料結晶６からの回折Ｘ線強度の場所的変化を、回折角度範囲に固定されたＸ線像拡大用結晶１０を介して検出する。 - 特許庁 - In retrieval in the optical information recording/reproducing device which reproduces the optical information recording medium recorded by angle multiplex recording, the medium is irradiated with a desired information as signal light, and the desired information is searched from the multiplex recorded information by using intensity of a plurality of diffracted rays having a different emission angle with respect to the medium.
角度多重で記録された光情報記録媒体を再生する光情報記録再生装置での検索処理において、所望の情報を信号光として媒体に照射し、媒体との出射角度の異なる複数の回折光の強度を用いて多重記録された情報の中から該当情報を探し出すことで解決する。 - 特許庁 - When a voltage is applied to the electrodes 28a and 28b, sample components 58 are drawn to the electrodes by dielectrophoresis along a line 54 of electric force acting between the electrodes 28a and 28b, they enter the electric field intensification area 52, a refractive index changes, and the sample component is detected by change of intensity of zero-order diffracted light 50b.
電極２８ａ，２８ｂに電圧を印加すると、電極２８ａと２８ｂの間に働く電気力線５４に沿って誘電泳動により試料成分５８が電極に引き寄せられて電場増強領域５２に入ってきて屈折率が変化し、０次回折光５０ｂの強度が変化することによって試料成分が検出される。 - 特許庁 - This composite material consisting of the resin and the inorganic filler is characterized in that, when the resin is dissolved with a solvent capable of dissolving the resin, and the solution is measured with a laser diffraction scattering type particle size distribution meter, an average diameter, a mode diameter, a median diameter, a maximum diameter, a maximum diffracted intensity and 98 % particle diameters satisfy specific conditions.
樹脂と無機物充填材からなる複合材料であって、該樹脂が溶解可能な溶媒に、該複合材料を溶解し、該溶液をレーザ回折散乱式粒度分布計により測定したときに、平均径、モード径、メディアン径、最大径、最大回折強度および９８％粒子径が特定の条件を満たすことを特徴とする複合材料。 - 特許庁 - The light beam Lp being linearly polarized light made incident on a light intensity modulator 16 is transmitted through a polarizing beam splitter 30 and diffracted at a specified diffraction angle by an AOM 36, reflected by a reflector 40 after it is changed to the light beam Lc being circularly polarized light by a 1/4 wavelength plate 38, and transmitted through the plate 38 again.
光強度変調装置１６に入射された直線偏光の光ビームＬｐは、偏光ビームスプリッタ３０を透過してＡＯＭ３６で所定の回折角度をもって回折され、１／４波長版３８で円偏光の光ビームＬｃに変換された後に反射板４０で反射され、再度１／４波長版３８を透過する。 - 特許庁
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